JP2712527B2 - Heating device for infrared radiation - Google Patents

Heating device for infrared radiation

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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は赤外線放射用発熱装置に関し、更に詳しく
は、物質の加熱あるいは暖房に好適な赤外線放射用発熱
装置に関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a heat generating device for infrared radiation, and more particularly to a heat generating device for infrared radiation suitable for heating or heating a substance.

従来の技術 近年、赤外線放射エネルギーは、物質の加熱あるいは
暖房等において産業上広い利用性を有する。従って、こ
のような赤外線放射エネルギーを有効に利用すべく、種
々の赤外線放射用発熱装置が提案されている。例えば、
電力をエネルギー源とする場合、従来は高温用の高効率
赤外線放射体として疑似黒体にも利用されている放射率
が1に近い炭化珪素が用いられている。その炭化珪素に
よる赤外線放射は抵抗体であるので、電力が直接供給さ
れることにより赤外線放射エネルギーを放射せしめる一
次的な赤外線放射用発熱装置として利用されている。
2. Description of the Related Art In recent years, infrared radiant energy has wide industrial applicability in heating or heating materials. Therefore, in order to effectively use such infrared radiation energy, various heat generating devices for infrared radiation have been proposed. For example,
When electric power is used as an energy source, silicon carbide having an emissivity close to 1 which is also used as a pseudo blackbody as a high-efficiency infrared radiator for high temperatures is conventionally used. Since the infrared radiation by the silicon carbide is a resistor, it is used as a primary infrared radiation heating device that emits infrared radiation energy when power is directly supplied.

しかしながら、炭化珪素による赤外線放射体は作成過
程において空気中で高温焼成を行うと炭化珪素が酸化さ
れるため、その作成時には、所定の形状に形成された赤
外線放射体は非酸化雰囲気で炭化珪素のセラミックス粒
子を2000℃〜2300℃で焼成して前記セラミックス粒子を
再結晶化のし、前記セラミックス粒子間を結晶結合する
ことにより作成されている。しかし、前記焼成は非酸化
雰囲気の高温下で行われるため難しいものであり、コス
トが高いものとなっていた。又、炭化珪素による赤外線
放射体は導電性があるため、その表面に絶縁材料を設け
る等の電気的絶縁処理を行う必要があった。又、前記炭
化珪素による赤外線放射体は熱衝撃性に劣るものであっ
た。
However, the infrared radiator made of silicon carbide is oxidized when baked at high temperature in the air during the production process, and therefore, at the time of the production, the infrared radiator formed in a predetermined shape is made of silicon carbide in a non-oxidizing atmosphere. It is produced by firing ceramic particles at 2000 ° C. to 2300 ° C. to recrystallize the ceramic particles, and by crystal bonding between the ceramic particles. However, the calcination is performed at a high temperature in a non-oxidizing atmosphere, so that the calcination is difficult and costly. Further, since the infrared radiator made of silicon carbide is conductive, it has been necessary to perform an electrical insulation treatment such as providing an insulating material on the surface. Further, the infrared radiator made of silicon carbide had poor thermal shock resistance.

したがって、高効率な赤外線放射エネルギーの放射が
十分でないが、電気的絶縁性、および熱衝撃性に秀でる
赤外線放射体として、コーディライト、あるいはチタン
酸アルミニウム等からなる熱膨張係数2.0×10-61/℃以
下の低膨張セラミックス粒子に金属酸化物を加えて焼成
して得た赤外線放射体を、別途設けた発熱体、たとえ
ば、ニクロム線等の金属抵抗体にて加熱して前記低膨張
セラミックの赤外線放射体より赤外線放射エネルギーを
放射せしめる二次的な赤外線放射用発熱装置が利用され
ている。この赤外線放射体の組成を説明すると、前記低
膨張セラミックは結晶と溶融した非結晶が混在されて結
合され、前記金属酸化物は前記結晶と前記非結晶間に存
在するとともに、その一部は前記結晶中に固溶され、
又、その一部は非結晶に固溶されて非結晶層を形成して
いる。
Therefore, high-efficiency infrared radiation energy radiation is not sufficient, but as an infrared radiator excellent in electrical insulation and thermal shock resistance, a thermal expansion coefficient of 2.0 × 10 -6 1 made of cordierite or aluminum titanate or the like is used. An infrared radiator obtained by adding a metal oxide to a low expansion ceramic particle having a temperature of / ° C or lower and heating it with a separately provided heating element, for example, a metal resistor such as a nichrome wire, is used to form the low expansion ceramic. A secondary infrared radiation heating device that emits infrared radiation energy from an infrared radiator is used. Explaining the composition of the infrared radiator, the low expansion ceramic is combined with a mixture of a crystal and a molten amorphous, and the metal oxide is present between the crystal and the amorphous, and a part thereof is the Solid solution in the crystal,
Further, a part thereof is solid-dissolved in an amorphous state to form an amorphous layer.

発明が解決しようとする課題 しかしながら、近年、上記のような赤外線放射体とそ
の赤外線放射体を加熱する金属抵抗体を組合せた二次的
な赤外線放射用発熱装置において、より高効率な赤外線
放射エネルギーを有する赤外線放射用発熱装置が要望さ
れている。
Problems to be Solved by the Invention However, in recent years, in a secondary infrared radiation heating device combining an infrared radiator as described above and a metal resistor for heating the infrared radiator, more efficient infrared radiation energy There is a demand for a heat generating device for infrared radiation having the following.

本発明はかかる課題を解決し、高効率な赤外線放射エ
ネルギーを放射するとともに、秀でた電気的絶縁性と耐
熱衝撃性を有する赤外線放射用発熱装置を提供すること
を目的とする。
It is an object of the present invention to solve the above-described problem and to provide a heating device for infrared radiation that radiates highly efficient infrared radiation energy and has excellent electrical insulation and thermal shock resistance.

課題を解決するための手段 本発明の赤外線放射用発熱装置は、炭化珪素を主成分
とするセラミックス粒子がガラス質材料により結合さ
れ、かつ、そのセラミックス粒子間に空間が形成された
赤外線放射体を、発熱体により加熱せしめて前記赤外線
射体より赤外線を放射せしめる構成としたものである。
Means for Solving the Problems The heating device for infrared radiation of the present invention comprises an infrared radiator in which ceramic particles mainly composed of silicon carbide are bonded by a vitreous material, and a space is formed between the ceramic particles. The infrared radiation is emitted from the infrared radiation body by heating with a heating element.

作用 本発明の赤外線放射用発熱装置は、赤外線放射体とし
て、炭化珪素を主成分とするセラミックス粒子をガラス
質材料にて結合せしめ、かつ、前記セラミックス粒子間
に空間を形成せしめた多孔体状の赤外線放射体が用いら
れている。したがって、その赤外線放射体は前記ガラス
質材料の軟化温度付近の温度で所定の形状に焼成ができ
るので、その形成が容易となるとともに、従来の炭化珪
素の抵抗体に比べて前記セラミックス粒子を前記ガラス
質材料にて結合し隔離しているので、電気的絶縁性を有
したものにでき、かつ、前記セラミックス粒子の熱膨張
を粒子間の空間で吸収することができるので、熱衝撃に
耐えることができる。又、前記多孔状の赤外線放射体は
従来のコーディライト等からなる低膨張セラミックの赤
外線放射体に比べて高効率な赤外線エネルギーを放射す
ることができる。
The heating device for infrared radiation of the present invention has a porous body in which, as an infrared radiator, ceramic particles containing silicon carbide as a main component are bonded with a vitreous material, and a space is formed between the ceramic particles. Infrared radiators are used. Therefore, the infrared radiator can be fired into a predetermined shape at a temperature near the softening temperature of the vitreous material, so that its formation is facilitated, and the ceramic particles are formed more easily than a conventional silicon carbide resistor. Since it is bonded and separated by a vitreous material, it can be made to have electrical insulation properties, and it can absorb the thermal expansion of the ceramic particles in the space between the particles, so that it can withstand thermal shock Can be. Further, the porous infrared radiator can radiate infrared energy more efficiently than a conventional low-expansion ceramic infrared radiator made of cordierite or the like.

実施例 以下、本発明の一実施例の赤外線放射用発熱装置につ
いて図面を参照しながら説明する。
Embodiment Hereinafter, a heat generating device for infrared radiation according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例における赤外線放射用発熱
装置に用いられる赤外線放射体の一構成例の断面図であ
る。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a configuration example of an infrared radiator used for a heat generating device for infrared radiation according to an embodiment of the present invention.

第1図において、1は炭化珪素を主成分とするセラミ
ックス粒子であり、その周りに軟化点が1500℃以下のガ
ラス質材料からなるガラス層2を形成せしめて隣接する
前記セラミックス粒子1をそれぞれ結合させるととも
に、前記セラミックス粒子1間に空間4を形成して多孔
体状の構成となっている。以上のように構成された赤外
線放射体3の生成についての組成を説明する。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes ceramic particles containing silicon carbide as a main component, around which a glass layer 2 made of a vitreous material having a softening point of 1500 ° C. or lower is formed, and the adjacent ceramic particles 1 are bonded. At the same time, a space 4 is formed between the ceramic particles 1 to form a porous body. A composition for producing the infrared radiator 3 configured as described above will be described.

原料として炭化珪素を主成分とするセラミックス粒子
1は平均粒径が小さくなる程焼成した場合に酸化の度合
いが大きくなり前記赤外線放射体3の赤外線放射特性を
劣化せしめるため、平均粒径を2μm以上とし、成型性
を考慮して200μm以下のものを用いる。ガラス層2の
ガラス質材料は重量%として、K2Oを4%、Li2Oを3
%、Al2O3を19%、CaOを3%、SiO2を66%、NaOを1
%、B2O3を2%、MgOを2%を含む原料を秤量混合す
る。そして、そのガラス質材料とセラミックス粒子1と
の重量比を2:8として有機バインダーを秤量混合した後
に成形を行う。次に、焼成であるが、焼成条件として、
空気中で1500℃以下で焼成時間を短くして行う。その理
由として、前記セラミックス粒子1の平均粒径によって
も異なるが、1500℃迄で短時間であればセラミックス粒
子1の酸化は微量であるという結果を重量変化及びX線
分析により得られている。それ故に、前記ガラス質材料
は1500℃以下の軟化点となるべく原料を調整したものを
用いる。尚、この調合によって得られる焼成品は、セラ
ミックス粒子1の平均粒径、ガラス層2のガラス質材
料、ガラス層2のガラス質材料の量により物性的に影響
を与えることとなる。次に、平均粒径が35μm、17μ
m、5μm、2μmにそれぞれ選別されたセラミックス
粒子1の各粒子群にガラス層2のガラス質材料として同
じ成分ものを同じ重量比でそれぞれ混合成形された成形
品を、昇温150℃/Hでこのガラス質材料の軟化点温度以
上である1150℃まで昇温し2時間保持して焼成された各
赤外線放射体3の試料A,B,C,Dについて、そのかさ比
重,気孔率(%),吸水率(%),曲げ強度(Kgf/m
m2)の物性についての測定結果を表1にて示す。
The ceramic particles 1 containing silicon carbide as a main component as a raw material have an average particle diameter of 2 μm or more because the degree of oxidation increases when the average particle diameter is reduced and the infrared radiation characteristic of the infrared radiator 3 is deteriorated when firing. The one having a thickness of 200 μm or less is used in consideration of moldability. The glassy material of the glass layer 2 is 4% of K 2 O and 3% of Li 2 O as weight%.
%, Al 2 O 3 19%, CaO 3%, SiO 2 66%, NaO 1
%, 2 % of B 2 O 3 and 2% of MgO are weighed and mixed. Then, the weight ratio of the vitreous material to the ceramic particles 1 is set to 2: 8, and the organic binder is weighed and mixed, and then molded. Next, firing, as firing conditions,
The calcination time is shortened at 1500 ° C. or less in air. The reason is that, depending on the average particle size of the ceramic particles 1, the result of weight change and X-ray analysis has shown that the oxidation of the ceramic particles 1 is very small in a short period of time up to 1500 ° C. Therefore, the vitreous material used is prepared by adjusting the raw material so that the softening point is 1500 ° C. or less. The fired product obtained by this blending has physical properties affected by the average particle size of the ceramic particles 1, the glassy material of the glass layer 2, and the amount of the glassy material of the glass layer 2. Next, the average particle size is 35μm, 17μ
m, 5 μm, and 2 μm, each of which was mixed with the same component as the vitreous material of the glass layer 2 at the same weight ratio in each particle group of the ceramic particles 1 and heated at a temperature of 150 ° C./H. The bulk specific gravity and porosity (%) of each of the samples A, B, C, and D of each of the infrared radiators 3 which were heated to 1150 ° C. which is higher than the softening point temperature of the vitreous material and held for 2 hours and fired , Water absorption (%), bending strength (Kgf / m
Table 1 shows the measurement results of the physical properties of m 2 ).

前記表1の結果から各赤外線放射体3は、セラミック
ス粒子1間に空間4が形成された多孔体であることがわ
かる。又、これらの赤外線放射体3においては、熱衝撃
の際、前記セラミックス粒子1の熱膨張が空間4で緩和
されることによりセラミックス粒子1間の破壊を防ぎ耐
衝撃性の秀でたものとすることができた。又、試料Aに
おいては、20℃における体積抵抗を測定すと106Ω・cm
となり、電気的絶縁を可能とすることができた。又、前
記空間4を形成した多孔体である赤外線放射体3を得る
ため、空間4の形成や各セラミックス粒子1間の結合を
考慮すると、セラミックス粒子1とガラス質材料の重量
比として、9:1から5:5の間の比にする必要がある。
From the results in Table 1, it can be seen that each infrared radiator 3 is a porous body in which a space 4 is formed between ceramic particles 1. Further, in these infrared radiators 3, the thermal expansion of the ceramic particles 1 is relaxed in the space 4 in the event of a thermal shock, thereby preventing breakage between the ceramic particles 1 and having excellent impact resistance. I was able to. For sample A, the volume resistance at 20 ° C. was 10 6 Ω · cm.
Thus, electrical insulation was enabled. Further, in order to obtain the infrared radiator 3 which is a porous body having the space 4 formed therein, considering the formation of the space 4 and the coupling between the ceramic particles 1, the weight ratio of the ceramic particles 1 to the vitreous material is 9: The ratio must be between 1 and 5: 5.

次に、赤外線放射体3と発熱体として金属抵抗体5を
組合せ高効率な放射エネルギーを得る赤外線放射用発熱
装置について、第2図を参照して説明する。
Next, a description will be given, with reference to FIG. 2, of a heating device for infrared radiation that combines the infrared radiator 3 and the metal resistor 5 as a heating element to obtain highly efficient radiation energy.

図において、赤外線放射体3を筒状に形成し、その内
径部に発熱体としてニクロム等の金属抵抗体5を挿入し
た後、その金属抵抗体5の両端を碍子6により赤外線放
射体3の両端にそれぞれ保持する構成とし、金属抵抗体
5の両端に電圧をかけて発熱させ、その熱エネルギーで
赤外線放射体3を加熱させることにより、その赤外線放
射体3から赤外線放射エネルギーを得ることができる構
成となっている。
In the figure, an infrared radiator 3 is formed in a cylindrical shape, and a metal resistor 5 such as nichrome is inserted as a heating element into an inner diameter portion thereof. A configuration in which a voltage is applied to both ends of the metal resistor 5 to generate heat, and the infrared radiator 3 is heated by the thermal energy, whereby infrared radiant energy can be obtained from the infrared radiator 3. It has become.

以上のように構成された赤外線放射用発熱装置による
赤外線放射体3の放射強度の測定結果と従来の赤外線放
射用発熱装置に用いられるコージライトからなる赤外線
放射体の放射強度の測定結果との比較を第3図に示す。
図中の前記放射強度の測定条件としては、発熱体の加熱
により赤外線放射体の一定面積が500℃の一定温度に保
たれた状態において、その一定面積の表面から得られる
各波長域における一定時間の放射エネルギー量の度合い
を比較測定したものである。前記測定結果により本実施
例と従来のものとを比較すると、本実施例の赤外線放射
体3の放射強度曲線7の方が、従来のコージライトから
なる赤外線放射体の放射強度曲線8より上回っているこ
とがわかる。故に、赤外線放射エネルギーをより高効率
に得ることができる。
Comparison of the measurement results of the radiation intensity of the infrared radiator 3 with the infrared radiation heating device configured as described above and the measurement results of the radiation intensity of the cordierite infrared radiation member used in the conventional infrared radiation heating device. Is shown in FIG.
As the measurement conditions of the radiation intensity in the figure, in a state where a constant area of the infrared radiator is kept at a constant temperature of 500 ° C. by heating the heating element, a constant time in each wavelength range obtained from the surface of the constant area. Is a comparative measurement of the degree of radiant energy. Comparing the present embodiment with the conventional one based on the measurement results, the radiant intensity curve 7 of the infrared radiator 3 of the present embodiment is higher than the radiant intensity curve 8 of the conventional infrared radiator made of cordierite. You can see that there is. Therefore, infrared radiation energy can be obtained with higher efficiency.

さらに、炭化珪素自体の熱伝導率は従来用いられてい
るコージライトに比べ良いために、第2図に示すような
各セラミックス粒子1間がガラス質材料にて結合され、
かつ、空間4が形成された構造の場合においても、より
エネルギー損失を少なくして有効に利用することができ
る。
Further, since the thermal conductivity of silicon carbide itself is better than that of cordierite conventionally used, the ceramic particles 1 are bonded by vitreous material as shown in FIG.
Further, even in the case of the structure in which the space 4 is formed, it is possible to effectively use the structure with less energy loss.

尚、第1図にて説明した前記ガラス層2のガラス質材
料として、K2O、Li2O、Al2O3、CaO、SiO2、NaO、B2O3
したが、それらとそれら以外のアルカリ金属酸化物,ア
ルカリ土類金属酸化物,リン酸,フッ化物,ホウ酸等の
少なくとも一種類を含む軟化点が1500℃以下のガラス質
材料を使用することにより同様な効果を得ることができ
る。
In addition, K 2 O, Li 2 O, Al 2 O 3 , CaO, SiO 2 , NaO, B 2 O 3 were used as the glassy material of the glass layer 2 described in FIG. A similar effect can be obtained by using a vitreous material having a softening point of 1500 ° C or less, including at least one of alkali metal oxides, alkaline earth metal oxides, phosphoric acid, fluoride, boric acid, etc. Can be.

又、ガラス質材料を選択することにより強度等の物性
を変えることができるので、目的に合せた物性値に調整
することが可能である。
Further, physical properties such as strength can be changed by selecting a vitreous material, so that it is possible to adjust the physical property values according to the purpose.

発明の効果 以上のように本発明の赤外線放射用発熱装置は、炭化
珪素を主成分とするセラミックス粒子の表面にガラス質
材料からなるガラス層を配設せしめて互いに隣接する前
記セラミックス粒子が結合され、かつ、そのセラミック
ス粒子間に空間が形成された多孔体状の赤外線放射体を
使用することにより、電気的絶縁性がある高効率の赤外
線放射エネルギーを得ることができた。さらに、前記空
間により熱衝撃に強い赤外線放射体が得られることがで
きた。さらに、熱伝導が良いため、よりエネルギー損失
が少なく高効率な赤外線放射体とすることができた。そ
の上、高温度の非酸化雰囲気中で焼成する必要がないの
で低コスト化が実現できた。
Effect of the Invention As described above, the heating device for infrared radiation of the present invention has a structure in which a glass layer made of a vitreous material is disposed on the surface of ceramic particles containing silicon carbide as a main component, and the ceramic particles adjacent to each other are bonded. In addition, by using a porous infrared radiator in which a space is formed between the ceramic particles, highly efficient infrared radiant energy having electrical insulation can be obtained. Further, an infrared radiator resistant to thermal shock could be obtained by the space. Furthermore, because of good heat conduction, an infrared radiator with less energy loss and high efficiency could be obtained. In addition, since firing in a non-oxidizing atmosphere at a high temperature is not necessary, cost reduction can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の一実施例における赤外線放射用発熱装
置の要部を模型的に示す断側面図、第2図は同装置の断
面図、第3図は同装置の一条件下における放射線強度曲
線図である。 1……セラミックス粒子、2……ガラス層、3……赤外
線放射体、4……空間、5……金属抵抗体。
FIG. 1 is a cross-sectional side view schematically showing a main part of a heating device for infrared radiation according to one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view of the device, and FIG. It is an intensity curve figure. 1 ceramic particles, 2 glass layers, 3 infrared radiators, 4 spaces, 5 metal resistors.

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】炭化珪素を主成分とするセラミックス粒子
がガラス質材料により結合され、かつ、そのセラミック
ス粒子間に空間が形成された赤外線放射体と、前記赤外
線放射体より赤外線を放射せしめるべく上記赤外線放射
体を加熱せしめるための発熱体とを備えたことを特徴と
する赤外線放射用発熱装置。
1. An infrared radiator in which ceramic particles containing silicon carbide as a main component are bonded by a vitreous material and a space is formed between the ceramic particles, and an infrared radiator for emitting infrared light from the infrared radiator. A heat generator for infrared radiation, comprising: a heat generator for heating the infrared radiator.
【請求項2】赤外線放射体は、炭化珪素を主成分とする
セラミックス粒子の平均粒径が2μm〜200μmである
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の赤外線放
射用発熱装置。
2. An infrared radiation heating device according to claim 1, wherein said infrared radiator has an average particle diameter of ceramic particles containing silicon carbide as a main component of 2 μm to 200 μm.
【請求項3】赤外線放射体は、軟化点が1500℃以下のア
ルカリ金属酸化物,アルカリ土類金属酸化物,アルミ
ナ,シリカ,リン酸,フッ化物,ホウ酸のうち少なくと
も一種類を含むガラス質材料であることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の赤外線放射用発熱装置。
3. The infrared radiator is a vitreous material containing at least one of an alkali metal oxide, an alkaline earth metal oxide, alumina, silica, phosphoric acid, fluoride, and boric acid having a softening point of 1500 ° C. or lower. 2. A heating device for infrared radiation according to claim 1, wherein the heating device is a material.
【請求項4】赤外線放射体は、炭化珪素を主成分とする
セラミックス粒子とガラス質材料の重量比が、それぞれ
9:1から5:5の比の間であることを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の赤外線放射用発熱装置。
4. The infrared radiator has a weight ratio of ceramic particles mainly composed of silicon carbide to a vitreous material.
2. A device according to claim 1, wherein the ratio is between 9: 1 and 5: 5.
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