JP2720475B2 - 品質管理システム - Google Patents
品質管理システムInfo
- Publication number
- JP2720475B2 JP2720475B2 JP63251309A JP25130988A JP2720475B2 JP 2720475 B2 JP2720475 B2 JP 2720475B2 JP 63251309 A JP63251309 A JP 63251309A JP 25130988 A JP25130988 A JP 25130988A JP 2720475 B2 JP2720475 B2 JP 2720475B2
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- JP
- Japan
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- management
- inspection
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- limit
- defect
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/02—Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は品質管理システム、特に検査工程での不良項
目が数多く、かつ管理精度の重み付けの変更を日常的に
行う必要のある生産ラインの品質管理システムに関す
る。このような生産ラインとして、たとえば半導体の拡
散ラインなどに適応し得る品質管理システムである。
目が数多く、かつ管理精度の重み付けの変更を日常的に
行う必要のある生産ラインの品質管理システムに関す
る。このような生産ラインとして、たとえば半導体の拡
散ラインなどに適応し得る品質管理システムである。
従来の品質管理システムでは、検査工程の結果から不
良率推移及び不良項目のパレート図を出力し、製造現場
・生産技術・製造技術・信頼性品質管理部門などの専門
家である人間が各々の立場からこの情報を利用し問題発
見・解決に役立てている。この場合、管理限界値を越え
たことでのみ異常の検出がなされており、不良率が長期
にわたり上昇傾向にあるといった定量的な把握はなされ
ていなかった。実際、多品種少量生産を迫られる近年の
製造工場においては機種毎の不良率の産出，検査工程毎
・検査項目毎の測定値の蓄積管理及び管理限界値を越え
たか否かの管理はEDP化されているものの、さらにそれ
らの傾向までも把握する作業は人手にまかされており、
事実上は不可能であった。このため悪化傾向にあるとい
う段階で早期に対処していれば防ぐことのできる失敗も
管理限界値を越えてはじめて認識されることになり、品
質コストの低減を阻んでいる。
良率推移及び不良項目のパレート図を出力し、製造現場
・生産技術・製造技術・信頼性品質管理部門などの専門
家である人間が各々の立場からこの情報を利用し問題発
見・解決に役立てている。この場合、管理限界値を越え
たことでのみ異常の検出がなされており、不良率が長期
にわたり上昇傾向にあるといった定量的な把握はなされ
ていなかった。実際、多品種少量生産を迫られる近年の
製造工場においては機種毎の不良率の産出，検査工程毎
・検査項目毎の測定値の蓄積管理及び管理限界値を越え
たか否かの管理はEDP化されているものの、さらにそれ
らの傾向までも把握する作業は人手にまかされており、
事実上は不可能であった。このため悪化傾向にあるとい
う段階で早期に対処していれば防ぐことのできる失敗も
管理限界値を越えてはじめて認識されることになり、品
質コストの低減を阻んでいる。
上述した従来の品質管理システムは管理限界値管理で
あり、悪化傾向を定量的に把握する作業は人手によって
行っている。したがって悪化傾向の早期発見及び迅速な
対応がとり難いという欠点があった。
あり、悪化傾向を定量的に把握する作業は人手によって
行っている。したがって悪化傾向の早期発見及び迅速な
対応がとり難いという欠点があった。
本発明の品質管理システムは、検査工程の良不良判定
及び検査項目毎の測定値を含む検査結果を収集し蓄積す
る手段と不良率及び検査項目毎の測定値の管理限界を管
理限界値と連続上昇回数および連続低下回数と上昇率お
よび低下率によって定めた不良管理テーブルとを有し、
検査結果の収集の度毎に周期的に不良率を計算し、不良
率が前記不良管理テーブルに定めた管理限界を越えてい
るかあるいは角検査項目の測定値のいずれかが管理限界
を越えている場合には過去の一定期間にわたっての不良
率と管理限界を越えた検査項目の測定値の時間推移を表
すグラフを出力するようにして構成される。
及び検査項目毎の測定値を含む検査結果を収集し蓄積す
る手段と不良率及び検査項目毎の測定値の管理限界を管
理限界値と連続上昇回数および連続低下回数と上昇率お
よび低下率によって定めた不良管理テーブルとを有し、
検査結果の収集の度毎に周期的に不良率を計算し、不良
率が前記不良管理テーブルに定めた管理限界を越えてい
るかあるいは角検査項目の測定値のいずれかが管理限界
を越えている場合には過去の一定期間にわたっての不良
率と管理限界を越えた検査項目の測定値の時間推移を表
すグラフを出力するようにして構成される。
次に、本発明について図面を参照して詳細に説明す
る。
る。
第１図は本発明の一実施例を示すシステム構成図であ
る。同図において品質管理システムは製造情報システム
11の一機能として実現される。生産ライン16〜19におい
て検査結果はリアルタイムで工程管理システム12によっ
て収集され、生産情報データベース13へ蓄積されてい
る。検査工程からの検査結果情報が工程管理システムへ
報告されると品質管理サービス処理14において不良管理
処理が起動され、解析グラフ15が出力される。
る。同図において品質管理システムは製造情報システム
11の一機能として実現される。生産ライン16〜19におい
て検査結果はリアルタイムで工程管理システム12によっ
て収集され、生産情報データベース13へ蓄積されてい
る。検査工程からの検査結果情報が工程管理システムへ
報告されると品質管理サービス処理14において不良管理
処理が起動され、解析グラフ15が出力される。
次に、第２図及び第３図を用いて不良管理処理を詳細
に説明する。
に説明する。
第２図は検査工程ａからの機種Ｘの検査結果報告201
が報告された際の不良管理処理のプロセスフローであ
る。検査工程ａからの機種Ｘの検査結果報告201が報告
されると、処理202において不良管理テーブル211を検査
工程ａと機種Ｘとによって検索し、不良管理情報を得
る。
が報告された際の不良管理処理のプロセスフローであ
る。検査工程ａからの機種Ｘの検査結果報告201が報告
されると、処理202において不良管理テーブル211を検査
工程ａと機種Ｘとによって検索し、不良管理情報を得
る。
ここで第３図を用いて不良管理情報を説明する。第３
図は不良管理テーブル211内に格納されている不良管理
情報の説明図である。例として検査工程a,機種Ｘの不良
管理情報を記述している。不良管理情報は検査工程IDブ
ロック31と検査項目記述ブロック32とから構成される。
検査工程IDブロック31は検索キー項目である検出工程31
1、機種312、不良率上限値313、不良率の連続上昇回数3
14、及び不良率の上昇率315から構成される。検査項目
記述ブロック32は検査項目321、管理限界値322、連続回
数323、及び変化率324とから構成され、検査項目として
からの情報を含んでいる。不良管理テーブル211を
検査工程と機種をキーとして検索することにより、該当
する検査工程、機種の不良管理情報を得ることができ
る。
図は不良管理テーブル211内に格納されている不良管理
情報の説明図である。例として検査工程a,機種Ｘの不良
管理情報を記述している。不良管理情報は検査工程IDブ
ロック31と検査項目記述ブロック32とから構成される。
検査工程IDブロック31は検索キー項目である検出工程31
1、機種312、不良率上限値313、不良率の連続上昇回数3
14、及び不良率の上昇率315から構成される。検査項目
記述ブロック32は検査項目321、管理限界値322、連続回
数323、及び変化率324とから構成され、検査項目として
からの情報を含んでいる。不良管理テーブル211を
検査工程と機種をキーとして検索することにより、該当
する検査工程、機種の不良管理情報を得ることができ
る。
再び第２図において判定203は、不良管理テーブルに
不良率の管理限界が設定されているか否かの判定を行
い、不良率の管理限界の設定がなければ制御を判定207
へ移す。不良率の管理限界の設定があれば処理204にお
いて不良率を計算し、判定205において不良率が第３図
の不良率上限値313を越えているか，検査工程毎機種毎
の不良率履歴212を参照し不良率の連続上昇回数が第３
図の連続上昇回数314を越えているか，不良率履歴212を
参照し不良率の上昇率が第３図の上昇率315を越えてい
るか，の３点について論理和で判定し、越えていれば管
理限界を越えたとして過去の一定期間にわたっての不良
率の時間推移を表す不良率グラフ206を出力する。
不良率の管理限界が設定されているか否かの判定を行
い、不良率の管理限界の設定がなければ制御を判定207
へ移す。不良率の管理限界の設定があれば処理204にお
いて不良率を計算し、判定205において不良率が第３図
の不良率上限値313を越えているか，検査工程毎機種毎
の不良率履歴212を参照し不良率の連続上昇回数が第３
図の連続上昇回数314を越えているか，不良率履歴212を
参照し不良率の上昇率が第３図の上昇率315を越えてい
るか，の３点について論理和で判定し、越えていれば管
理限界を越えたとして過去の一定期間にわたっての不良
率の時間推移を表す不良率グラフ206を出力する。
次に、判定207において管理限界管理を行うべき検査
項目があるかどうかを第３図の検査項目記述ブロック32
の検査項目を調べることにより判定する。管理すべき検
査項目がなければ不良管理処理を終了する。
項目があるかどうかを第３図の検査項目記述ブロック32
の検査項目を調べることにより判定する。管理すべき検
査項目がなければ不良管理処理を終了する。
管理すべき検査項目があれば、判定208において検査
項目の測定値に対して管理限界が設定されているかどう
かの判定を行う。検査項目の測定値に対して管理限界が
設定されていなければ制御を判定207へ移す。検査項目
の測定値に対して管理限界が設定されていれば、判定20
9において第３図の管理限界値322の範囲にないか，検査
工程毎機種毎検査項目毎の測定値履歴213を参照し連続
上昇または低下回数が第３図の連続回数323を越えてい
るか，検査工程毎機種毎検査項目毎の測定値履歴213を
参照し上昇率または低下率が第３図の変化率324の範囲
にないか，の３点について論理和で判定し、越えていれ
ば管理限界を越えたとして過去の一定期間にわたっての
検査工程毎機種毎検査項目毎の測定値の時間推移を表す
検査項目グラフ210を出力する。
項目の測定値に対して管理限界が設定されているかどう
かの判定を行う。検査項目の測定値に対して管理限界が
設定されていなければ制御を判定207へ移す。検査項目
の測定値に対して管理限界が設定されていれば、判定20
9において第３図の管理限界値322の範囲にないか，検査
工程毎機種毎検査項目毎の測定値履歴213を参照し連続
上昇または低下回数が第３図の連続回数323を越えてい
るか，検査工程毎機種毎検査項目毎の測定値履歴213を
参照し上昇率または低下率が第３図の変化率324の範囲
にないか，の３点について論理和で判定し、越えていれ
ば管理限界を越えたとして過去の一定期間にわたっての
検査工程毎機種毎検査項目毎の測定値の時間推移を表す
検査項目グラフ210を出力する。
本発明の品質管理システムによれば、自動的に悪化傾
向の定量的把握までも含めた管理がなされるので、不良
率悪化，検査測定値の悪化傾向の検出からグラフ出力ま
で早期に迅速に実行できるという効果がある。
向の定量的把握までも含めた管理がなされるので、不良
率悪化，検査測定値の悪化傾向の検出からグラフ出力ま
で早期に迅速に実行できるという効果がある。
第１図は本発明の一実施例を表すシステム構成図、第２
図は不良管理処理のプロセスフロー、第３図は不良管理
情報の説明図である。 11……製造情報システム、12……工程管理システム、13
……生産情報データベース、14……品質管理サービス処
理、15……解析グラフ、211……不良管理テーブル、212
……不良率履歴、213……測定値履歴。
図は不良管理処理のプロセスフロー、第３図は不良管理
情報の説明図である。 11……製造情報システム、12……工程管理システム、13
……生産情報データベース、14……品質管理サービス処
理、15……解析グラフ、211……不良管理テーブル、212
……不良率履歴、213……測定値履歴。
Claims (1)
- 【請求項１】検査工程の良不良判定及び検査項目毎の測
定値を含む検査結果を収集し蓄積する手段と不良率及び
検査項目毎の測定値の管理限界を管理限界値と連続上昇
回数および連続低下回数と上昇率および低下率によって
定めた不良管理テーブルとを有し、検査結果の収集の度
毎に周期的に不良率を計算し、不良率が前記不良管理テ
ーブルに定めた管理限界を越えているかあるいは各検査
項目の測定値のいずれかが管理限界を越えている場合に
は過去の一定期間にわたっての不良率と管理限界を越え
た検査項目の測定値の時間推移を表すグラフを出力する
ことを特徴とする品質管理システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63251309A JP2720475B2 (ja) | 1988-10-04 | 1988-10-04 | 品質管理システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63251309A JP2720475B2 (ja) | 1988-10-04 | 1988-10-04 | 品質管理システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0298632A JPH0298632A (ja) | 1990-04-11 |
| JP2720475B2 true JP2720475B2 (ja) | 1998-03-04 |
Family
ID=17220891
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63251309A Expired - Lifetime JP2720475B2 (ja) | 1988-10-04 | 1988-10-04 | 品質管理システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2720475B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3366919B2 (ja) * | 1997-06-27 | 2003-01-14 | エヌイーシー化合物デバイス株式会社 | 半導体装置 |
-
1988
- 1988-10-04 JP JP63251309A patent/JP2720475B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0298632A (ja) | 1990-04-11 |
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