JP2713072B2

JP2713072B2 - 高周波加熱調理器

Info

Publication number: JP2713072B2
Application number: JP4340041A
Authority: JP
Inventors: 章子森; 治男松島
Original assignee: Panasonic Corp; Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Corp; Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1992-12-21
Filing date: 1992-12-21
Publication date: 1998-02-16
Anticipated expiration: 2013-02-16
Also published as: JPH06193884A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子レンジ等の高周波加
熱調理器に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年真空調理と呼ばれる技術が普及し始
めている。これは日本およびフランスで別々に発明さ
れ、フランスで大きく発展し、２１世紀の調理法あるい
はコンピューターに匹敵する発明とまでいわれている調
理法である。

【０００３】つまり蛋白質の熱変性温度は６０℃程度で
あるから肉等はこの程度の温度にまで加熱すれば十分食
べられるはずである。しかし実際には６０℃の湯煎を行
っても内部に熱が達しない。そこで肉を真空中でプラス
チックフィルムにパックし、その状態で湯煎することに
より内部まで熱を浸透させるものである。

【０００４】真空パックするため、素材の風味旨味を逃
がさない、糖分塩分の浸透が良いので従来より少量てす
みヘルシーである。低温加熱であるため、ビタミンの破
壊が少ない、筋や繊維が固まらず柔らかい、水の分離が
なく目減りがすくない、旨味が逃げないといった調理上
のメリットがあるだけでなく、半完成状態での低温保存
が短期的には可能であるので宴会等短時間に大量調理が
必要な状況にも、前もって計画的に準備でき、より少な
い人数、より小さな設備で対処できるといった運営上の
メリットも大きく、我が国でも急速に伸び始めている。

【０００５】しかしこの画期的な調理法も、上述した様
に湯煎あるいはスチームオーブンで加熱する必要がある
ため加熱に長時間必要とし、かつそのエネルギーコスト
低減が大きな課題となってきている。この課題を解決す
る手段として高周波加熱を利用する事が考えられるが現
状では加熱むらが大きく、残念ながらうまく調理できな
い。一般に真空調理は１℃の精度、均一分布が要求され
ると言われているのである。

【０００６】均一加熱に関する従来技術としては例えば
特開昭５２−１７２３７号公報がある。これは食品の複
数部分の温度を検知し、その一つが希望温度より低い一
定温度に到達した時点で高周波出力を低下させ、他の一
つが希望温度に達したら高周波を停止するものである。
しかしこの技術をそのまま適用しても真空調理はうまく
いかない。最も大きな理由として考えられるのは一定温
度到達後も弱いながら高周波照射を続ける為と推定され
る。つまりこの技術は不均一加熱を前提としているが、
高周波を弱めただけでは単に不均一加熱の程度を減少さ
せるだけであり、不均一加熱そのものは存在し続け、従
って強く加熱される部分とあまり加熱されない部分との
温度差は拡大し続けるのである。高周波を弱めることに
よりこの拡大速度を遅くするのである。この点は前記公
報の図３にも同様な現象が描かれてあるので参照された
い。

【０００７】他の例としては特開昭５２−６１２７４号
公報がある。これは食品温度を検出し、設定温度に到達
したら出力を弱めるものである。同様な例として特開昭
５３−７５５４７号公報がある。検出食品温度の設定温
度Ｔ₁ 到達で出力停止、これより若干低いＴ₂ まで低下
したら再投入するものである。しかしこれらも不十分で
ある。つまり明細書に記載されている様に煮込み調理ま
たは７５℃程度の肉調理に適用するものであり、両者と
も被調理物の周辺部分が１００℃になっても良い調理あ
るいは沸騰により１００℃以上に上がらない調理であ
り、中央部と周辺部の温度差を１℃程度に保つ性能は期
待できない。

【０００８】また他の例として特開昭５２−１０７６５
６号公報（保温時間を設定できる。）、特開昭５４−７
６４１号公報（解凍において食品周囲温度を検出し、５
℃で電波停止、１℃で再投入、５℃から１℃への低下時
間の変化が無くなった時点で終了。）、特開昭５９−５
６３８８号公報（光ファイバーを用いる。）、特願平３
−９４０１２号（断続調理の電波照射時間を３秒とす
る。）等があるが、いずれもそれ単独技術として用いて
もうまく調理できなかった。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は以上述べた様
に、加熱調理を均一加熱で行なう、特に従来不可能とも
考えられていた、６０℃程度で温度差および温度精度１
℃程度の加熱調理を、高周波加熱で実現せんとするもの
である。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本願発明は下記構成とした。

【００１１】すなわち、食品を加熱する加熱室と、高周
波照射源と、この高周波照射源からの照射を制御する制
御手段と、複数の食品温度測定手段とを有し、前記複数
の食品温度測定手段のうち一つは高周波照射により最も
高温になると予想される付近の温度を、他の一つは最も
低温になると予想される付近の温度を検出し、前記食品
温度測定手段にリミット温度ＬＴ₁、およびこれより△
ｔ低い温度ＬＴ₂の二つを設定し、前記複数の食品温度
のうちの一つがＬＴ₁に達すれば断続照射を停止し、Ｌ
Ｔ₂に低下すれば再投入すると共に、他の食品温度が所
定の温度に達するまで繰り返しＬＴ₁およびＬＴ₂の制御
を行う構成とした。

【００１２】また、食品温度測定手段として光ファイバ
ー式温度測定器を用いる構成とした。

【００１３】さらに、リミット温度ＬＴ₁として、肉類
の蛋白質の熱変性温度である５５℃から６７℃までの温
度に限定する構成とした。

【００１４】また、高周波照射源を上下に設ける構成と
した。

【００１５】

【作用】本発明は前記した構成によって、下記作用を有
する。

【００１６】すなわち、食品を加熱するための加熱室内
で食品が高周波を断続照射され、その最も強く加熱され
ると予想される部分の温度が測定され、リミット温度Ｌ
Ｔ₁に到達すると高周波の照射が停止されるので、この
最も強く加熱されると予想される部分の熱はより温度の
低い部分へ伝達され、高周波照射履歴と食品の熱慣性と
に左右される過渡温度上昇の後に低下し始める。ＬＴ₂
まで低下すると高周波照射が再開されるので再び温度上
昇が始まる。このＬＴ₁ およびＬＴ₂ の制御の間、高周
波照射中に強く加熱された部分の熱が、高周波照射停止
中に、より温度の低い部分に流れていき、加熱されにく
い部分の温度が少しずつ上昇する。この部分の温度も測
定され、これが所定（必要最低限）の温度に達した時点
で高周波照射を終了すれば食品の温度は必要最低限以上
ＬＴ₁ 以下の極狭い温度範囲内に納まる。

【００１７】また高周波照射を終了しない場合は一定時
間二つの温度の内の高い方に対し、上記ＬＴ₁ およびＬ
Ｔ₂ の制御を行うので、高周波強度およびその断続時間
比率を適当に設定し、過渡温度上昇量を最小限に押さえ
らえるので、食品の各部はＬＴ₁ からＬＴ₂ までの△ｔ
の温度範囲内におさめられる。

【００１８】また、食品温度測定手段として、光ファイ
バー式温度測定器を用いるので、温度測定が高周波の影
響を受けにくい。

【００１９】さらに、肉類の加熱調理において、リミッ
ト温度ＬＴ₁として、５５℃から６７℃までの温度に限
定したので、肉類加熱温度は肉類の分水作用開始温度の
６８℃を越えることがない。

【００２０】また、高周波照射源を上下両方に設けたの
で、食品は上下両方向より加熱されるので温度のバラツ
キは小さくなる。

【００２１】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面にもとづいて説
明する。特に本実施例では温度制御のきびしい真空調理
の場合について主に説明する。

【００２２】図１は本発明の一実施例の高周波加熱調理
器の要部断面図である。加熱室１１はステンレス鋼を溶
接して構成された直方体状であり、前面開口を塞ぐドア
１２が回動自在に設けられる。加熱室の天面および底面
各々の中央には丸孔が開けられこれを貫通して回転アン
テナ１３および１４が設けられ、スタタラーモーター１
５および１６で支持されるとともに回転される。天面の
アンテナ１３のすぐ下にポリプロピレン樹脂製の天板１
７を固定し、底面のアンテナ１４のすぐ上には結晶化ガ
ラス製の食品載置台１８を固定する。天面および底面の
丸孔を覆う位置に導波管１９および２０を固定し、各々
の導波管の終端にはマグネトロン２１および２２を取り
つける。

【００２３】ファンモーター上２３はマグネトロン２１
の下方に設けられこの吹き出し口に接続されたエアーガ
イド２４は出口が二つあり、一方はマグネトロン２１
に、他方は加熱室１１の裏面上部に開けられた小孔群２
５に向けられる。前記天板１７のドア側にも小孔群２６
が開けられる。加熱室の天面にも小孔群が開けられ（図
示せず）、外箱２７の裏面上部に開けられた小孔群２８
との間を結ぶ排気ガイド２９に結合される。

【００２４】食品載置台１８の上にはポリプロピレン樹
脂製の簀の子網３０を乗せ、その上に食品（図では真空
パックされた牛肉）３１が置かれる。加熱室１１の側面
には二つの小孔３２および３３が開けられ、これらと対
応した位置の外箱２７にも二つの小孔（図示せず）が開
けられる。これらの小孔を貫通して外箱の外部より温度
測定用の光ファイバー８１および８２を貫通させ加熱室
内に導き、それらの先端は食品の中央付近と周囲付近に
刺し込まれる。

【００２５】外箱底面には小孔群３４，裏面にも二つの
マグネトロンの位置に小孔群３５および３６をそれぞれ
開ける。また底面にはゴム製の足３７を四個固定する。

【００２６】図２は図１の高周波加熱調理器の回路図で
ある。電源プラグ４１の二本の導線はヒューズ４２に接
続され、ヒューズの後はノイズフィルター４３、続いて
照明ランプ４４に接続される。照明ランプには直列にリ
レー４５の接点が接続され、そのコイルは制御インター
フェース７１に接続される。照明ランプに続いてヒータ
ートランス４６の一次側およびこれと直列に挿入された
リレー４７に接続される。ヒータートランスと並列にフ
ァンモーター上２３、同下４８、スタラーモーター上１
５，同下１６が接続される。リレー４７のコイルは前記
制御インターフェース７１に接続される。またヒーター
トランス４６の二次側には二つのヒーター巻き線を設
け、マグネトロン２１および２２の各々のヒーターに接
続される。また同じく二次側にはリップル巻き線４９が
設けられ、これは前記制御インターフェース７１に接続
される。

【００２７】ヒーターリレーの後方は並列に二分割さ
れ、各々にドアスイッチ５０および５１と、メインリレ
ー５２および５３に接続される。メインリレー５２およ
び５３のコイルは同じく制御インターフェース７１に接
続される。これらの後方にはショートスイッチ５４およ
び５５に続き、トライアック５６および５７を介して高
圧トランス５８および５９に到達する。高圧トランスの
二次側は進相コンデンサおよびダイオードを介してマグ
ネトロン２１および２２に接続される。二つのトライア
ックは各々駆動回路６０および６１を介して制御インタ
ーフェース７１に接続される。

【００２８】またドア１２に連動した動きをするドア信
号スイッチ６２も制御インターフェース７１に接続され
る。

【００２９】コンピューター７０はノート型パソコンを
用い、制御インターフェースとの間は多線のケーブル７
２で接続する。またコンピューター７０にはＲＳ−２３
２−Ｃ型のケーブル７３によって光ファイバー式温度測
定器８０に接続される。光ファイバー式温度測定器８０
は市販のＬＵＸＴＲＯＮ社製モデル７５５を用い、この
温度測定用光ファイバー８１よび８２を食品に刺し込む
のである。

【００３０】図３および図４はパソコンのプログラムの
フローであり、これを用いて本実施例の作用を説明す
る。高周波加熱調理器、パソコン、制御インターフェー
スおよび光ファイバー式温度測定器を電源に接続し、パ
ソコンを起動、プログラムをロードし、スタートする。
まず最初に調理の定数を設定する。リミット温度ＬＴ₁
は食品の上限温度であり、図１の例の牛肉であれば例え
ば５７℃をパソコンに入力する。ＬＴ₂ はこれよりわず
か△ｔだけ低い値例えば５６℃とする。Ｔ₁ これよりさ
らに低い、適切な値である。ＭおよびＭ_L はマグネトロ
ンを動作させる時間、ＮおよびＮ_L は停止させる時間で
ある。

【００３１】食品が内部まで加熱された後の保温加熱を
行うか否か、および行う場合はその時間を続いて入力す
る。このときコンピューターのメモリー領域の特定部分
にフラッグ（旗）をたてるが、保温しない場合はＫフラ
ッグの値を０とし、保温する場合はＫフラッグを１、べ
つに設定するＫＫフラッグは０とする。また食品内部の
温度差が開きすぎると調理時間が長びくので限度温度差
△ｔを入力する。この状態で動作開始を待つ。

【００３２】動作開始のキーが押されたら、まず新たな
フラッグＤＵＴＹの値を１とする。続いて演算を行うた
めのＲレジスターへ先に設定されたＭの値を入力する。
ついで単位時間が経過したか否かを確認する。図２のリ
ップル巻き線４９には電源周波数に同期した微小電圧が
現れるが、これを波形整形し、方形波とし、これの立ち
上がりを検出した時点で例えば１サイクルフラッグとで
も呼ぶフラッグを１とする。単位時間が経過したか否か
の確認とはこのフラッグが１か０かを確認することであ
り、１であればフラッグを０に戻してＴ方向へ進み、０
であればＦ方向へ進む。Ｔは真、Ｆは偽の意味である。

【００３３】単位時間が経過していれば前記Ｒレジスタ
ーの値から１を減じる。次に温度測定用光ファイバー８
１の検出した温度値ＴA と、同じく光ファイバー８２の
温度ＴB との差が前記△ｔより大きいか否かの確認を行
う。大きければ上（図２のトライアック５６の意味）を
ＯＦＦし、下（トライアック５７）もＯＦＦする。なお
メインリレー５２，５３およびリレー４７，４５は全て
前記動作開始時点でＯＮする。また二つのドアスイッチ
５０および５１はドア１２が閉じられる時には投入さ
れ、ドア１２が開かれている時には開かれるが、この場
合は同じくドア１２に連動するドア信号スイッチ６２も
開かれているのでこの情報がコンピューターに入力さ
れ、動作開始キーを受け付けないものとする。

【００３４】Ｔ_A とＴ_B との差が小さい場合はＴ_A とＴ
_B とのどちらか一方でも前記設定の温度Ｔ₁ より高いか
否かの確認を行う。大きければ２（図４に表示）に進
む。小さければＤＵＴＹフラッグをチェックする。１な
らば（動作開始直後ならば先程ＤＵＴＹフラッグを１に
したばかりであるから当然１である。）Ｒレジスターが
０になっていない事を確認し、上（トライアック５６）
と、下（トライアック５７）両方をＯＮし、前述の単位
時間経過まで大きく戻る。

【００３５】このループを何度も回る間にＲレジスター
の値が０になる。その時はＤＵＴＹフラッグの値を０に
変えた後にＲレジスターに前記Ｎを入れる。前述したＤ
ＵＴＹフラッグが０の場合はここに来る。当初はレジス
ターが０でないはずであるから、上（トライアック５
６）および下（トライアック５７）をＯＦＦし、単位時
間経過確認まで戻る。このループを回る間にＲレジスタ
ーが０になるが、この場合は動作開始のすぐ下まで戻
る。

【００３６】この二つのループを交互に回り、ＤＵＴＹ
フラッグが１の間は上下マグネトロンともＯＮ（ただし
両者の位相は１８０度異なるものとする。）し、Ｒレジ
スターのＭ時間が経過するとＤＵＴＹフラッグが０にな
り、今度は両マグネトロンともＯＦＦとなり、Ｒレジス
ターのＮ時間が０になるまで続く。この結果Ｍ時間０
Ｎ、Ｎ時間ＯＦＦの断続高周波照射が継続する。

【００３７】この間に光ファイバーで検出した温度がＴ
₁ に到達すれば図４の左上に描かれた２に進む。ここか
ら先はポイントのみ説明する。

【００３８】上下フラッグを設け、１ならば上のマグネ
トロン２１を、０ならば下のマグネトロン２２を動作さ
せる。Ｒレジスターとは別にＲ_K レジスターを設け、こ
れに前述した保温時間ＫＴを入れる。ＫＫフラッグが０
の間はこのＲ_K レジスターからの減算を省略する。Ｔ_A
またはＴ_B がリミット温度ＬＴ₁ に到達するまでの間は
図４の右上に描かれた３以下のループを回り、上マグネ
トロン２１をＭ_L 時間０Ｎした後Ｎ_L 時間ＯＦＦし、上
下フラッグを０に変えて下マグネトロンに移る。ここで
も同様にＭ_L 時間０Ｎ、Ｎ_L 時間ＯＦＦ後再び上下フラ
ッグを１に変え、再度上マグネトロンに戻る。

【００３９】Ｔ_A またはＴ_B どちらか一方がリミット温
度ＬＴ₁ に到達すると、どちらが到達したのかを判定
し、Ｔ_A ならばＡフラッグを１、そうでなければ０とす
る。マグネトロンは上下とも０ＦＦし、Ｔ_A とＴ_B とが
等しくなることを待つ。等しくない間はＬＴ₂ 温度まで
低下する事を待つ。その間、図４下部中央付近に描かれ
た上ＯＦＦ，下ＯＦＦ，Ｔ_A ＝Ｔ_B ，Ａ＝１，Ｔ_A ＜Ｌ
Ｔ₂ のちいさなループを回る。ＬＴ₂ まで温度が低下す
るとこのループを抜け、単位時間経過確認まで戻り、再
度マグネトロンＯＮとなる。

【００４０】Ｔ_A またはＴ_B の一方がこのＬＴ₁ とＬＴ
₂ との間を上下しているうちに他方の温度が緩やかに上
昇し、両者が一致する。Ｔ_A ＝Ｔ_B 判定で下に抜けると
Ｋフラッグの確認がある。これが０であれば保温動作を
しない訳であるから終了、つまり全てのリレー、トライ
アックがＯＦＦされ、ブザー（図示してない）をなら
す。

【００４１】Ｋフラッグが１であればＫＫフラッグを１
に変え、保温時間ＫＴをＲ_K レジスターに入れ、再び単
位時間経過確認まで戻る。今度はＫＫフラッグが１であ
るからＲ_K レジスターからも減算される。Ｒ_K レジスタ
ーが０になれば終了である。

【００４２】以上述べた様に、使用者が任意に決めたＬ
Ｔ₁ ，ＬＴ₂ ，Ｔ₁ ，Ｍ，Ｎ，Ｍ_L，Ｎ_L ，ＫＴ，△ｔ
に基づき、Ｔ₁ 温度までの間はＭ時間ＯＮ、Ｎ時間ＯＦ
Ｆの上下マグネトロン同時照射を行い、それ以降はＬＴ
₁ までＭ_L 時間ＯＮ，Ｎ_L 時間ＯＦＦの上下マグネトロ
ン交互照射を行い、続いてＬＴ₁ とＬＴ₂ との間に温度
を保ちながら他方の温度上昇を待ち、両者の温度がこの
ＬＴ₁ とＬＴ₂ との間で一致したら終了または保温に入
るという動作を行うのである。

【００４３】さらに図５により作用の説明を行う。図５
の左半分は従来の湯煎またはスチームオーブンによって
加熱された食品（例えば牛肉）の内部温度分布想像図お
よび時間経過に伴う温度変化図であり、これとの差を強
調する目的のため、右半分は均一加熱特性の悪い高周波
加熱装置に本実施例の制御回路を組み合わせて加熱され
た食品の内部温度分布想像図および時間経過に伴う温度
変化図である。６０℃の湯煎またはスチームオーブンに
よって加熱されるとまずＡ₁ に示す様に周囲の極薄い部
分のみが５５℃を越え、その後５５℃を越える部分は少
しづつ内部に広がり、Ａ₂ ，Ａ₃ と進む。脂身や筋がな
いと仮定すれば、図に描かれたように上下左右対称な均
一加熱が進んでいると考えられる。中央のバツ印の点を
Ｃ，左上のバツ印の点をＤとしてＣ点、Ｄ点、の温度の
時間変化を下部に示した。

【００４４】細菌は５５℃以上で１時間維持すれば繁殖
せず、また牛肉等の場合は周囲５ｍｍ程度までに付着し
ていると言われるが、Ｃ点の温度がＬＴ₂ までに達する
時間が５時間かかったとすると、周囲５ｍｍ程は調理直
後から５５℃以上になり、細菌繁殖は考慮しないでも良
い。

【００４５】これに対し、均一加熱性能のよくない装置
で高周波加熱された場合は、右側のＢ₁ の様になると考
えられる。つまり一部の角のみが強く加熱されるのであ
る。加熱が進んでＢ₂ の状態になっても底部に５５℃以
下の部分が存在する。従って前述した従来の高周波均一
加熱技術を用いて、特定の少分量の食品を長時間極微弱
な高周波を照射する事によりほぼ良好な均一分布が得ら
れたとしても、この周囲５ｍｍ程度までの細菌繁殖の危
険性があるので真空調理に利用できないのである。

【００４６】細菌繁殖防止の観点から考えて周囲は出来
るかぎり早く５５℃以上にする必要があり、そのために
温度Ｔ₁ までは大きな断続出力で加熱し、リミット温度
まではそれより少し弱い断続出力で加熱し、最短時間で
Ｂ₃ の状態まで進ませる手段を本発明が提供するもので
ある。

【００４７】参考として食品の中央下部バツ印の点を
Ｅ，左上の隅の点をＦとし、各々の点に於ける温度変化
をグラフに示した。

【００４８】また本実施例では加熱室が直方体であり、
その天面および底面の中央に回転アンテナが設けられて
いるので食品が対称形状であれば前後左右対称そして上
下も対称な加熱パターンが得られるので、Ｂ₁ よりもＡ
₁ に近いと考えられる。これも高周波加熱を真空調理に
適用するための重要な要素の一つである。

【００４９】ただし高周波加熱による真空調理におい
て、高周波照射源そのものの均一加熱性能は重要ではあ
るが必須ではない。図５のＢ₁ の様な極端に不均一な照
射源であっても十分な設計的配慮を施し、食品の種類、
形状、重量を選択すればＢ₁ そしてＢ₂ を短時間で通過
し、Ｂ₃ の状態にまですることは可能である。図５の右
下のＢに示す温度変化のグラフがそれを示しているので
ある。

【００５０】しかしながら種々の食品を対象とするには
やはりＡ₁ の様な加熱パターンを有する高周波照射源が
必要となるのである。

【００５１】以上本実施例による作用を述べたが、ポイ
ントを整理すると、最も本質的な要素は、（１）弱い高周波照射を用いるのでは無く、強い高周波
を断続照射する。

【００５２】（２）不均一加熱によって生じる高温部お
よび低温部２点の温度を検出する。（３）高温部の温度がリミットに達したら高周波照射を
停止し、リミットより僅かに低い温度まで低下したら高
周波断続照射を再開する。

【００５３】（４）低温部の温度が高温部の温度に一致
したら終了または保温動作に移行する。の４点である。この内（１）、（２）および（３）は従
来からある技術とも言えるが、これらを真空調理の加熱
に最適になるように組み合わせた事および（４）と組み
合わせた事が新規技術である。

【００５４】（４）に於いて二つの温度の一致を取り上
げ、また前述の実施例でも二つの温度が一致するプログ
ラムとしたが、一致は必ずしも必要ではない。つまり食
品の温度を蛋白質の分水温度６８℃と、細菌繁殖を心配
しなくて良い温度である５５℃との間の、その食品にと
っての最適温度にする事が真空調理の目的であるから、
例えばリミット温度を６７℃とし、低温部の温度が５５
℃に達した時点で調理終了しても良いわけである。この
場合は前述の実施例のプログラムフローのなかでＴ_A ＝
Ｔ_B をＴ_A ∩Ｔ_B ≧５５に置き換える事で実現できる。

【００５５】また温度測定手段としては従来から良く知
られた金属細管内にサーミスターを設けたものがある
が、高周波中に金属を置く事による影響が無視できない
ので、誘電体である光ファイバー式が有利である。

【００５６】また食品や調理法によっても異なるが、蛋
白質の適正加熱温度は上述の様に５５℃から６７℃程度
であるからリミット温度ＬＴ₁ としてこの範囲の温度を
設定すれば必然的に真空調理ができることになる。

【００５７】さらに前述した様に高周波照射源を上下二
つ有する事は真空調理に有利である。

【００５８】また実施例では温度測定装置を二つ設けた
が、必ずしも二つに限る必要はなく、多数の温度測定装
置を設ければそれだけ木目細かい制御が可能となる。こ
の場合は最も温度が高いものに対してＬＴ₁ およびＬＴ
₂ の制御を行い、最も温度が低いものが５５℃以上の所
定温度以上に達するか、または最も高温のものに追いつ
くまで制御を続ける訳である。

【００５９】

【発明の効果】以上述べた様に本願発明の高周波加熱調
理器によてば、次の効果が得られる。

【００６０】（１）当業者、特に調理関係者が不可能と
考えていた高周波による真空低温調理が可能となり、従
来水を加熱するために消費されていた大きなエネルギー
が不要となり、従来水を加熱するために消費されていた
大きなエネルギーが不要となり、コスト低減が計れ、ま
た調理時間の短縮および水を用いない事による作業の改
善等が実現できる。

【００６１】（２）食品温度測定手段として光ファイバ
ー式温度測定器を用いたため、高周波の影響を受けるこ
となく、正確な温度測定を行うことが出来る。

【００６２】（３）リミット温度ＬＴ₁として５５℃か
ら６７℃までの温度を選定することにより、細菌の繁殖
を防ぐことができ、かつ、蛋白質の分水作用開始温度以
下とすることができるため、素材（食品）中の水分が旨
味成分と共に素材より露出するのを防ぐことができる。
したがって、安全でおいしい調理が得られる。

【００６３】（４）高周波照射源を上下に設けたので、
食品に高周波が上下より照射され、食品の温度の均一化
がなりやすい。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の高周波加熱調理器の要部断
面図

【図２】同高周波加熱調理器の回路図

【図３】同制御用コンピューターのプログラムフローを
示す図

【図４】同制御用コンピューターのプログラムフローを
示す図

【図５】従来例と本発明の制御方法とを比較した食品内
部の温度変化の想像図

【符号の説明】

１１加熱室１３、１４回転アンテナ（高周波照射源）３１食品７０コンピューター（制御手段）８１、８２温度測定用光ファイバー（食品温度測定手
段）

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】食品を加熱する加熱室と、高周波照射源
と、前記高周波照射源からの照射を制御する制御手段
と、複数の食品温度測定手段とを有し、前記複数の食品
温度測定手段のうち一つは高周波照射により最も高温に
なると予想される付近の温度を、他の一つは最も低温に
なると予想される付近の温度を検出し、前記食品温度測
定手段にリミット温度ＬＴ₁、およびこれより△ｔ低い
温度ＬＴ₂の二つを設定し、前記複数の食品温度のうち
の一つがＬＴ₁ に達すれば照射を停止し、ＬＴ₂に低下
すれば再投入すると共に、他の食品温度が所定の温度に
達するまで繰り返しＬＴ₁およびＬＴ₂の制御を行う事を
特徴とする高周波加熱調理器。
【請求項２】食品温度測定手段として光ファイバー式温
度測定器を用いた事を特徴とする請求項１記載の高周波
加熱調理器。
【請求項３】リミット温度ＬＴ₁ として５５℃から６７
℃までの温度に限定した事を特徴とする請求項１記載の
高周波加熱調理器。
【請求項４】高周波照射源を上下に設ける事を特徴とす
る請求項１記載の高周波加熱調理器。