JP2716679B2 - エラストマーに架橋可能なオルガノポリシロキサン材料、有機珪素化合物、およびその製造方法 - Google Patents

エラストマーに架橋可能なオルガノポリシロキサン材料、有機珪素化合物、およびその製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、水の排除下で保存可能
であるが、水の加入時にすでに室温でエラストマーに架
橋可能なオルガノポリシロキサン材料およびその際使用
される架橋剤に関する。
【0002】
【従来の技術】本発明の範囲内で“オルガノポリシロキ
サン”の概念には、ポリマーの、オリゴマーのおよび二
量体のオルガノシロキサンが含まれるべきである。
【0003】アルコールを分離してエラストマーに架橋
可能なオルガノポリシロキサン材料およびその製造方法
は多くのものが公知である。これに関して、たとえば米
国特許第3334067号明細書(Dow Corni
g Corp.1967年8月1日)を参照することが
でき、これにはヒドロキシル基を有するオルガノポリシ
ロキサンをオルガニル(トリオルガニルオキシ)シラン
およびチタン化合物と混合することにより室温で架橋可
能なオルガノポリシロキサン材料を製造する方法が記載
されている。しかしながらこれらの材料は一般にきわめ
て低い架橋速度を有し、従って、促進するために縮合触
媒として金属化合物を添加しなければならない。特に毒
物学的に憂慮すべき金属化合物を回避するために、国際
特許WO92/21724号明細書(Wacker−C
hemie社,1992年12月10日)には、架橋剤
としてSi結合した水素およびオルガニルオキシ基を有
する有機珪素化合物を有し、すでに温和な縮合触媒、た
とえばカルボン酸の存在下で架橋する材料が記載されて
いる。しかしながら、このH−オルガニルオキシ架橋剤
の欠点は、長期間の保存の際にSi−H結合の不安定性
により生じる水素の発生である。材料を保存する際の水
素の発生は容器内の圧力の上昇を引き起こすことがあ
り、これはたとえば容器を開放する際の好ましくない材
料の流出を結果として生じることがある。更に水素の発
生は材料中のガスの封入を引き起こすことがあり、これ
は不均一性により加工の困難さを生じる。
【0004】更にドイツ特許出願公開第4117471
号明細書(信越化学K.K.1990年5月29日)ま
たは相当する米国特許第5166293号明細書には、
一般式: H−Si(OR)2O[SiH(OR)O]nSi(O
R)3 [式中、Rは同一の、置換されていてもよい炭化水素基
を表し、nは0または整数である]で示される化合物が
記載されており、これはH−トリアルコキシシランおよ
びアルコールからなる混合物を水で処理することにより
得られ、プライマー前駆物質、シラン定着剤のための中
間生成物および架橋可能なシリコーンゴムのための定着
剤として使用される。
【0005】
【発明の構成】本発明の対象は、(A)α,ω−ジヒド
ロキシオルガノポリシロキサン、(B)一般式(I):
【0006】
【化4】
【0007】[式中、Rは同じかまたは異なっていても
よく、かつ一価の、非置換または置換された炭化水素基
または有機珪素基を表し、Rは同じかまたは異なって
いてもよく、かつ二価の、非置換または置換された有機
基を表し、a、b、c、d、e、f、gおよびhはそれ
ぞれ互いに無関係に0または0より大きい数を表し、た
だしSi結合した水素含量はそれぞれ式(I)の有機珪
素化合物の全重量に対して0.1〜0.9重量%、有利
には0.2〜0.8重量%、特に有利には0.3〜0.
6重量%であり、かつ式(I)の有機珪素化合物中の基
Rの数の少なくとも20%は一価の、非置換または置換
された炭化水素基を表す]で示される有機珪素化合物を
使用して製造される、水の排除下で保存可能であるが、
水の加入時にすでに室温でエラストマーに架橋可能なオ
ルガノポリシロキサン材料である。本発明は更に、 (A)α,ω−ジヒドロキシオルガノポリシロキサン、 (B)一般式(I): [式中、Rは同じかまたは異なっていてもよく、かつ一
価の、非置換または置換された炭化水素基または有機珪
素基を表し、Rは同じかまたは異なっていてもよく、
かつ二価の、非置換または置換された有機基を表し、
a、b、c、d、e、f、gおよびhはそれぞれ互いに
無関係に0または0より大きい数を表し、ただしSi結
合した水素含量はそれぞれ式(I)の有機珪素化合物の
全重量に対して0.1〜0.9重量%、有利には0.2
〜0.8重量%、特に有利には0.3〜0.6重量%で
あり、かつ式(I)の有機珪素化合物中の基Rの数の少
なくとも20%は一価の、非置換または置換された炭化
水素基を表す]で示される有機珪素化合物、および (C)添加剤 50重量%まで、 (D)充填剤 70重量%まで、 (E)軟化剤 70重量%まで、 (F)定着剤 20重量%まで、 (G)スカベンジャー 20重量%まで、および (H)縮合触媒 10重量%まで から選択される1種以上の成分を使用して製造される、
水の排除下で保存可能であるが、水の加入時にすでに室
温でエラストマーに架橋可能なオルガノポリシロキサン
材料である。
【0008】本発明によるオルガノポリシロキサン材料
においては、成分(A)は有利には一般式(II)
【0009】
【化5】
【0010】[式中、R2は同じかまたは異なる一価の
SiC結合した有機基を表し、かつnは20以上、有利
には100〜2000、より有利には500〜150
0、特に600〜1400の数を表す]で示されるα,
ω−ジヒドロキシジオルガノポリシロキサンである。
【0011】式(II)により示されていないにもかか
わらず、ジオルガノシロキサン単位の10モル%までが
ほかのシロキサン単位、たとえばR2SiO3/2単位およ
び/またはSiO4/2単位(R2は前記のものを表す)に
より置換されていてもよい。更に式(II)のオルガノ
ポリシロキサンは、同様に式(II)に示されていない
にもかかわらず製造に起因して、10モル%までのほか
の官能基、たとえばHR2SiO基およびHSiO3/2
を含有することができる。
【0012】基R2は有利には1〜18個の炭素原子を
有する置換されていてもよい炭化水素基である。
【0013】基R2の例は、アルキル基、たとえばメチ
ル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n
−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチ
ル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、t−ペンチル
基、ヘキシル基、たとえばn−ヘキシル基、ヘプチル
基、たとえばn−ヘプチル基、オクチル基、たとえばn
−オクチル基およびイソオクチル基、たとえば2,2,
4−トリメチルペンチル基、ノニル基、たとえばn−ノ
ニル基、デシル基、たとえばn−デシル基、ドデシル
基、たとえばn−ドデシル基、オクタデシル基、たとえ
ばn−オクタデシル基、アルケニル基、たとえばビニル
基およびアリル基、シクロアルキル基、たとえばシクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基およ
びメチルシクロヘキシル基、アリール基、たとえばフェ
ニル基、ナフチル基およびアントリル基およびフェナン
トリル基、アルカリール基、たとえばo−,m−,p−
トリル基、キシリル基およびエチルフェニル基およびア
ラルキル基、たとえばベンジル基、α−およびβ−フェ
ニルエチル基である。
【0014】基R2のほかの例は、線状または分枝鎖状
または環状の、アクリルオキシ基、メタクリルオキシ
基、エポキシ基、アリル基、シクロヘキセニル基、シア
ノ基および/またはハロゲン原子で置換された炭化水素
基である。
【0015】置換された基R2の例は、シアノアルキル
基、たとえばβ−シアノエチル基およびハロゲン化した
炭化水素基、たとえばハロゲンアルキル基、たとえば
3,3,3−トリフルオロ−n−プロピル基、2,2,
2,2′,2′,2′−ヘキサフルオロイソプロピル
基、ヘプタフルオロイソプロピル基およびハロゲンアリ
ール基、たとえばo−,m−およびp−クロロフェニル
基である。
【0016】基R2としてメチル基、エチル基およびn
−プロピル基がより有利であり、特にメチル基が有利で
ある。
【0017】すでに容易な入手可能性のために、有利に
は式(II)の基R2の数の少なくとも90%がメチル
基である。
【0018】本発明により使用されるα,ω−ジヒドロ
キシジオルガノポリシロキサンは同じかまたは異なるホ
モポリマーまたは混合ポリマーであってもよく、その際
個々の分子は同じかまたは異なる鎖長を有することがで
きる。
【0019】本発明により使用されるα,ω−ジヒドロ
キシオルガノポリシロキサンは25℃で有利には100
0〜400000mm2/s、特に有利には20000
〜350000mm2/sの粘度を有する。
【0020】本発明により使用される式(II)のα,
ω−ジヒドロキシオルガノポリシロキサンの例は、α,
ω−ジヒドロキシジメチルポリシロキサン、α,ω−ジ
ヒドロキシジメチル/メチルビニルコポリシロキサン、
α,ω−ジヒドロキシジメチル/メチルフェニルコポリ
シロキサンおよびα,ω−ジヒドロキシジメチル/メチ
ル−3,3,3−トリフルオロ−n−プロピルコポリシ
ロキサンである。
【0021】本発明による材料に使用されるα,ω−ジ
ヒドロキシオルガノポリシロキサンは市販の製品である
かまたは珪素化学で周知の方法により製造可能である。
【0022】基Rは有利には1〜10個の炭素原子を有
する炭化水素基であり、該基は1〜3個の炭素原子を有
するアルコキシ基およびほかの非アルカリ性の有機基に
より置換されていてもよい。
【0023】基Rの例は、基R2に関して記載された1
〜10個の炭素原子を有する炭化水素基の例、−CH2
CH2OCH3,−CH2CH2−OOCCH3,−CH2
OOC49,−CH2−C(O)CH3および一般式:−
(SiR2 2O)rSiR2 3(R2は前記のものを表し、r
は0〜100である)の基、たとえばMe3Si基、P
3Si基およびCH2=CH(SiMe2O)3SiMe
2基であり、Meはメチル基を表し、Phはフェニル基
を表す。
【0024】基Rはより有利にはそれぞれ互いに無関係
にメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル
基およびCH3OCH2CH2基であり、特にエチル基で
ある。
【0025】基R1は、有利には式:−(Cq2q-oR′
o)−で示される二価の線状の基(R′は非アルカリ性
の有機基、たとえば置換されていてもよいアルキル基ま
たはアリール基、HO−基、R″O−基、R″−COO
−基およびR″−CO−基であり、R″は有機基を表
し、qは2〜20の数を表し、oは0または1〜10の
数を表す)、式:−(Cj2j-2-lR′l)−で示される
二価の環状の基(R′は前記のものを表し、jは3〜8
の数を表し、lは0または1〜8の数を表す)および二
価の芳香族の、場合によりR′で置換された6〜20個
の炭素原子を有する基である。
【0026】基R1の例は、メチレン基、エチレン基、
n−プロピレン基、イソプロピレン基、1−n−ブチレ
ン基、2−n−ブチレン基、イソブチレン基、t−ブチ
レン基、n−ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペ
ンチレン基、t−ペンチレン基、ヘキシレン基、たとえ
ばn−ヘキシレン基、ヘプチレン基、たとえばn−ヘプ
チレン基、オクチレン基、たとえばn−オクチレン基お
よびイソオクチレン基、たとえば2,2,4−トリメチ
ルペンチレン基、ノニレン基、たとえばn−ノニレン基
およびデシレン基、たとえばn−デシレン基、およびシ
クロアルキレン基、たとえばシクロペンチレン基、シク
ロヘキシレン基、シクロヘプチレン基およびメチルシク
ロヘキシレン基、シアノアルキレン基、たとえばβ−シ
アノエチレン基、およびハロゲン化した炭化水素基、た
とえばハロゲンアルキレン基、たとえば3,3,3−ト
リフルオロ−n−プロピレン基、2,2,2,2′,
2′,2′−ヘキサフルオロイソプロピレン基およびハ
ロゲンアリーレン基、たとえばo−,m−およびp−ク
ロロフェニレン基、および場合により置換されたm−ま
たはp−プロピルオキシフェニレン基、1,4−フェニ
レン基、1,3−フェニレン基、4,4′−ビフェニレ
ン基、3.3′−ビフェニレン基、3,4′−ビフェニ
レン基、1,4−ナフタリンジイル基、1,5−ナフタ
リンジイル基、1,4−アントラキノンジイル基、1,
5−アントラキノンジイル基、2,6−アントラキノン
ジイル基、ジフェニルメタン−4,4′−ジイル基、
2,2−ビスフェニルプロパン−4,4′−ジイル基、
2,2−ビスフェニルペルフルオロプロパン−4,4′
−ジイル基、3,3−ビスフェニルフタリド−4,4′
−ジイル基およびビスフェニルスルホン−4,4′−ジ
イル基、2−メチル−1,4−フェニレン基、2−クロ
ロ−1,4−フェニレン基、2−フェニル−1,4−フ
ェニレン基、2−シアノ−1,4−フェニレン基、2,
2′−ジメチル−4,4′−ビフェニレン基および3,
3′−ジメチル−4,4′−ビフェニレン基である。
【0027】有利には基R1は、二価の線状の基:−
(CH22−〜−(CH28−、特に−(CH26−で
ある。
【0028】本発明のもう1つの対象は、一般式(I)
【0029】
【化6】
【0030】[式中、Rは同じかまたは異なっていても
よく、かつ一価の置換されていてもよい炭化水素基また
は有機珪素基を表し、R1、a、b、c、d、e、f、
gおよびhは前記のものを表し、ただしSi結合した水
素含量はそれぞれ式(I)の有機珪素化合物の全重量に
対して0.1〜0.9重量%、有利には0.2〜0.8
重量%、特に有利には0.3〜0.6重量%であり、か
つ式(I)の有機珪素化合物中の基Rの数の少なくとも
20%は一価の置換されていてもよい炭化水素基を表
す]で示される有機珪素化合物である。
【0031】式(I)の有機珪素化合物において、有利
にはすべての基Rが一価の置換されていてもよい炭化水
素基を表す。
【0032】本発明による成分(B)は、有利にはアル
コール(1)を式III: HSi(OR)3 (III) [式中、Rは同じかまたは異なっていてもよく、かつ一
価の置換されていてもよい炭化水素基を表す]のオルガ
ニルオキシシランおよび場合によりアルカンジオールか
らなる部分加水分解物(2)と反応させることにより製
造する。
【0033】本発明による反応に使用される部分加水分
解物(2)は、有利には冒頭に記載の国際特許WO92
/21724号明細書に記載の方法により式(III)
のシランを場合により一般式:HO−R1−OH(R1
前記のものを表す)のアルカンジオールと共に酸性触媒
の存在下で加水分解し、形成されるアルコールを除去す
ることにより製造する。特に有利には式(III)の化
合物の部分加水分解物または部分縮合物は、場合により
ブレンステッド酸の存在下で、場合によりHO−R1
OH(R1は前記のものを表す)との混合物の形の式
(III)の化合物に水を緩慢に添加することにより製
造する。
【0034】この部分加水分解物(2)の製造は有利に
は900〜1100hPaの圧力でおよび23〜220
℃の温度で、特に有利には40〜180℃で実施する。
これより高いかまたは低い圧力で実施することもでき
る。
【0035】こうして得られた部分加水分解物(2)は
有利には式(I′):
【0036】
【化7】
【0037】[式中、Rは同じかまたは異なっていても
よく、かつ一価の置換されていてもよい炭化水素基を表
し、かつR1,a′,b′,c′,d′,e′,f′,
g′およびh′はそれぞれ互いに無関係に0または0よ
り大きい数を表し、ただしSi結合した水素含量は本発
明による材料の成分(B)におけるよりも高い]で示さ
れるシロキサン樹脂である。
【0038】Si結合した水素含量は式(I′)の部分
加水分解物(2)の全重量に対して有利には0.8〜
1.2重量%である。
【0039】本発明により使用される式(I′)の部分
加水分解物(2)においては、有利には(a′+b′+
c′)≧ [0.7(a′+b′+c′+d′+e′+
f′+g′+h′)]、特に有利には(a′+b′+
c′)≧ [0.8(a′+b′+c′+d′+e′+
f′+g′+h′)]である。
【0040】式(III)の使用されるシランおよびア
ルカンジオールはもちろんそれぞれ1種類のシランまた
はアルカンジオールおよび種々のシランまたはアルカン
ジオールの混合物であってもよい。
【0041】部分加水分解物(2)の例は、平均式
(I′)で示されるものであり、式中、 R=Et a′=32.9 b′=49.9 c′=1
2.5 d′=4.0 e′=0.7 f′=g′=h′=0 R=Et a′=45.0 b′=43.0 c′=1
2.0 d′=e′=f′=g′=h′=0 R=Et a′=33.2 b′=47.5 c′=1
2.5 d′=5.9 e′=0.9 f′=g′=h′=0 R=iPr a′=40.0 b′=45.0 c′=
15.0 d′=e′=f′=g′=h′=0または R=Me a′=29.4 b′=41.2 c′=1
3.8 d′=9.4 e′=5.8 f′=0.4 g′=h′=0 であり、Etはエチル基を表し、Meはメチル基を表
し、およびiPrはイソプロピル基を表す。
【0042】部分加水分解物においてアルカンジオール
を併用する場合は、式(I′)のhは0より大きい値を
有する。
【0043】Si結合した水素が富化したこの部分加水
分解物(2)と、アルコールROH(1)(Rは一価の
置換されていてもよい炭化水素基または有機珪素基を表
し、かつ部分加水分解物(2)に存在する基Rと同じか
または異なっていてもよい)との本発明による反応は、
有利にはSi結合した水素とヒドロキシル基との反応を
促進する触媒(3)の存在下で実施する。
【0044】これらの触媒(3)の例は、NaOH、K
OH、アルカリ金属アルコラート、たとえばリチウムメ
タノラート、カリウム−t−ブチラートおよびナトリウ
ムブチラート、アミン、たとえばピペリジンおよびテト
ラメチルエチレンジアミン、ヒドロキシルアミン、たと
えばジエチルヒドロキシルアミン、塩化水素、酸性イオ
ン交換体、Cu,Ni,Pd,BF3,ZnCl2,Mg
Cl2,LiF,CsF,KF,t−ブチル4NFおよび
Pd/Co錯体である。これに関してはたとえば、E.Lu
kevics,M.Dzintara,J.Organomet.Chem.295(1985)265〜3
15頁に記載されている。
【0045】本発明による反応においては触媒(3)と
して有利には塩基性化合物を使用する。このための例
は、塩基性金属塩、たとえば炭酸水素ナトリウム、炭酸
ナトリウム、酸化マグネシウム、アミン、グアニジン、
尿素、イミンおよびヒドロキシルアミンである。特に有
利には触媒(3)として第三アミン、特にトリエチルア
ミンを使用する。
【0046】アルコール(1)の例は、メタノール、エ
タノール、イソプロパノール、n−プロパノール、n−
ブタノール、トリメチルシラノールおよびトリフェニル
シラノールである。
【0047】本発明により使用されるアルコールROH
(1)の基Rは、有利には本発明により使用される式
(I′)の部分加水分解物(2)の基Rと同じものを表
す。化合物ROH(1)においてRが有機珪素基を表す
場合は、便宜上本発明の範囲で同様にアルコールを表す
べきである。
【0048】本発明による反応においては、有利には部
分加水分解物(2)を触媒(3)と一緒に装入し、かつ
アルコール(1)を場合により水との混合物で供給す
る。
【0049】本発明による方法は、有利には0〜120
℃の温度で、特に有利には15〜100℃の温度でおよ
び900〜1100hPaの圧力で実施する。
【0050】本発明による方法においては、付加的に非
プロトン性の溶剤を、この溶剤が所望の反応を妨害しな
い限りで使用することができる。
【0051】場合により使用される溶剤の例は、脂肪族
炭化水素、たとえば石油精製からのフラクション、ペン
タン、ヘキサン、ヘプタンおよびオクタン、芳香族炭化
水素、たとえばベンゼン、トルエン、o−キシレン、m
−キシレンおよびp−キシレン、(一部)ハロゲン化さ
れた炭化水素基、たとえばCCl4、クロロホルムおよ
びペルクロロエチレン、エーテル、たとえばジエチルエ
ーテル、ジブチルエーテル、メチル−t−ブチルエーテ
ル、1,2−ジメトキシエタン、ジメチル化したポリエ
チレングリコール、テトラヒドロフランおよびジオキサ
ン、カルボン酸エステル、たとえば酢酸メチルエステ
ル、酢酸エチルエステル、酢酸ブチルエステルおよび蟻
酸エチルエステル、ケトン、たとえばアセトン、メチル
エチルケトン、メチル−t−ブチルケトンおよびメチル
−s−ブチルケトン、および前記溶剤の混合物である。
溶剤という名称は、すべての反応相手が溶剤に溶けなけ
ればならないことを表現しているのではない。
【0052】本発明による方法においては、アルコール
(1)と部分加水分解物(2)の比を、0.1〜0.9
重量%の所望のSi結合した水素含量を有する式(I)
の有機珪素化合物が生じるように選択する。0.9重量
%より大きいSi結合した水素含量においては、架橋可
能な混合物を長期間保存する際に空気を排除して好まし
くない水素の発生を考慮しなければならない。0.1重
量%未満のSi結合した水素含量は、特に被膜形成時間
が弱いブレンステッド酸の存在下で長すぎることを表
す。
【0053】平均式(I)の本発明による有機珪素化合
物の例は以下の通りである。
【0054】R=Et a=7.3 b=6.4 c=
1.3 d=31.6 e=40.7 f=12.7 g=h=0(H0.1%/EtO73.
6%)、R=Et a=19.0 b=24.0 c=
7.0 d=12.0 e=25.0 f=13.0
g=h=0(H0.43%/EtO62.4%)、R=
Et a=15.4 b=24.2 c=11.4 d
=5.5 e=20.5 f=18.7 g=4.3
h=0(H0.49%/EtO56.2%) R=Et a=21.6 b=29.3 c=10.4
d=6.1 e=19.1 f=11.9 g=1.
6 h=0(H0.57%/EtO50.4%) R=Et a=25.8 b=30.6 c=10.0
d=9.0 e=15.8 f=8.7 g=h=0
(H0.6%/EtO60.8%)、R=Et a=2
0.3 b=13.9 c=4.3 d=18.8 e
=30.6 f=12.0 g=h=0(H0.3%/
EtO66.1%)、R=Et a=33.5 b=2
8.8 c=8.6 d=10.9 e=14.1 f
=4.6 g=0.2 h=0(H0.61%/EtO
63.1%) R=iPr a=34.9 b=37.3 c=7.8
d=3.2 e=7.0 f=9.8 g=h=0
(H0.63%/iPrO65.8%)、R=Et38
%/iPr62% H−SiO3/2:SiO2=1:0.
833(H0.45%/EtO19.9%/iPrO4
3.2%)およびR=Et a=33.3 d=33.
3 h=33.3 b=c=e=f=g=0 R1=−(CH26−(EtO56.5%/H0.25
%)、上記式中の%表示は重量%であり、Etはエチル
基を表し、iPrはイソプロピル基を表す。
【0055】本発明により使用される成分(B)は、個
々の種類のおよび2種以上の異なる種類の式(I)の有
機珪素化合物からなる混合物であってもよい。
【0056】有利には本発明による、アルコールを分離
してエラストマーに架橋可能なオルガノポリシロキサン
材料は、それぞれオルガノポリシロキサン材料の全重量
に対して以下の割合の成分から製造可能な材料である。
【0057】(A)α,ω−ジヒドロキシオルガノポリ
シロキサン20〜98重量%、有利には40〜80重量
%、特に有利には30〜70重量%、(B)式(I)の
有機珪素化合物1〜50重量%、有利には2〜30重量
%、特に有利には3〜20重量%、(C)添加剤0〜5
0重量%、有利には0.5〜10重量%、特に有利には
1〜7重量%、(D)充填剤0〜70重量%、有利には
1〜60重量%、特に有利には5〜50重量%、(E)
軟化剤0〜70重量%、有利には0〜60重量%、特に
有利には10〜50重量%、(F)定着剤0〜20重量
%、有利には0〜10重量%、特に有利には1〜8重量
%、(G)スカベンジャー0〜20重量%、有利には0
〜10重量%、特に有利には1〜8重量%および(H)
縮合触媒0〜10重量%、有利には0.01〜5重量
%、特に有利には0.1〜3重量%。
【0058】本発明によるオルガノポリシロキサン材料
に使用される充填剤(D)、軟化剤(E)、定着剤
(F)、スカベンジャー(G)、縮合触媒(H)および
添加剤(C)はそれぞれアルコールを分離してエラスト
マーに架橋可能なオルガノポリシロキサン材料に従来使
用することができたのと同じものであってもよく、その
際塩基作用する成分はあまり適していない、それという
のもオルガノポリシロキサン材料の保存安定性を低下さ
せるからである。
【0059】充填剤(D)の例は、たとえば非強化充填
剤、すなわち50m2/gまでのBET表面積を有する
充填剤、たとえば石英、珪藻土、珪酸カルシウム、珪酸
ジルコニウム、ゼオライト、金属酸化物粉末、たとえば
酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化鉄または酸化亜
鉛、またはこれらの酸化物混合物、硫酸バリウム、炭酸
カルシウム、石膏、窒化珪素、炭化珪素、窒化硼素、ガ
ラス粉末および合成樹脂粉末、たとえばポリアクリロニ
トリル粉末、強化充填剤、すなわち50m2/gより大
きいBET表面積を有する充填剤、たとえば熱分解によ
り製造した珪酸、沈降珪酸、カーボンブラック、たとえ
ばファーネスブラックおよびアセチレンブラックおよび
大きいBET表面積の珪素−アルミニウム酸化物混合
物、繊維状の充填剤、たとえばアスベストおよび合成樹
脂繊維である。前記充填剤は、たとえばオルガノシラン
またはオルガノシロキサンまたはステアリン酸で処理す
ることによりまたはヒドロキシル基をアルコキシ基にエ
ーテル化することにより疎水化されていてもよい。
【0060】軟化剤(E)の例は、室温で液体の、トリ
メチルシロキシ基により末端ブロック化されたジメチル
ポリシロキサンおよび一官能性の油状物、たとえば(C
33SiO(Si(CH32O)40H、またはモノヒ
ドロキシ官能性、ジヒドロキシ官能性および末端の単位
にトリオルガノシリル基を有するジオルガノポリシロキ
サンからなる統計学的混合物、ポリグリコールエーテ
ル、たとえばHO(CH2CH2O)xCH3およびCH3
O(CH2CH2O)xCH3、および高沸点の炭化水素、
たとえばパラフィン油である。
【0061】本発明によるオルガノポリシロキサン材料
に使用される定着剤(F)の例は、官能基を有するシラ
ンおよびオルガノポリシロキサン、たとえばアミノアル
キル基、グリシドオキシプロピル基またはメタクリルオ
キシプロピル基を有するもの、およびテトラアルコキシ
シラン、尿素誘導体、イソシアヌレートまたは付加的に
有機官能性の単位を有するかまたは有しないSiH官能
性のオルガノポリシロキサンである。
【0062】スカベンジャー(G)として、本発明によ
るオルガノポリシロキサン材料の保存安定性を低下する
分子、たとえば水、アルコールまたはシラノールを捕捉
することができるすべての化合物が適当である。
【0063】これらのスカベンジャー(G)の例は、式
(IV): R4 4-kSiZk (IV) [式中、R4は同じかまたは異なっていてもよく、かつ
2を表し、Zは容易に分離可能な基、たとえば
【0064】
【化8】
【0065】−NR″−CO−NR″2および−O
R″′を表し、この場合にR′、R″およびR″′はそ
れぞれ同じかまたは異なっていてもよく、かつ有機基を
表し、kは1,2,3または4である]のシラン、たと
えばトリアセトキシメチルシラン、ジ(N−メチルアセ
トアミド)ジメチルシランおよびジアセトキシジメチル
シランおよびカルボン酸無水物、カルボン酸エステル、
イソシアネートおよびモレキュラーシーブである。特に
分子の水素を捕捉するために、スカベンジャーとして米
国特許第4489191号明細書(General E
lectric社、1989年12月18日)に記載の
不飽和の有機化合物が適している。
【0066】縮合触媒(H)の例は(有機)金属化合
物、たとえばチタネート、有機錫化合物、亜鉛化合物お
よびコバルト化合物、酸性の金属原子を含まない触媒、
たとえばカルボン酸、および塩基性の金属原子を含まな
い触媒、たとえばアミンである。
【0067】これらの縮合触媒のなかで、酸性の金属原
子を含まない触媒、たとえばカルボン酸またはジカルボ
ン酸、トリカルボン酸およびテトラカルボン酸の部分エ
ステル、たとえばマロン酸モノ−(2−エチルヘキシ
ル)エステルが有利であり、この場合にカルボン酸、た
とえばヘキサン酸、2−エチルヘキサン酸、ラウリン
酸、マロン酸およびオレイン酸を使用するのが特に有利
である。
【0068】更に成分(H)として、水が浸入してはじ
めて酸性触媒として作用する化合物、たとえばカルボン
酸無水物およびアシルオキシシラン、たとえばアセトキ
シシランを使用することもできる。
【0069】添加剤(C)の例は、顔料、染料、香料、
防カビ剤、酸化防止剤、電気的特性を変化させる剤、た
とえば導電性カーボンブラック、防炎剤、光遮断剤およ
び被膜形成時間を延長する剤、たとえばSiC結合した
メルカプトアルキル基を有するシラン、細胞形成剤、た
とえばアゾジカルボンアミド、熱安定剤およびチキソト
ロピー剤である。
【0070】更に本発明によるオルガノポリシロキサン
材料になお成分(A)〜(H)とは別の成分を使用する
ことができる。これはアルコールを分離してエラストマ
ーに架橋可能なオルガノポリシロキサン材料に従来使用
することができたものと同じであってもよく、その際塩
基性に作用する成分はあまり適していない、それという
のもオルガノポリシロキサン材料の保存安定性を低下す
るからである。
【0071】これらの別の成分の例は、式(V): R5 mSi(OR64-m (V) [式中、R5はR2に記載されたものを表し、R6は一価
の、置換されていてもよい炭化水素基を表し、かつmは
0または1である]で示されるシランまたはこの部分加
水分解物または部分縮合物、たとえばヘキサメトキシジ
シロキサン、R5 3SiO1/2単位およびSiO4/2単位
(R5は前記のものを表す)からなるものを含めた樹脂
状のオルガノポリシロキサン、純粋の有機樹脂、たとえ
ばアクリロニトリル、スチレン、塩化ビニルまたはプロ
ピレンのホモポリマーまたは混合ポリマー、腐食防止
剤、エステル化および/またはエーテル化されていても
よいポリグリコール、溶剤および2種以上のこれらの成
分からなる混合物である。
【0072】本発明によるオルガノポリシロキサン材料
のほかの成分として、たとえば所定の温度に加熱するか
または電磁線を照射することにより本発明による混合物
のほかの架橋を可能にするラジカル架橋可能の化合物を
使用することができる。これにより多くの場合にたとえ
ば秒範囲のかなり短い被膜形成時間を実現することがで
きる。これらの化合物の例はWO93/00405号明
細書(Wacker−Chemie社、1993年1月
7日)に記載されており、たとえば例1b)によるシロ
キサンB1、ジオルガノシロキシ基としてジメチルシロ
キシ単位のほかに4つのビニルメチル単位および2つの
HS(CH23SiCH32/2単位を有する平均して1
90個のシロキサン単位を有するα,ω−ビス(アクリ
ルオキシ−n−プロピル)ジオルガノポリシロキサン、
例6a)によるシロキサンAB1、例2による混合物お
よびビニル単位およびチオール単位を有するα,ω−ジ
ヒドロキシジオルガノポリシロキサン、たとえば例6
a)によるシロキサンAB1の前駆物質が記載されてい
る。
【0073】更にこの特別の混合物にラジカル形成剤、
たとえばアゾ化合物、過酸化物または光開始剤、たとえ
ばアシロインおよびベンゾフェノンケタールをラジカル
架橋を促進するために添加することができる。本発明に
よるオルガノポリシロキサン材料中のこれらのラジカル
架橋可能の成分の割合は一般に50重量%以下、有利に
は20重量%以下、特に有利には10重量%以下であ
る。
【0074】本発明によるオルガノポリシロキサン材料
から得られる加硫物の水湿潤能力の向上を所望の場合
は、たとえばドイツ特許出願番号P4330735.3
号(Wacker−Chemie社、1993年9月1
0日出願)に記載されているように親水性のポリグリコ
ールエーテル変性ポリシロキサンの添加が有利である。
それにより、たとえば水性分散染料の塗布能力または基
体表面に接触した場合の潤滑特性を向上する表面効果が
達成される。本発明によるオルガノポリシロキサン材料
中のこの親水性変性剤の割合は一般に20重量%以下、
有利には10重量%以下、特に有利には5重量%以下で
ある。
【0075】本発明によるアルコールを分離して架橋可
能なオルガノポリシロキサン材料の個々の成分(C)、
(D)、(E)、(F)、(G)および(H)および場
合により使用されるほかの成分はそれぞれ1種類の前記
成分および2種類以上の前記成分からなる混合物であっ
てもよい。
【0076】特に有利には本発明によるオルガノポリシ
ロキサン材料は、それぞれオルガノポリシロキサン材料
の全重量に対して以下の割合の成分からなる材料であ
る。
【0077】(A)α,ω−ジヒドロキシオルガノポリ
シロキサン30〜70重量%、(B)式(I)の有機珪
素化合物3〜20重量%、(C)添加剤1〜7重量%、
(D)充填剤5〜50重量%、(E)軟化剤10〜50
重量%、(F)定着剤1〜8重量%および(H)縮合触
媒0.1〜3重量%。
【0078】本発明による材料を提供するために、それ
ぞれの材料のすべての成分を任意の順序で互いに混合す
ることができる。この混合は室温および周囲の大気圧
で、すなわち約900〜1100hPaで行うことがで
きる。所望の場合はこの混合を高めた温度で、たとえば
35℃〜135℃の範囲の温度で行うことができる。有
利にはこの混合の際に水の浸入をできるだけ排除する。
【0079】本発明による材料の架橋には空気の通常の
含水量で十分である。この架橋は、所望の場合は室温よ
り高いかまたは低い温度で、たとえば−5℃〜10℃ま
たは30℃〜50℃で実施することができる。
【0080】本発明によるアルコールを分離してエラス
トマーに架橋可能なオルガノポリシロキサン材料は、非
加硫材料および加硫物のそのほかの特性を一定にして架
橋速度をほぼ任意の範囲内で変動できるという利点を有
する。従って、たとえば本発明によるオルガノポリシロ
キサン材料の被膜形成時間を量および調剤成分に関して
同じ調剤組成で成分(B)のSi結合した水素の割合の
みを変動することにより5分〜500時間のそれぞれ任
意の時間に調整することができる。
【0081】更に本発明による材料はきわめて高い保存
安定性により優れている。従ってこの材料は12月より
長い時間にわたって保存した場合に、たとえば40〜7
0℃の高められた保存温度においても、それぞれの時間
に一定の特性、特に一定の架橋特性を示す。
【0082】更に本発明による材料は、12月を越えた
時間にわたって保存した場合に、たとえば40〜70℃
の高められた保存温度においても水素の発生を生じない
という利点を有する。
【0083】本発明によるまたは本発明により製造し
た、アルコールを分離してエラストマーに架橋可能なオ
ルガノポリシロキサン材料のもう1つの利点は、多くの
場合に毒物学的見地から憂慮すべき金属触媒を使用せず
に温和な縮合触媒のみを使用してきわめて迅速にエラス
トマーに硬化することである。
【0084】本発明による方法は、きわめて簡単な形式
および方法で低いSi結合した水素含量を有する有機珪
素化合物を製造できるという利点を有する。
【0085】本発明によるまたは本発明により製造した
材料はすべての使用目的に使用することができ、水の排
除下で保存可能であるが、水の加入時に室温でエラスト
マーに架橋するオルガノポリシロキサン材料に使用する
ことができる。
【0086】従って、本発明によるまたは本発明により
製造した材料は、たとえば垂直にのびる継ぎ目を含めた
継ぎ目およびたとえば10〜40mmの内のり幅の、た
とえば建築物、車両、船舶および航空機の類似の空隙の
パッキング材料として、またはたとえば窓部材のまたは
水槽またはガラスケースを製造する際の接着剤または接
合材料として、およびたとえば淡水または海水の恒常的
作用にさらされる表面の保護被膜を含めた保護被膜、ま
たは滑りを阻止する被膜またはゴム弾性の成形体の製造
に、および電気または電子装置の絶縁にきわめて適して
いる。
【0087】
【実施例】以下に記載の例においてはすべての粘度表示
は25℃の温度に関する。ほかにことわりのない限り以
下の例は、周囲の大気圧で、すなわち約1000hPa
で、および室温で、すなわち約23℃でまたは反応物を
いっしょに入れる際に付加的に加熱または冷却せずに室
温に維持できる温度で実施した。更にすべての部および
%はほかにことわりのない限り重量部および重量%であ
る。
【0088】以下の例において、ショアA硬度はDIN
(ドイツ工業規格)53505−87により、引張り強
さ、破断伸びおよびモジューラス(伸び100%におけ
る応力値)はそれぞれDIN53504−85S1によ
りおよび引裂き強さはASTM D624B−73によ
り決定した。
【0089】数平均値Mnおよび重量平均値Mwはゲル
浸透クロマトグラフィーにより決定した。
【0090】以下の略号を使用した。
【0091】Etはエチル基であり、iPrはイソプロ
ピル基である。
【0092】例1 A)SiH富化した部分加水分解物の製造 トリエトキシシラン822g(5モル)および酢酸0.
09mlからなる混合物に25℃で水67.6gを滴加
した。反応時間1時間後に80℃、5hPaで揮発性の
成分を留去し、かつ濾過助剤5g(商品名“Seitz-Supe
r”(Seitz Filterwerke,Bad kreuznach)で市販されて
いる)を介して残留物を濾過した。残留物として無色の
透明な油状物425.8gが得られ、これは 29Si−
および1H−NMRスペクトルにより以下の組成を有し
た。
【0093】 [HSi(OEt)21/2] 32.9モル% [HSi(OEt)O] 49.9モル% [HSiO3/2] 12.5モル% [Si(OEt)31/2] 4.0モル% [Si(OEt)2O] 0.7モル% これからSi結合した水素含量0.94重量%およびエ
トキシ含量57.5重量%が得られた。
【0094】上記A)で製造した部分加水分解物50g
およびトリエチルアミン0.5gからなる混合物に70
℃でエタノール22.5gを加えた。70℃で2時間更
に反応させ、引き続き回転蒸発機で70℃、1hPaで
すべての揮発性の成分を除去した。数平均値Mn613
および重量平均値Mwと数平均値Mnの比1.50を有
する透明な無色の濾液64gが得られ、これは 29Si
−および 1H−NMR分光学により以下の組成を有し
た。
【0095】 [HSi(OEt)21/2] 7.3モル% [HSi(OEt)O] 6.4モル% [HSiO3/2] 1.3モル% [Si(OEt)31/2] 31.6モル% [Si(OEt)2O] 40.7モル% [Si(OEt)O3/2] 12.7モル% これからSi結合した水素含量0.10重量%およびエ
トキシ含量69.1重量%が得られた。
【0096】例2 A)SiH富化した部分加水分解物の製造 トリイソプロポキシシラン412g(2モル)および酢
酸0.044mlからなる混合物に50℃で水27.2
g(1.51モル)を加えた。引き続きまず常圧下で、
その後15hPaで120℃まで加熱し、かつ濾過助剤
10g(商品名“Seitz-Super”(Seitz Filterwerke,B
ad kreuznach)で市販されている)および炭酸水素ナト
リウム1gからなる混合物を介して濾過した。最終生成
物として粘度10mm2/sを有する透明な無色の油状
物181gを単離し、これは 29Si−および 1H−
NMRスペクトルにより以下の組成を有した。
【0097】 [HSi(OiPr)21/2] 40.0モル% [HSi(OiPr)O] 45.0モル% [HSiO3/2] 15.0モル% これからSi結合した水素含量0.86重量%およびイ
ソプロポキシ含量63.4重量%が得られた。
【0098】例3 例1A)で製造した部分加水分解物100gおよびトリ
エチルアミン1gからなる混合物に70℃でエタノール
18gを加えた。70℃で1時間更に反応させ、引き続
き回転蒸発機で70℃、1hPaですべての揮発性の成
分を除去し、かつ濾過助剤2g(商品名“Seitz-Supe
r”(Seitz Filterwerke,Bad kreuznach)で市販されて
いる)を介して濾過した。粘度7mm2/s、数平均値
Mn857および重量平均値Mwと数平均値Mnの比
1.84を有する透明な無色の濾液86gが得られ、こ
れは 29Si−および 1H−NMR分光学により以下
の組成を有した。
【0099】 [HSi(OEt)21/2] 19モル% [HSi(OEt)O] 24モル% [HSiO3/2] 7モル% [Si(OEt)31/2] 12モル% [Si(OEt)2O] 25モル% [Si(OEt)O3/2] 13モル% これからSi結合した水素含量0.43重量%およびエ
トキシ含量62.4重量%が得られた。
【0100】例4 トリエトキシシラン822g(5モル)および酢酸0.
09mlからなる混合物に25℃で水67.6gを滴加
した。反応時間1時間後100℃、10hPaで揮発性
の成分を留去し、引き続きトリエチルアミン4gを加
え、かつ90℃でエタノール60g(1.3モル)を1
時間以内で配量した。70℃で更に1時間撹拌した。1
00℃、10hPaで揮発性の成分を留去した後で、残
留物として粘度38mm2/sを有する無色の透明な油
状物297gが残留し、これは 29Si−および 1
−NMRスペクトルにより以下の組成を有した。
【0101】 [HSi(OEt)21/2] 15.4モル% [HSi(OEt)O] 24.2モル% [HSiO3/2] 11.4モル% [Si(OEt)31/2] 5.5モル% [Si(OEt)2O] 20.5モル% [Si(OEt)O3/2] 18.7モル% [SiO2] 4.3モル% これからSi結合した水素含量0.486重量%および
エトキシ含量56.2重量%が得られた。
【0102】例5 例4に記載の方法を繰り返した。ただしエタノール60
gの代りにエタノール55g(1.2モル)を使用し
た。最終生成物として透明な無色の油状物337gを単
離し、これは粘度10mm2/sおよび 29Si−およ
1H−NMRスペクトルにより以下の組成を有し
た。
【0103】 [HSi(OEt)21/2] 21.6モル% [HSi(OEt)O] 29.3モル% [HSiO3/2] 10.4モル% [Si(OEt)31/2] 6.1モル% [Si(OEt)2O] 19.1モル% [Si(OEt)O3/2] 11.9モル% [SiO2] 1.6モル% これからSi結合した水素含量0.57重量%およびエ
トキシ含量58.8重量%が得られた。
【0104】例6 実験混合機(Janke und Kunkel RE162)で、粘度800
00mm2/sを有するα,ω−ジヒドロキシジメチル
ポリシロキサン57.2部、粘度100mm2/sを有
するα,ω−ジ(トリメチルシロキシ)ジメチルポリシ
ロキサン44.0部、H−アルコキシ架橋剤11.0部
(製造は例5に記載されている)、オレイン酸0.44
部および疎水化した熱分解珪酸11部(商品名“WACKER
HDK H15”(Wacker-Chemie社)で市販されている)を
混合した。得られた材料を50℃の温度で30分間空気
を排除して保存した。引き続き5hPaの圧力で撹拌し
ながら5分間真空にした。
【0105】こうして得られた材料をチューブに充填
し、50℃で保存した。
【0106】材料を製造後および50℃で1月、3月お
よび6月保存した後でそれぞれ材料1部を厚さ2mmの
被膜に塗布し、乾燥した表面を形成するまでの時間(被
膜形成時間tH)およびエラストマーの機械的値を測定
した。結果を第1表に示す。
【0107】 第1表 保存 tH ショアA 破断 引張り モジューラス 引裂き 時間 (分) 硬度 伸び 強さ (N/mm2) 強さ (月) (%) (N/mm2) (N/mm) 0 19 25 360 1.5 0.5 4.8 1 19 28 410 1.5 0.4 4.9 3 18 27 400 1.3 0.4 4.8 6 18 28 420 1.4 0.5 5.0 観察時間内に水素の発生は確認できなかった。
【0108】例7 実験混合機(Janke und Kunkel RE162)で、粘度800
00mm2/sを有するα,ω−ジヒドロキシジメチル
ポリシロキサン57.2部、粘度100mm2/sを有
するα,ω−ジ(トリメチルシロキシ)ジメチルポリシ
ロキサン44.0部、H−アルコキシ架橋剤11.0部
(製造は例3に記載されている)、オレイン酸0.44
部および疎水化した熱分解珪酸11部(商品名“WACKER
HDK H15”(Wacker-Chemie社)で市販されている)を
混合した。得られた材料を50℃の温度で30分間空気
を排除して保存した。引き続き0.5kPaの圧力で撹
拌しながら5分間真空にした。
【0109】こうして得られた材料をチューブに充填
し、50℃で保存した。
【0110】材料を製造後および50℃で1月、3月お
よび6月保存した後でそれぞれ材料1部を厚さ2mmの
被膜に塗布し、乾燥した表面を形成するまでの時間(被
膜形成時間tH)およびエラストマーの機械的値を測定
した。結果を第2表に示す。
【0111】 第2表 保存 tH ショアA 破断 引張り モジューラス 引裂き 時間 (分) 硬度 伸び 強さ (N/mm2) 強さ (月) (%) (N/mm2) (N/mm) 0 45 21 320 1.2 0.4 4.1 1 43 20 350 1.4 0.4 4.3 3 43 22 330 1.3 0.3 4.1 6 40 21 330 1.4 0.4 4.4 観察時間内に水素の発生は確認できなかった。
【0112】例8 実験混合機(Janke und Kunkel RE162)で、粘度800
00mm2/sを有するα,ω−ジヒドロキシジメチル
ポリシロキサン57.2部、粘度100mm2/sを有
するα,ω−ジ(トリメチルシロキシ)ジメチルポリシ
ロキサン44.0部、H−アルコキシ架橋剤11.0部
(製造は例1に記載されている)、オレイン酸0.44
部および疎水化した熱分解珪酸11部(商品名“WACKER
HDK H15”(Wacker-Chemie社)で市販されている)を
混合した。得られた材料を50℃の温度で30分間空気
を排除して保存した。引き続き0.5kPaの圧力で撹
拌しながら5分間真空にした。
【0113】こうして得られた材料をチューブに充填
し、50℃で保存した。
【0114】材料を製造後および50℃で1月、3月お
よび6月保存した後でそれぞれ材料1部を厚さ2mmの
被膜に塗布し、乾燥した表面を形成するまでの時間(被
膜形成時間tH)およびエラストマーの機械的値を測定
した。結果を第3表に示す。
【0115】 第3表 保存 tH ショアA 破断 引張り モジューラス 引裂き 時間 (時間) 硬度 伸び 強さ (N/mm2) 強さ (月) (%) (N/mm2) (N/mm) 0 3 7 220 0.6 0.1 2.3 1 3 10 270 0.7 0.1 2.7 3 3 10 210 0.9 0.1 2.9 6 3 11 250 0.8 0.1 2.5 観察時間内に水素の発生は確認できなかった。
【0116】比較例1 実験混合機(Janke und Kunkel RE162)で、粘度800
00mm2/sを有するα,ω−ジヒドロキシジメチル
ポリシロキサン57.2部、粘度100mm2/sを有
するα,ω−ジ(トリメチルシロキシ)ジメチルポリシ
ロキサン44.0部、SiH富化した部分加水分解物1
1.0部(製造は例1Aに記載されている)、オレイン
酸0.44部および疎水化した熱分解珪酸11部(商品
名“WACKER HDK H15”(Wacker-Chemie社)で市販され
ている)を混合した。得られた材料を50℃の温度で3
0分間空気を排除して保存した。引き続き0.5kPa
の圧力で撹拌しながら5分間真空にした。
【0117】こうして得られた材料をチューブに充填
し、50℃で保存した。
【0118】材料を製造後および50℃で1月、3月お
よび6月保存した後でそれぞれ材料1部を厚さ2mmの
被膜に塗布し、かつ乾燥した表面を形成するまでの時間
(被膜形成時間tH)およびエラストマーの機械的値を
測定した。結果を第4表に示す。
【0119】 第4表 保存 tH ショアA 破断 引張り モジューラス 引裂き 時間 (分) 硬度 伸び 強さ (N/mm2) 強さ (月) (%) (N/mm2) (N/mm) 0 9 27 330 1.4 0.6 4.8 1 10 30 310 1.4 0.6 5.0 3 11 31 320 1.3 0.6 4.7 6 9 33 280 1.2 0.6 4.3 50℃で材料を7週間保存後開かれたチューブ底部によ
り増加する激しい水素の発生を確認し、これは12週間
保存後に材料中に気泡の封入を生じた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 エリッヒ ピルツヴェーガー ドイツ連邦共和国 ユールバッハ エリ ザベートシュトラーセ 10 (56)参考文献 特表 平6−502677(JP,A) 特開 平6−49249(JP,A) 特開 平4−328164(JP,A)

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(A)α,ω−ジヒドロキシオルガノポリ
    シロキサン、および (B)一般式(I): [式中、 Rは同じかまたは異なっていてもよく、かつ一価の、
    置換または置換された炭化水素基または有機珪素基を表
    し、 Rは同じかまたは異なっていてもよく、かつ二価の、
    非置換または置換された有機基を表し、 a、b、c、d、e、f、gおよびhはそれぞれ互いに
    無関係に0または0より大きい数を表し、ただしSi結
    合した水素含量は式(I)の有機珪素化合物の全重量に
    対して0.1〜0.9重量%であり、かつ式(I)の有
    機珪素化合物中の基Rの数の少なくとも20%は一価
    の、非置換または置換された炭化水素基を表す]で示さ
    れる有機珪素化合物を使用して製造される、水の排除下
    で保存可能であるが、水の加入時にすでに室温でエラス
    トマーに架橋可能なオルガノポリシロキサン材料。
  2. 【請求項2】(A)α,ω−ジヒドロキシオルガノポリ
    シロキサン、 (B)一般式(I): ――――――――――――――――――――――――――――――――――――[式中、 Rは同じかまたは異なっていてもよく、かつ一価の、非
    置換または置換された炭化水素基または有機珪素基を表
    し、 は同じかまたは異なっていてもよく、かつ二価の、
    非置換または置換された有機基を表し、 a、b、c、d、e、f、gおよびhはそれぞれ互いに
    無関係に0または0より大きい数を表し、ただしSi結
    合した水素含量は式(I)の有機珪素化合物の全重量に
    対して0.1〜0.9重量%であり、かつ式(I)の有
    機珪素化合物中の基Rの数の少なくとも20%は一価
    の、非置換または置換された炭化水素基を表す]で示さ
    れる有機珪素化合物、および (C)添加剤 50重量%まで、 (D)充填剤 70重量%まで、 (E)軟化剤 70重量%まで、 (F)定着剤 20重量%まで、 (G)スカベンジャー 20重量%まで、および (H)縮合触媒 10重量%まで から選択される1種以上の成分を使用して製造される、
    水の排除下で保存可能であるが、水の加入時にすでに室
    温でエラストマーに架橋可能なオルガノポリシロキサン
    材料。
  3. 【請求項3】 成分(A)が一般式(II): [式中、Rは同じかまたは異なる一価のSiC結合し
    た有機基を表し、かつnは20以上の数を表す]で示さ
    れるα,ω−ジヒドロキシジオルガノポリシロキサンで
    ある請求項1または2記載のオルガノポリシロキサン材
    料。
  4. 【請求項4】 一般式(I): [式中、 Rは同じかまたは異なっていてもよく、かつ一価の、
    置換または置換された炭化水素基または有機珪素基を表
    し、 Rは同じかまたは異なっていてもよく、かつ二価の、
    非置換または置換された有機基を表し、 a、b、c、d、e、f、gおよびhはそれぞれ互いに
    無関係に0または0より大きい数を表し、ただしSi結
    合した水素含量はそれぞれ式(I)の有機珪素化合物の
    全重量に対して0.1〜0.9重量%であり、かつ式
    (I)の有機珪素化合物中の基Rの数の少なくとも20
    %は一価の非置換または置換された炭化水素基を表す]
    で示される有機珪素化合物。
  5. 【請求項5】 請求項4記載の有機珪素化合物の製造方
    法において、アルコール(1)を式III: HSi (OR) (III) [式中、Rは同じかまたは異なっていてもよく、かつ一
    価の、非置換または置換された炭化水素基を表す]のオ
    ルガニルオキシシランおよび場合によりアルカンジオー
    ルからなる部分加水分解物(2)と反応させることを特
    徴とする有機珪素化合物の製造方法。
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