JP2703262B2 - 露光焼付け用原版の製作法 - Google Patents
露光焼付け用原版の製作法Info
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- G03B27/00—Photographic printing apparatus
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2022—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
- G03F7/2032—Simultaneous exposure of the front side and the backside
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- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
- H01J9/142—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） この発明は、露光焼付け用原版の製作法に係り、たと
えばカラーブラウン管用シャドウマスクをフォト・エッ
チング法により製作する場合、そのシャドウマスクの両
面に形成された感光膜に所定のパターンを焼付けるため
の一対の露光焼付け用原版の製作法に関する。
えばカラーブラウン管用シャドウマスクをフォト・エッ
チング法により製作する場合、そのシャドウマスクの両
面に形成された感光膜に所定のパターンを焼付けるため
の一対の露光焼付け用原版の製作法に関する。
（従来の技術） シャドウマスク型カラーブラウン管は、第２図に示す
ように、パネル（１）およびファンネル（２）からなる
外囲器（３）を有し、そのパネル（１）の内面に形成さ
れた３色蛍光体層からなる蛍光面（４）に対向して、そ
の内側にシャドウマスク（５）が装着されている。この
シャドウマスク（５）は、ファンネル（２）のネット
（６）内に配設された電子銃（７）から放出された３電
子ビームを選択して、上記３色蛍光体層に正しく射突さ
せるためのものであり、上記蛍光面（４）と対向するマ
スク本体（９）には、第３図に示すように、多数の円形
あるいはスロット状などの電子ビーム通過孔（10）が所
定の配列で形成されている。その各電子ビーム通過孔
（10）の断面形状は、蛍光面側の開口（11）が電子銃側
の開口（12）より大きく、かつ両開口（11），（12）を
同軸にして、その中間部に最小径部をもつ鼓形に形成さ
れている。
ように、パネル（１）およびファンネル（２）からなる
外囲器（３）を有し、そのパネル（１）の内面に形成さ
れた３色蛍光体層からなる蛍光面（４）に対向して、そ
の内側にシャドウマスク（５）が装着されている。この
シャドウマスク（５）は、ファンネル（２）のネット
（６）内に配設された電子銃（７）から放出された３電
子ビームを選択して、上記３色蛍光体層に正しく射突さ
せるためのものであり、上記蛍光面（４）と対向するマ
スク本体（９）には、第３図に示すように、多数の円形
あるいはスロット状などの電子ビーム通過孔（10）が所
定の配列で形成されている。その各電子ビーム通過孔
（10）の断面形状は、蛍光面側の開口（11）が電子銃側
の開口（12）より大きく、かつ両開口（11），（12）を
同軸にして、その中間部に最小径部をもつ鼓形に形成さ
れている。
従来より、このシャドウマスク（５）の電子ビーム通
過孔（10）はフォト・エッチング法により形成されてい
る。すなわち、低炭素鋼などからなる板状のシャドウマ
スク素材の両面に感光膜を形成し、この両面の感光膜に
上記電子ビーム通過孔の各開口に対応するパターンが形
成された一対の原版を密着して露光することにより、両
面の感光膜に原版のパターンを焼付ける。そしてその露
光された感光膜を現像して未感光部分を除去し、上記原
版のパターンに対応するパターンをもつレジスト膜を形
成する。つぎにこのレジスト膜の形成されたシャドウマ
スク素材を両面からエッチングして、両面間を貫通する
開口を形成して電子ビーム通過孔としている。
過孔（10）はフォト・エッチング法により形成されてい
る。すなわち、低炭素鋼などからなる板状のシャドウマ
スク素材の両面に感光膜を形成し、この両面の感光膜に
上記電子ビーム通過孔の各開口に対応するパターンが形
成された一対の原版を密着して露光することにより、両
面の感光膜に原版のパターンを焼付ける。そしてその露
光された感光膜を現像して未感光部分を除去し、上記原
版のパターンに対応するパターンをもつレジスト膜を形
成する。つぎにこのレジスト膜の形成されたシャドウマ
スク素材を両面からエッチングして、両面間を貫通する
開口を形成して電子ビーム通過孔としている。
ところで、上記方法により第３図に示したように両面
の開口（11），（12）が同軸の電子ビーム通過孔（10）
を形成するためには、第４図に示すように、露光の際、
一対の原版（14a），（14b）のパターンを同軸に合致さ
せてシャドウマスク素材（15）の両面の感光膜（16）に
密着して配置しなければならない。しかしながら、各原
版（14a），（14b）に形成されているパターンを全面に
わたり完全に合致させることは、原版の製作技術上、き
わめて困難である。
の開口（11），（12）が同軸の電子ビーム通過孔（10）
を形成するためには、第４図に示すように、露光の際、
一対の原版（14a），（14b）のパターンを同軸に合致さ
せてシャドウマスク素材（15）の両面の感光膜（16）に
密着して配置しなければならない。しかしながら、各原
版（14a），（14b）に形成されているパターンを全面に
わたり完全に合致させることは、原版の製作技術上、き
わめて困難である。
すなわち、上記一対の原版（14a），（14b）は、第５
図（Ａ）に示すように、フォト・プロッターによりネガ
型の乾版上に電子ビーム通過孔の一方の開口、たとえば
蛍光面側開口に対応するパターンを描画し、これを現像
して第１ネガパターン（17a）を形成し、つぎに、この
第１ネガパターン（17a）を同じネガ型の乾版に密着焼
付け、現像してポジパターン（18a）を形成する。そし
て、このポジパターン（18a）をマスターとして、ネガ
型の乾版に密着焼付く、現像して第２ネガパターン（19
a）を形成し、第１の露光焼付け用原版（14a）とする。
また、電子銃側開口に対応するパターンをもつ第２の露
光焼付け用原版（14b）のパターンについても、同
（Ｂ）に対応記号（17b）〜（19b）で示すように、フォ
ト・プロッターにより描画し、現像して得られるパター
ン（17b）の大きさが異なるのみで、同一工程により形
成される。
図（Ａ）に示すように、フォト・プロッターによりネガ
型の乾版上に電子ビーム通過孔の一方の開口、たとえば
蛍光面側開口に対応するパターンを描画し、これを現像
して第１ネガパターン（17a）を形成し、つぎに、この
第１ネガパターン（17a）を同じネガ型の乾版に密着焼
付け、現像してポジパターン（18a）を形成する。そし
て、このポジパターン（18a）をマスターとして、ネガ
型の乾版に密着焼付く、現像して第２ネガパターン（19
a）を形成し、第１の露光焼付け用原版（14a）とする。
また、電子銃側開口に対応するパターンをもつ第２の露
光焼付け用原版（14b）のパターンについても、同
（Ｂ）に対応記号（17b）〜（19b）で示すように、フォ
ト・プロッターにより描画し、現像して得られるパター
ン（17b）の大きさが異なるのみで、同一工程により形
成される。
一対の露光焼付け用原版（14a），（14b）を上記工程
により製作する理由は、第１に、第１ネガパターン（17
a），（17b）を反転してポジパターン（18a），（18b）
とすることにより、パターン寸法の僅小なばらつきやパ
ターンの凹凸などの欠点が原因で生ずるむらを容易に見
付け出すことができるためである。つまり、フォト・プ
ロッターから形成されるネガパターン（17a），（17b）
は、光透過率が大きく、むらや欠点を見付けにくいが、
ポジパターン（18a），（18b）は、光透過率が低く、パ
ターンのむらや欠点を比較的容易に見付け出すことがで
きるためである。第２に、ポジパターン（18a），（18
b）をマスターとすると、直接シャドウマスクの露光焼
付けに使用される露光焼付け用原版（14a），（14b）を
任意に多数製作できるためである。従来、一般民生用カ
ラーブラウン管のシャドウマスクについては、上記方法
により作製された一対の原版により、所要形状、精度の
電子ビーム通過孔を形成することができた。しかし、デ
ィスプレイ管などの高解像度を必要とするカラーブラウ
ン管のシャドウマスクについては、上記一般民生用カラ
ーブラウン管のシャドウマスクにくらぺて、電子ビーム
通過孔の配列ピッチが小さく、それにしたがって電子ビ
ーム通過孔の開口径も小さく、高精細化されているた
め、上記方法により作製された原版では、所要形状、精
度の電子ビーム通過孔を形成することが困難である。
により製作する理由は、第１に、第１ネガパターン（17
a），（17b）を反転してポジパターン（18a），（18b）
とすることにより、パターン寸法の僅小なばらつきやパ
ターンの凹凸などの欠点が原因で生ずるむらを容易に見
付け出すことができるためである。つまり、フォト・プ
ロッターから形成されるネガパターン（17a），（17b）
は、光透過率が大きく、むらや欠点を見付けにくいが、
ポジパターン（18a），（18b）は、光透過率が低く、パ
ターンのむらや欠点を比較的容易に見付け出すことがで
きるためである。第２に、ポジパターン（18a），（18
b）をマスターとすると、直接シャドウマスクの露光焼
付けに使用される露光焼付け用原版（14a），（14b）を
任意に多数製作できるためである。従来、一般民生用カ
ラーブラウン管のシャドウマスクについては、上記方法
により作製された一対の原版により、所要形状、精度の
電子ビーム通過孔を形成することができた。しかし、デ
ィスプレイ管などの高解像度を必要とするカラーブラウ
ン管のシャドウマスクについては、上記一般民生用カラ
ーブラウン管のシャドウマスクにくらぺて、電子ビーム
通過孔の配列ピッチが小さく、それにしたがって電子ビ
ーム通過孔の開口径も小さく、高精細化されているた
め、上記方法により作製された原版では、所要形状、精
度の電子ビーム通過孔を形成することが困難である。
その理由は、高解像度カラーブラウン管用シャドウマ
スクを製造するための一対の露光焼付け用原版は、第６
図に示すように、第１の原版のパターン、すなわち電子
ビーム通過孔の蛍光面側の開口に対応するパターン（19
a）と、第２の原版のパターン、すなわち電子銃側の開
口に対応するバターン（19b）との差ｓ（余裕度）が小
さいために、両パターン（19a），（19b）のずれが大き
くひびき、ずれの許容誤差３μｍ以下に合致させること
ができないためである。
スクを製造するための一対の露光焼付け用原版は、第６
図に示すように、第１の原版のパターン、すなわち電子
ビーム通過孔の蛍光面側の開口に対応するパターン（19
a）と、第２の原版のパターン、すなわち電子銃側の開
口に対応するバターン（19b）との差ｓ（余裕度）が小
さいために、両パターン（19a），（19b）のずれが大き
くひびき、ずれの許容誤差３μｍ以下に合致させること
ができないためである。
この一対の原版パターンのずれの発生原因を調査した
結果、その原因は、対の原版を製作する際の最初のフォ
ト・プロッターの描画に問題があることが判明した。す
なわち、第７図（Ａ）および（Ｂ）に示すように、フォ
ト・プロッターにより乾版に電子ビーム通過孔の開口に
対応するパターン（17a），（17b）を描画するとき、一
対の原版は、いずれも同一方向、すなわち第１列から第
ｎ列の方向に順次描画され、フォト・プロッターの機
能、精度から、たとえば第ｎ列で示した最外列のパター
ンの配列は、全く同一にずれた状態になる。そのずれ量
は、たとえば20インチ・カラーブラウン管用で５〜７μ
ｍとなる。そして、上記フォト・プロッターで描画する
とき、両パターン（17a），（17b）はともに乾版の乳剤
面を上面にして描画される。そしてその後、繰返しおこ
なわれる転写は、乾版の乳剤面を向い合わせておこなわ
れるが、第８図および第９図に示すように、製作された
一対の露光焼付け用原版（14a），（14b）を実際にシャ
ドウマスクの露光焼付けに使用するときは、パターン
（19a），（19b）の形成されている乳剤面（20a），（2
0b）がシャドウマスク素材の両面の感光膜に密着するよ
うに向い合わせて使用される。その結果、シャドウマス
クの露光焼付け時には、第１の原版（14a）の第１列と
第２の原版（14b）の第ｎ列とが対向することになり、
上記ずれのために、その対向する第１の原版（14a）の
第１列のパターン（19a）と第２の原版（14b）の第ｎ列
のパターン（19b）とが合致しなくなるためである。
結果、その原因は、対の原版を製作する際の最初のフォ
ト・プロッターの描画に問題があることが判明した。す
なわち、第７図（Ａ）および（Ｂ）に示すように、フォ
ト・プロッターにより乾版に電子ビーム通過孔の開口に
対応するパターン（17a），（17b）を描画するとき、一
対の原版は、いずれも同一方向、すなわち第１列から第
ｎ列の方向に順次描画され、フォト・プロッターの機
能、精度から、たとえば第ｎ列で示した最外列のパター
ンの配列は、全く同一にずれた状態になる。そのずれ量
は、たとえば20インチ・カラーブラウン管用で５〜７μ
ｍとなる。そして、上記フォト・プロッターで描画する
とき、両パターン（17a），（17b）はともに乾版の乳剤
面を上面にして描画される。そしてその後、繰返しおこ
なわれる転写は、乾版の乳剤面を向い合わせておこなわ
れるが、第８図および第９図に示すように、製作された
一対の露光焼付け用原版（14a），（14b）を実際にシャ
ドウマスクの露光焼付けに使用するときは、パターン
（19a），（19b）の形成されている乳剤面（20a），（2
0b）がシャドウマスク素材の両面の感光膜に密着するよ
うに向い合わせて使用される。その結果、シャドウマス
クの露光焼付け時には、第１の原版（14a）の第１列と
第２の原版（14b）の第ｎ列とが対向することになり、
上記ずれのために、その対向する第１の原版（14a）の
第１列のパターン（19a）と第２の原版（14b）の第ｎ列
のパターン（19b）とが合致しなくなるためである。
（発明が解決しようとする課題） 上記のように、従来、カラーブラウン管用シャドウマ
スクの露光に使用される一対の原版は、それぞれフォト
・プロッターによりネガ型の乾版上にシャドウマスクの
電子ビーム通過孔の開口に対応するパターン描画し、一
旦これをポジパターンとし、このポジパターンをマスタ
ーとして、実際にシャドウマスクの露光に使用する原版
を製作している。しかし、このような方法により一対の
露光焼付け用原版を製作すると、両原版間にパターンず
れが生じ、特に高解像度カラーブラウン管用シャドウマ
スクのように、電子ビーム通過孔の配列ピッチが小さ
く、それにつれて開口径の小さい電子ビーム通過孔を所
定形状、精度で形成することが困難となる。
スクの露光に使用される一対の原版は、それぞれフォト
・プロッターによりネガ型の乾版上にシャドウマスクの
電子ビーム通過孔の開口に対応するパターン描画し、一
旦これをポジパターンとし、このポジパターンをマスタ
ーとして、実際にシャドウマスクの露光に使用する原版
を製作している。しかし、このような方法により一対の
露光焼付け用原版を製作すると、両原版間にパターンず
れが生じ、特に高解像度カラーブラウン管用シャドウマ
スクのように、電子ビーム通過孔の配列ピッチが小さ
く、それにつれて開口径の小さい電子ビーム通過孔を所
定形状、精度で形成することが困難となる。
この発明は、上記問題点を解決するためになされたも
のであり、被露光部材の両面に形成された感光膜に所定
のパターンを焼付けるための一対の露光焼付用原版の各
パターンを精度よく合致できる露光焼付け用原版の製作
法を得ることを目的とする。
のであり、被露光部材の両面に形成された感光膜に所定
のパターンを焼付けるための一対の露光焼付用原版の各
パターンを精度よく合致できる露光焼付け用原版の製作
法を得ることを目的とする。
（課題を解決するための手段） 板状被露光部材の両面に形成された感光膜に対向また
は密着して配置される第１、第２の原版からなる一対の
露光焼付け用原版のそれぞれに同軸のネガパターンを形
成する露光焼付け用原版の製作法において、第１の原版
の製作には、フォト・プロッターにより描画されたネガ
パターンからポジパターンを形成し、このポジパターン
から反転密着焼付けにより上記露光焼付け用原版のネガ
パターンを形成する工程を有するとともに、第２の原版
の製作には、フォト・プロッターにより描画されたネガ
パターンからポジ型の乾版を使用して上記露光焼付け用
原版のネガパターンを形成する工程を有するようにし
た。
は密着して配置される第１、第２の原版からなる一対の
露光焼付け用原版のそれぞれに同軸のネガパターンを形
成する露光焼付け用原版の製作法において、第１の原版
の製作には、フォト・プロッターにより描画されたネガ
パターンからポジパターンを形成し、このポジパターン
から反転密着焼付けにより上記露光焼付け用原版のネガ
パターンを形成する工程を有するとともに、第２の原版
の製作には、フォト・プロッターにより描画されたネガ
パターンからポジ型の乾版を使用して上記露光焼付け用
原版のネガパターンを形成する工程を有するようにし
た。
（作用） 上記のように一対の露光焼付け用原版のうち、第１の
原版の製作は、フォト・プロッターにより描画されたネ
ガパターンからポジパターンを形成し、このポジパター
ンから反転密着焼付けにより露光焼付け用原版のネガパ
ターンを形成する工程を有し、第２の原版の製作には、
フォト・プロッターにより描画されたネガパターンから
ポジ型の乾版を使用して露光焼付け用原版のネガパター
ンを形成する工程を有するようにすると、フォト・プロ
ッターにより描画された両ネガパターンにずれがあって
も、乳剤面を向い合わせて使用される露光焼付け用原版
については、両パターンを精度よく合致させることがで
きる。
原版の製作は、フォト・プロッターにより描画されたネ
ガパターンからポジパターンを形成し、このポジパター
ンから反転密着焼付けにより露光焼付け用原版のネガパ
ターンを形成する工程を有し、第２の原版の製作には、
フォト・プロッターにより描画されたネガパターンから
ポジ型の乾版を使用して露光焼付け用原版のネガパター
ンを形成する工程を有するようにすると、フォト・プロ
ッターにより描画された両ネガパターンにずれがあって
も、乳剤面を向い合わせて使用される露光焼付け用原版
については、両パターンを精度よく合致させることがで
きる。
（実施例） 以下、図面を参照してこの発明を実施例に基づいて説
明する。
明する。
第１図にこの発明の一実施例であるカラーブラウン管
用シャドウマスクの露光焼付けに使用される一対の原版
の製作法を示す。第１図（Ａ）に示すように、一対の原
版のうち、第１の原版の製作は、従来の原版の製作法と
同様に、フォト・プロッターにより、ネガ型の乾版上に
シャドウマスクの電子ビーム通過孔の蛍光面側開口に対
応するパターンを描画し、これを現像して第１ネガパタ
ーン（17a）を形成する。つぎに、この第１ネガパター
ン（17a）を同じネガ型の乾版の乳剤面と向い合わせて
密着焼付け、現像してポジパターン（18a）を形成す
る。そして、このポジパターン（18a）をマスターとし
て、同様にネガ型の乾版の乳剤面と向い合わせて密着焼
付け、現像して第２ネガパターン（19a）を形成し、第
１の露光焼付け用原版（14a）とする。
用シャドウマスクの露光焼付けに使用される一対の原版
の製作法を示す。第１図（Ａ）に示すように、一対の原
版のうち、第１の原版の製作は、従来の原版の製作法と
同様に、フォト・プロッターにより、ネガ型の乾版上に
シャドウマスクの電子ビーム通過孔の蛍光面側開口に対
応するパターンを描画し、これを現像して第１ネガパタ
ーン（17a）を形成する。つぎに、この第１ネガパター
ン（17a）を同じネガ型の乾版の乳剤面と向い合わせて
密着焼付け、現像してポジパターン（18a）を形成す
る。そして、このポジパターン（18a）をマスターとし
て、同様にネガ型の乾版の乳剤面と向い合わせて密着焼
付け、現像して第２ネガパターン（19a）を形成し、第
１の露光焼付け用原版（14a）とする。
これに対し、第２の原版の製作には、まずフォト・プ
ロッターにより、ネガ型の乾版上にシャドウマスクの電
子ビーム通過孔の電子銃側開口に対応するパターンを描
画し、これを現像して第１ネガパターン（17b）を形成
する。つぎに、この第１ネガパターン（17b）をポジ型
の乾版の乳剤面と向い合わせて密着焼付け、現像して、
第２ネガパターン（19b）を形成する。これを第２の露
光焼付け用原版（14b）とすることができる。
ロッターにより、ネガ型の乾版上にシャドウマスクの電
子ビーム通過孔の電子銃側開口に対応するパターンを描
画し、これを現像して第１ネガパターン（17b）を形成
する。つぎに、この第１ネガパターン（17b）をポジ型
の乾版の乳剤面と向い合わせて密着焼付け、現像して、
第２ネガパターン（19b）を形成する。これを第２の露
光焼付け用原版（14b）とすることができる。
ところで、上記のように第１の露光焼付け用原版（14
a）を、第１ネガパターンを描画→ポジパターンに反転
→第２ネガパターンに反転、の方法により製作し、一
方、第２の露光焼付け用原版（14b）を、第１ネガパタ
ーンを描画→第２ネガバターンを転写、の方法により製
作して一対の露光焼付け用原版（14a），（14b）を製作
すると、フォト・プロッターにより描画されるパターン
に同一方向のずれがあっても、最終的に乳剤面同士を向
い合わせて使用されるシャドウマスクの露光焼付けに使
用される一対の原版（14a），（14b）については、パタ
ーン（19a），（19b）のずれが同一方向となるため、両
パターン（19a），（19b）を精度よく合致させることが
できる。
a）を、第１ネガパターンを描画→ポジパターンに反転
→第２ネガパターンに反転、の方法により製作し、一
方、第２の露光焼付け用原版（14b）を、第１ネガパタ
ーンを描画→第２ネガバターンを転写、の方法により製
作して一対の露光焼付け用原版（14a），（14b）を製作
すると、フォト・プロッターにより描画されるパターン
に同一方向のずれがあっても、最終的に乳剤面同士を向
い合わせて使用されるシャドウマスクの露光焼付けに使
用される一対の原版（14a），（14b）については、パタ
ーン（19a），（19b）のずれが同一方向となるため、両
パターン（19a），（19b）を精度よく合致させることが
できる。
なお、上記のように第２の露光焼付け用原版（14b）
を、一旦ポジパターンに反転することなく製作すると、
パターン寸法の僅小なばらつきやパターンの凹凸などの
欠点が原因で生ずるむらを見付け出しにくいが、これ
は、たとえば第２ネガパターン（19b）またはフォト・
プロッターにより描画された第１ネガパターン（17b）
をポジ型の乾版を使用して反転密着焼付けによりポジパ
ターンを形成することにより、このポジパターンに基づ
いて検査することができるし、またこのポジパターンを
マスターとして、さらにネガ型の乾版を使用して、反転
密着焼付けにより第３のネガパターンを形成し、これを
第２の露光焼付け用原版とすることもできる。このよう
にすることにより、第２の露光焼付け用原版を任意に多
数製作することができる。
を、一旦ポジパターンに反転することなく製作すると、
パターン寸法の僅小なばらつきやパターンの凹凸などの
欠点が原因で生ずるむらを見付け出しにくいが、これ
は、たとえば第２ネガパターン（19b）またはフォト・
プロッターにより描画された第１ネガパターン（17b）
をポジ型の乾版を使用して反転密着焼付けによりポジパ
ターンを形成することにより、このポジパターンに基づ
いて検査することができるし、またこのポジパターンを
マスターとして、さらにネガ型の乾版を使用して、反転
密着焼付けにより第３のネガパターンを形成し、これを
第２の露光焼付け用原版とすることもできる。このよう
にすることにより、第２の露光焼付け用原版を任意に多
数製作することができる。
一具体例として、20インチ高解像度カラーブラウン管
用シャドウマスクの露光に使用される一対の露光焼付け
用原版として、ドット状のパターンを備え、その第1,第
２の原版のパターン直径をそれぞれ0.130mm、0.060mm、
パターン・ピッチを0.250mmとする原版を上記方法によ
り製作した結果、一対の原版のパターンずれを全面にわ
たり３μｍ以下に抑えることができた。
用シャドウマスクの露光に使用される一対の露光焼付け
用原版として、ドット状のパターンを備え、その第1,第
２の原版のパターン直径をそれぞれ0.130mm、0.060mm、
パターン・ピッチを0.250mmとする原版を上記方法によ
り製作した結果、一対の原版のパターンずれを全面にわ
たり３μｍ以下に抑えることができた。
なお、上記実施例では、一対の原版のうち、第１の原
版のパターンをシャドウマスクの電子ビーム通過孔の蛍
光面側開口に対応する大径のパターンとし、第２の原版
のパターンを電子銃側開口に対応する小径のパターンと
するものについて述べたが、この発明の露光焼付け用原
版の製作法は、第１の原版のパターンを電子ビーム通過
孔の電子銃側開口に対応する小径のパターンとし、第２
の原版のパターンを蛍光面側開口に対応する大径のパタ
ーンとして形成してもよい。
版のパターンをシャドウマスクの電子ビーム通過孔の蛍
光面側開口に対応する大径のパターンとし、第２の原版
のパターンを電子銃側開口に対応する小径のパターンと
するものについて述べたが、この発明の露光焼付け用原
版の製作法は、第１の原版のパターンを電子ビーム通過
孔の電子銃側開口に対応する小径のパターンとし、第２
の原版のパターンを蛍光面側開口に対応する大径のパタ
ーンとして形成してもよい。
なおまた、この発明は、カラーブラウン管用シャドウ
マスクの露光に使用される露光焼付用原版ばかりでな
く、他の板状被露光部材の両面に形成された感光膜に対
向または密着して配置される一対の露光焼付け用原版の
製作にも適用できる。
マスクの露光に使用される露光焼付用原版ばかりでな
く、他の板状被露光部材の両面に形成された感光膜に対
向または密着して配置される一対の露光焼付け用原版の
製作にも適用できる。
板状被露光部材の両面に形成された感光膜に対向また
は密着して配置される第１、第２の原版からなる一対の
露光焼付け用原版のそれぞれに同軸のネガパターンを形
成するに際し、第１の原版の製作を、フォト・プロッタ
ーにより描画されたネガバターンからポジパターンを形
成し、このポジパターンから反転密着焼付けにより露光
焼付け用原版のネガパターンを形成する工程でおこな
い、第２の原版の製作を、フォト・プロッターにより描
画されたネガパターンからポジ型の乾版を使用して露光
焼付け用原版のネガパターンを形成する工程でおこなう
と、フォト・プロッターにより描画された両ネガパター
ンにずれが生じても、乳剤面を向い合わせて使用される
露光焼付け用原版については、パターンを精度よく合致
させることができる。
は密着して配置される第１、第２の原版からなる一対の
露光焼付け用原版のそれぞれに同軸のネガパターンを形
成するに際し、第１の原版の製作を、フォト・プロッタ
ーにより描画されたネガバターンからポジパターンを形
成し、このポジパターンから反転密着焼付けにより露光
焼付け用原版のネガパターンを形成する工程でおこな
い、第２の原版の製作を、フォト・プロッターにより描
画されたネガパターンからポジ型の乾版を使用して露光
焼付け用原版のネガパターンを形成する工程でおこなう
と、フォト・プロッターにより描画された両ネガパター
ンにずれが生じても、乳剤面を向い合わせて使用される
露光焼付け用原版については、パターンを精度よく合致
させることができる。
第１図はこの発明の一実施例であるカラーブラウン管用
シャドウマスクの露光焼付けに使用される一対の露光焼
付け用原版の製作法説明図で、（Ａ）は第１の原版の製
作法説明図、（Ｂ）は第２の原版の製作法説明図、第２
図はカラーブラウン管の構成説明図、第３図はそのシャ
ドウマスクの電子ビーム通過孔の形状を示す断面図、第
４図はシャドウマスクの露光の際、シャドウマスク素材
の両面に形成された感光膜に密着して配置される一対の
露光焼付け用原版の配置を示す図、第５図は従来のカラ
ーブラウン管用シャドウマスクの露光焼付けに使用され
る一対の露光焼付け用原版の製作法説明図で、（Ａ）は
第１の原版の製作法説明図、（Ｂ）は第２の原版の製作
法説明図、第６図は一対の露光焼付け用原版のパターン
の余裕度を示す図、第７図はフォト・プロッターにより
描画されたパターンのずれ説明図で、（Ａ）は第１の原
版を製作するために描画されるパターンのずれを示す
図、（Ｂ）は第２の原版を製作するために描画されるパ
ターンのずれを示す図、第８図および第９図はそれぞれ
一対の露光焼付け用原版間に生ずるパターンのずれを説
明するための図である。 14a……第１の原版 14b……第２の原版 17a……第１ネガパターン 17b……第２ネガパターン 18a……ポジパターン 19a,19b……第２ネガパターン
シャドウマスクの露光焼付けに使用される一対の露光焼
付け用原版の製作法説明図で、（Ａ）は第１の原版の製
作法説明図、（Ｂ）は第２の原版の製作法説明図、第２
図はカラーブラウン管の構成説明図、第３図はそのシャ
ドウマスクの電子ビーム通過孔の形状を示す断面図、第
４図はシャドウマスクの露光の際、シャドウマスク素材
の両面に形成された感光膜に密着して配置される一対の
露光焼付け用原版の配置を示す図、第５図は従来のカラ
ーブラウン管用シャドウマスクの露光焼付けに使用され
る一対の露光焼付け用原版の製作法説明図で、（Ａ）は
第１の原版の製作法説明図、（Ｂ）は第２の原版の製作
法説明図、第６図は一対の露光焼付け用原版のパターン
の余裕度を示す図、第７図はフォト・プロッターにより
描画されたパターンのずれ説明図で、（Ａ）は第１の原
版を製作するために描画されるパターンのずれを示す
図、（Ｂ）は第２の原版を製作するために描画されるパ
ターンのずれを示す図、第８図および第９図はそれぞれ
一対の露光焼付け用原版間に生ずるパターンのずれを説
明するための図である。 14a……第１の原版 14b……第２の原版 17a……第１ネガパターン 17b……第２ネガパターン 18a……ポジパターン 19a,19b……第２ネガパターン
Claims (1)
- 【請求項１】板状被露光部材の両面に形成された感光膜
に対向または密着して配置される第１、第２の原版から
なる一対の露光焼付け用原版のそれぞれに同軸のネガパ
ターンを形成する露光焼付け用原版の製作法において、
上記第１の原版の製作にはフォト・プロッターにより描
画されたネガパターンからポジパターンを形成し、この
ポジパターンから反転密着焼付けにより上記露光焼付け
用原版のネガパターンを形成する工程を有するととも
に、上記第２の原版の製作にはフォト・プロッターによ
り描画されたネガパターンからポジ型の乾版を使用して
上記露光焼付け用原版のネガパターンを形成する工程を
有ることを特徴とする露光焼付け用原版の製作法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12491188A JP2703262B2 (ja) | 1988-05-24 | 1988-05-24 | 露光焼付け用原版の製作法 |
| CN89102822A CN1028916C (zh) | 1988-05-24 | 1989-04-24 | 曝光印相用原版的制作方法 |
| DE68923994T DE68923994T2 (de) | 1988-05-24 | 1989-05-23 | Verfahren zur Herstellung von Druckplatten. |
| KR1019890006947A KR940001951B1 (ko) | 1988-05-24 | 1989-05-23 | 노광프린트용 원판의 제작방법 |
| EP89109291A EP0343609B1 (en) | 1988-05-24 | 1989-05-23 | Method of manufacturing main plates for exposure printing |
| US07/015,291 US5336587A (en) | 1988-05-24 | 1993-02-08 | Method of manufacturing main plates for exposure printing |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12491188A JP2703262B2 (ja) | 1988-05-24 | 1988-05-24 | 露光焼付け用原版の製作法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01295260A JPH01295260A (ja) | 1989-11-28 |
| JP2703262B2 true JP2703262B2 (ja) | 1998-01-26 |
Family
ID=14897165
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12491188A Expired - Fee Related JP2703262B2 (ja) | 1988-05-24 | 1988-05-24 | 露光焼付け用原版の製作法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0343609B1 (ja) |
| JP (1) | JP2703262B2 (ja) |
| KR (1) | KR940001951B1 (ja) |
| CN (1) | CN1028916C (ja) |
| DE (1) | DE68923994T2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3973964A (en) * | 1974-12-23 | 1976-08-10 | Zenith Radio Corporation | Method for manufacturing a color cathode ray tube and for making screening and mask masters used therein |
-
1988
- 1988-05-24 JP JP12491188A patent/JP2703262B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-04-24 CN CN89102822A patent/CN1028916C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1989-05-23 EP EP89109291A patent/EP0343609B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-05-23 DE DE68923994T patent/DE68923994T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-05-23 KR KR1019890006947A patent/KR940001951B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1038357A (zh) | 1989-12-27 |
| DE68923994T2 (de) | 1996-02-01 |
| DE68923994D1 (de) | 1995-10-05 |
| KR890017573A (ko) | 1989-12-16 |
| EP0343609A3 (en) | 1991-07-17 |
| EP0343609A2 (en) | 1989-11-29 |
| EP0343609B1 (en) | 1995-08-30 |
| KR940001951B1 (ko) | 1994-03-12 |
| JPH01295260A (ja) | 1989-11-28 |
| CN1028916C (zh) | 1995-06-14 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |