JPH08329839A - カラーブラウン管用シャドウマスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 蛍光体スクリーンの光吸収層のマトリックス
ホールや蛍光体層を円形にすることができるシャドウマ
スクの製造方法を得ることを目的とする。 【構成】 シャドウマスクの製造方法において、シャド
ウマスク素材の一方の面に形成された感光膜に密着する
第１ネガ版45a の大孔用パターン51をネガ版の放射方向
に円形ドットをずらして２度打ちしたピーナッツ形状と
し、第２ネガ版45b の小孔用パターン52を円形とし、こ
れら第１、第２ネガ版を用いてシャドウマスク素材板に
電子ビームの軌道方向からみて円形をなす電子ビーム通
過孔を形成した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、カラーブラウン管用
シャドウマスクの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、カラーブラウン管は、図６に示
すように、ほぼ矩形状のパネル１とこのパネル１に一体
に接合された漏斗状のファンネル２とからなる外囲器を
有し、そのパネル１の内面に、青、緑、赤に発光する３
色蛍光体層からなる蛍光体スクリーン３が形成され、こ
の蛍光体スクリーン３と所定間隔離れて、その内側にほ
ぼ矩形状のシャドウマスク４が配置されている。このシ
ャドウマスク４は、ほぼ矩形状のマスク本体５とこのマ
スク本体５の周辺部に取付けられたほぼ矩形状のマスク
フレーム６とからなる。そのマスク本体５の蛍光体スク
リーン３と対向する主面部には、所定の配列ピツチで多
数の電子ビーム通過孔が形成されている。一方、ファン
ネル２のネック８内に、３電子ビーム９を放出する電子
銃１０が配設されている。そして、この電子銃１０から
放出される３電子ビーム９をファンネル２の外側に装着
された偏向装置１１の発生する水平、垂直偏向磁界によ
り偏向し、シャドウマスク４の電子ビーム通過孔を介し
て蛍光体スクリーン３を水平、垂直走査することによ
り、カラー画像を表示する構造に形成されている。

【０００３】このようなカラーブラウン管のうち、特に
ＯＡ機器などの情報表示に用いられるディスプレー用カ
ラーブラウン管については、シャドウマスク４の電子ビ
ーム通過孔は円形に形成され、これに対応して蛍光体ス
クリーン３は、図７に示すように、マトリックス状の黒
色光吸収層１３のマトリックスホールに埋込まれるよう
にドット状の３色蛍光体層１４B ，１４G ，１４R が設
けられた構造に形成されている。

【０００４】通常上記シャドウマスクの電子ビーム通過
孔は、図８に示すように、蛍光体スクリーンと対向する
一方の面側に形成された大孔１６と他方の面側（電子銃
側）に形成された小孔１７が連通し、その連通部１８の
孔径が最も小さい連通孔からなり、電子ビーム通過孔１
９の孔径、形状は、実質的にその大孔１６と小孔１７と
の連通部１８により決定され、上記シャドウマスク４で
は、その連通部１８が円形となっている。

【０００５】ところで、上記のようにシャドウマスク４
の電子ビーム通過孔１９が円形であるカラーブラウン管
は、本来真円であるべき蛍光体スクリーン３の光吸収層
１３のマトリックスホール（および蛍光体層１４B ，１
４G ，１４R ）が真円にならないという問題がある。

【０００６】すなわち、一般にカラーブラウン管の蛍光
体スクリーンは、シャドウマスクを蛍光体スクリーン形
成用フォトマスクとして写真印刷法により形成され、そ
の一工程として、図９に示すように、パネル１の内面に
塗布形成された感光膜や感光性蛍光体スラリ層などの蛍
光体スクリーン形成被膜２１に、カラーブラウン管の電
子銃に対応する位置に配置された光源２２から放射され
る光２３により、シャドウマスク４を介して露光し、シ
ャドウマスク４の電子ビーム通過孔に対応するパターン
を焼付ける工程があり、そのパターンの焼付けられた部
分に光吸収層のマトリックスホールや蛍光体層が形成さ
れる。なお、図９において、２４は、光源２２から放射
される光２３の軌道をカラーブラウン管の電子銃から放
出される電子ビームの軌道に近似させる補正レンズ、２
５は、パネル１内面における光量分布を補正する補正フ
ィルターである。

【０００７】しかし上記方法により、電子ビーム通過孔
が円形であるシャドウマスク４を用いて蛍光体スクリー
ンを形成すると、光源２２から放射される光２３は、パ
ネル１の中央以外ではシャドウマスク４の電子ビーム通
過孔を斜めに横切ってパネル１の内面に達する。そのた
め、蛍光体スクリーン形成被膜２１に投影されるシャド
ウマスク４の電子ビーム通過孔に対応するパターンは、
パネル１の放射方向を短径とする楕円状に歪み、パネル
１の内面に形成される光吸収層のマトリックスホールや
蛍光体層が、図１０に光吸収層のマトリックスホール２
７について示すように、パネル１の放射方向を短径とす
る楕円状となり、ホワイト・ユニフォーミティや色純度
などを劣化させる。

【０００８】この光吸収層のマトリックスホール２７や
蛍光体層の楕円化を防止するためには、シャドウマスク
４の中央以外の電子ビーム通過孔をシャドウマスク４の
放射方向を長径とする楕円状にすればよいが、従来技術
では、このようなシャドウマスクを製造することが困難
である。

【０００９】すなわち、従来シャドウマスクの電子ビー
ム通過孔は、フォトエッチング法により形成され、図１
１に示すように、シャドウマスク素材板３０の両面に感
光膜３１を塗布形成し、その一方の面の感光膜３１に、
図１２（ａ）に示すように、図８に示した電子ビーム通
過孔１９の大孔１６に対応する円形ドット状のパターン
３２a の形成された第１ネガ版３３a （シャドウマスク
形成用第１フォトマスク）、他方の面の感光膜３１に、
図８に示した電子ビーム通過孔１９の小孔１７に対応す
る円形ドット状のパターンの形成された第２ネガ版３３
b （シャドウマスク形成用第２フォトマスク）を密着し
て露光し、両面の感光膜３１に各ネガ版３３a ，３３b
のパターン３２a ，３２b を焼付け、現像して、シャド
ウマスク素材板３０の両面に各ネガ版３３a ，３３b に
対応するパターンからなるレジスト膜を形成したのち、
このレジスト膜の形成されたシャドウマスク素材板３０
を両面からエッチングすることにより形成される。この
方法により楕円状の電子ビーム通過孔を形成するために
は、第１、第２ネガ版３３a ，３３b の各パターン３２
a ，３２b を楕円状とすればよいが、このようなパター
ンを形成することは、きわめて困難である。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】上記のように、ＯＡ機
器などの情報表示に用いられるディスプレー用カラーブ
ラウン管は、シャドウマスクの電子ビーム通過孔が円形
に形成され、これに対応して蛍光体スクリーンは、マト
リックス状光吸収層のマトリックスホールに３色蛍光体
層が埋込まれるよう設けられた構造に形成されている。

【００１１】しかし一般にカラーブラウン管の蛍光体ス
クリーンは、シャドウマスクを蛍光体スクリーン形成用
フォトマスクとして写真印刷法により形成され、パネル
の内面に形成された感光膜や感光性蛍光体スラリ層など
の蛍光体スクリーン形成被膜に、カラーブラウン管の電
子銃に対応する位置に配置された光源から放射される光
によりシャドウマスクを介して露光し、シャドウマスク
の電子ビーム通過孔に対応するパターンを焼付けると
き、パネルの中央以外では、光源から放射される光は、
シャドウマスクの電子ビーム通過孔を斜めに横切ってパ
ネルの内面に達するため、蛍光体スクリーン形成用被膜
に投影されるシャドウマスクの電子ビーム通過孔に対応
するパターンがパネルの放射方向を短径とする楕円状に
歪み、パネルの内面に形成される光吸収層のマトリック
スホールや蛍光体層が、パネルの放射方向を短径とする
楕円状となり、ホワイト・ユニフォーミティや色純度な
どを劣化させるという問題がある。

【００１２】この光吸収層のマトリックスホールや蛍光
体層の楕円化を防止するためには、シャドウマスクの中
央以外の電子ビーム通過孔をシャドウマスクの放射方向
を長径とする楕円状にすればよいが、従来技術では、こ
のようなシャドウマスクを製造することが困難である。

【００１３】この発明は、上記問題点に鑑みてなされた
ものであり、シャドウマスクを蛍光体スクリーン形成用
フォトマスクとして写真印刷法により形成される蛍光体
スクリーンのマトリックス状吸収層のマトリックスホー
ルや蛍光体層を円形にすることができるシャドウマスク
の電子ビーム通過孔を容易に所定の楕円形状にすること
ができるシャドウマスクの製造方法を得ることを目的と
する。

【００１４】

【課題を解決するための手段】シャドウマスク素材板の
両面に感光膜を形成し、この両面の感光膜をそれぞれ大
孔用パターンの形成された第１フォトマスクおよび小孔
用パターンの形成された第２フォトマスクを介して露光
し現像して両面の感光膜にそれぞれ各フォトマスクのパ
ターンに対応するパターンからなるレジスト膜を形成し
たのち、このレジスト膜の形成されたシャドウマスク素
材板を両面からエッチングしてこのシャドウマスク素材
板の一方の面側に大孔、他方の面側に小孔を形成して電
子ビーム通過孔を形成するカラーブラウン管用シャドウ
マスクの製造方法において、第１フォトマスクの大孔用
パターンをフォトマスクの放射方向に円形ドットの中心
位置をずらして２度打ちして得られるピーナッツ形状と
し、第２フォトマスクの小孔用パターンを円形とし、こ
れら第１、第２フォトマスクを用いてシャドウマスク素
材板に電子ビームの軌道方向からみて円形をなす電子ビ
ーム通過孔を形成するようにした。

【００１５】

【作用】上記のように、シャドウマスクの電子ビーム通
過孔の形成に用いられる第１、第２フォトマスクを構成
すると、実質的に電子ビーム通過孔の形成を決定する大
孔と小孔との連通部の形状が大孔の形状により大きく支
配されるため、電子ビーム通過孔をシャドウマスク素材
板に垂直な方向からみてシャドウマスクの放射方向を長
径とする楕円状とし、電子ビームの軌道方向からみたと
き、円形となるようにすることができる。

【００１６】

【実施例】以下、図面を参照してこの発明を実施例に基
づいて説明する。

【００１７】図１にその一実施例に係るシャドウマスク
を示す。このシャドウマスクは、パネルの内面に形成さ
れたマトリックス状の黒色光吸収層のマトリックスホー
ルに埋込まれるように青、緑、赤に発光するドット状の
蛍光体層が設けられた蛍光体スクリーンと対向する主面
部４０に、多数の電子ビーム通過孔４１が形成されたマ
スク本体４２と、このマスク本体４２の周辺部に取付け
られたマスクフレーム４３とからなる。

【００１８】そのマスク本体４２の各電子ビーム通過孔
４１は、図８に示したように、蛍光体スクリーンと対向
する面側に形成された大孔と他方の面側に形成された小
孔とが連通し、その連通部の孔径が最も小さい連通孔か
らなり、上記マスク本体４２の電子ビーム通過孔４１
は、実質的に電子ビーム通過孔の孔径、形状を決定する
連通部が、シャドウマスクの中心軸（Ｚ軸）（管軸と一
致）方向からみたとき、マスク本体４１の中央では円形
であるが、中央以外では、シャドウマスクの放射方向を
長径とする楕円状に形成され、カラーブラウン管の電子
銃から放出され、偏向装置により偏向された電子ビーム
の軌道方向（またはシャドウマスクをフォトマスクとし
て写真印刷法により蛍光体スクリーンを形成するとき、
光源から放射される光の軌道方向（図９参照））からみ
るとき、その連通部が円形をなす形状に形成されてい
る。図２（ａ）および（ｂ）に、上記シャドウマスクの
中心軸方向からみたときのマスク本体４２中央の電子ビ
ーム通過孔４１の形状（円形）を、同（ｃ）および
（ｄ）に、水平軸（Ｈ軸）端の電子ビーム通過孔４１の
形状（楕円状）を、同（ｅ）および（ｆ）に、垂直軸
（Ｖ軸）端の電子ビーム通過孔４１の形状（楕円状）
を、同（ｇ）および（ｈ）に、対角軸（Ｄ軸）端の電子
ビーム通過孔４１の形状（楕円状）を示す。

【００１９】このようなシャドウマスクの電子ビーム通
過孔４１は、従来のシャドウマスクと同様にフォトエッ
チング法により形成される。

【００２０】すなわち、図３（ａ）に示すように、まず
シャドウマスク素材板３０の両面に、たとえば牛乳カゼ
イン酸アルカリと重クロム酸アンモニウムを主成分とす
る感光剤を塗布し乾燥して感光膜３１を形成する。つい
で同（ｂ）に示すように、その一方の面の感光膜３１に
後述する第１ネガ版４５a （シャドウマスク形成用第１
フォトマスク）、他方の感光膜３１に第２ネガ版４５b
（シャドウマスク形成用第２フォトマスク）を密着し、
これら第１、第２ネガ版４５a ，４５b の前面に配置さ
れた光源４６から放射される光により露光し、両面の感
光膜３１にそれぞれ第１、第２ネガ版４５a ，４５b の
パターンを焼付ける。つぎにこの第１、第２ネガ版４５
a ，４５b のパターンの焼付けられた感光膜３１を現像
して未感光部を除去し、同（ｃ）に示すように、シャド
ウマスク素材板３０の両面に、各ネガ版４５a ，４５b
のパターンに対応するパターンからなるレジスト膜４６
a，４６b を形成する。つぎに同（ｄ）に示すように、
このレジスト膜４６a ，４６b の形成されたシャドウマ
スク素材板３０を両面からエッチングして、レジスト膜
４６a の形成されている一方の面側から大孔４７、レジ
スト膜４６b の形成されている他方の面側から小孔４８
を形成し、これら大孔４７および小孔４８が連通した電
子ビーム通過孔４１を形成する。つぎにこの電子ビーム
通過孔４１の形成されたシャドウマスク素材板３０の両
面に残存するレジスト膜４６a ，４６b を剥離して、同
（ｅ）に示すように、平板状のフラットマスク４９を形
成する。

【００２１】シャドウマスクは、その後、プレス成形加
工により上記フラットマスク４９を所定形状に成形し、
さらにその周辺部に別途形成されたマスクフレームを溶
接することにより製造される。

【００２２】上記一対のネガ版４５a ，４５b のうち、
第１ネガ版４５a の大孔用パターンは、図４（ａ）に示
すように、中央では円形パターン５１C であるが、周辺
部に近づくにしたがって、水平軸端部、垂直軸端部およ
び対角軸端部のパターン５１H ，５１V ，５１D につい
て示したように、ネガ版４５a の放射方向を長径とする
ピーナッツ形状となっている。これに対して、第２ネガ
版４５b の小孔用パターンは、同（ｂ）に示すように、
ネガ版４５b の全面にわたり、第１ネガ版４５a のパタ
ーンよりも小径の円形パターン５２となっている。これ
ら第１、第２ネガ版４５a ，４５b のパターンは、これ
らネガ版４５a 、４５b を正しく重ね合せたとき、図５
（ａ）乃至（ｄ）に示すように、同軸になるように形成
され、特に第１ネガ版４５a のピーナッツ形状パターン
に対して、第２ネガ版４５b の円形パターン５２は、第
１ネガ版４５a のピーナッツ形状パターンの長径方向の
中心に第２ネガ版４５b の円形パターン５２の中心が一
致するように形成されている。

【００２３】このようなネガ版４５a 、４５b は、フォ
トプロッターにより写真乾板に所定直径の円形ドットを
プロットすることにより形成される。特に第１ネガ版４
５aについては、中央の円形パターン５１C は、円形ド
ットを１回プロットすることにより形成されるが、中央
以外のパターンは、写真乾板の放射方向に同一直径の円
形ドットを所定間隔ずらして２度プロットすることによ
り形成される。また第２ネガ版４５b については、写真
乾板の全面に所定直径の円形ドットを所定ピッチで１回
づつプロットすることにより形成される。

【００２４】ところで、上記のように中央では円形パタ
ーン５１C であるが、周辺部に近づくにしたがって、ネ
ガ版の放射方向を長径とするピーナッツ形状のパターン
からなる第１ネガ版４５a と、ネガ版の全面にわたり、
円形パターン５２からなる第２ネガ版４５b を用いて、
フォトエッチング法によりシャドウマスクの電子ビーム
通過孔４１を形成すると、第１ネガ版４５a のパターン
に対応してシャドウマスク素材３０の一方の面側に形成
される電子ビーム通過孔４１の大孔４７を、図２（ｃ）
乃至（ｈ）に示したように、シャドウマスクの周辺部に
近づくにしたがって、その放射方向を長径とする楕円状
とすることができる。このように大孔４７を楕円状とす
ると、この大孔４７とマスク素材３０の他方の面側に形
成される小孔４８との連通部の形状は、上記大孔４７の
形状に大きく支配され、この連通部の形状も、シャドウ
マスクの中心軸方向からみて、その放射方向を長径とす
る楕円状となる。したがって第１ネガ版４５a のピーナ
ッツ形状パターンを形成するとき、写真乾板の放射方向
にずらして２回プロットする円形ドットの間隔を、写真
乾板の位置により適宜調整することにより、カラーブラ
ウン管の電子銃から放出され、偏向装置により偏向され
た電子ビームの軌道方向からみたとき、形成される電子
ビーム通過孔４１の連通部が円形となるようにすること
ができる。

【００２５】そして上記のように電子ビーム通過孔４１
の連通部を、偏向装置により偏向された電子ビームの軌
道方向からみたときに円形となるようにすると、一般に
上記偏向装置により偏向される電子ビームの軌道と、シ
ャドウマスクをフォトマスクとして写真印刷法方により
パネルの内面に蛍光体スクリーンを形成するときに光源
から放射される光の軌道とは、ほぼ一致するため、蛍光
体スクリーンを構成するマトリックス状の光吸収層のマ
トリックスホールや、そのマトリックスホールに埋込ま
れるように設けられる３色蛍光体層を円形とすることが
できる。その結果、従来マトリックス状光吸収層のマト
リックスホールがパネルの放射方向に楕円状に歪むため
に生じたホワイト・ユニフォーミティや色純度の劣化を
防止し、蛍光体スクリーンに描かれる画像の品位を向上
させることができる。

【００２６】なお、上記第１ネガ版４５a のピーナッツ
形状のパターンは、これを構成する同一直径の２つの円
形ドットの間隔が円形ドットの半径以上になると、シャ
ドウマスクの電子ビーム通過孔の連通部がシャドウマス
クの中心軸方向からみて楕円状とすることができなくな
る。またマスク素材３０の両面にレジスト膜４６を形成
したのちのエッチング時に、レジスト膜４６の剥がれに
より孔欠点が発生しやすくなる。そのため、特に２つの
円形ドットの間隔が楕円の離心率で１５０％以上となる
場合は、２つの円形ドットの中間にさらにもう１つの円
形ドットをプロットするとよく、それにより、電子ビー
ム通過孔の連通部をシャドウマスクの中心軸方向からみ
て楕円状とすることができる。

【００２７】なお、上記実施例では、第１および第２ネ
ガ版のパターンをそれぞれネガ版の全面にわたり同一直
径の円形ドットをプロットして形成したが、蛍光体スク
リーンのマトリックス状の光吸収層のマトリックスホー
ルをパネルの中心から周辺部に近づくにしたがって小さ
くする場合には、シャドウマスクの電子ビーム通過孔
も、シャドウマスクの中心から周辺部に近づくにしたが
って小さくする必要があり、このような電子ビーム通過
孔を形成するためには、第１および第２ネガ版のパター
ンも、ネガ版の中心から周辺部に近づくにしたがって小
さくする必要がある。このようなネガ版のパターンは、
ネガ版を製作するときプロットする円形ドットを、ネガ
版の中心から周辺部に近づくにしたがって小さくするこ
とにより形成することができる。

【００２８】また、上記実施例では、蛍光体スクリーン
がマトリックス状の光吸収層とそのマトリックスホール
に埋込まれるように設けられたドット状の３色蛍光体層
からなるカラーブラウン管について説明したが、この発
明に係るシャドウマスクは、蛍光体スクリーンが光吸収
層をもたない３色蛍光体層からなるカラーブラウン管に
適用して、３色蛍光体層を円形にすることができる。

【００２９】

【発明の効果】シャドウマスク素材板の両面に感光膜を
形成し、この両面の感光膜をそれぞれ大孔用パターンの
形成された第１フォトマスクおよび小孔用パターンの形
成された第２フォトマスクを介して露光し現像して両面
の感光膜にそれぞれ各フォトマスクのパターンに対応す
るパターンからなるレジスト膜を形成し、このレジスト
膜の形成されたシャドウマスク素材板を両面からエッチ
ングしてこの板状部材の一方の面側に大孔、他方の面側
に小孔を形成して電子ビーム通過孔を形成するカラーブ
ラウン管用シャドウマスクの製造方法において、第１フ
ォトマスクの大孔用パターンをフォトマスクの放射方向
に円形ドットの中心位置をずらして２度打ちして得られ
るピーナッツ形状とし、第２フォトマスクの小孔用パタ
ーンを円形とすると、シャドウマスクの電子ビーム通過
孔をシャドウマスクの中心軸方向からみて楕円状とし、
電子銃から放出され、偏向装置により偏向された電子ビ
ームの軌道方向からみて円形をなす形状に形成すること
ができる。それにより、蛍光体スクリーンのマトリック
ス状光吸収層のマトリックスホールやドット状３色蛍光
体を円形とすることができ、従来マトリックス状光吸収
層のマトリックスホールや蛍光体スクリーンがパネルの
放射方向に楕円状に歪むために生じたホワイト・ユニフ
ォーミティや色純度の劣化を防止し、蛍光体スクリーン
に描かれる画像の品位を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１（ａ）はこの発明の一実施例に係るシャド
ウマスクの構成を示す平面図、図１（ｂ）はその断面図
である。

【図２】図２（ａ）は上記シャドウマスクのマスク本体
の中央の電子ビーム通過孔の形状をシャドウマスクの中
心軸方向からみた図、図２（ｂ）はその水平軸断面図、
図２（ｃ）は水平軸端部の電子ビーム通過孔の形状をシ
ャドウマスクの中心軸方向からみた図、図２（ｄ）はそ
の水平軸断面図、図２（ｅ）は垂直軸端部の電子ビーム
通過孔の形状をシャドウマスクの中心軸方向からみた
図、図２（ｆ）はその垂直軸断面図、図２（ｇ）は対角
軸端部の電子ビーム通過孔の形状をシャドウマスクの中
心軸方向からみた図、図２（ｈ）はその対角軸断面図で
ある。

【図３】図３（ａ）乃至（ｅ）はそれぞれ上記シャドウ
マスクの製造方法を説明するための図である。

【図４】図４（ａ）は上記シャドウマスクの製造方法に
用いられる第１ネガ版のパターンを示す図、図４（ｂ）
は同じく第２ネガ版のパターンを示す図である。

【図５】図５（ａ）は上記第１、第２ネガ版の中央のパ
ターンを示す図、図５（ｂ）は水平軸端部のパターンを
示す図、図５（ｃ）は垂直軸端部のパターンを示す図、
図５（ｄ）は対角軸端部のパターンを示す図である。

【図６】カラーブラウン管の構成を示す図である。

【図７】従来のカラーブラウン管の蛍光体スクリーンの
構成を示す断面図である。

【図８】従来のカラーブラウン管のシャドウマスクの電
子ビーム通過孔の形状を示す断面図である。

【図９】上記カラーブラウン管の蛍光体スクリーンの形
成方法を説明するための図である。

【図１０】従来のカラーブラウン管の蛍光体スクリーン
の問題点を説明するための図である。

【図１１】従来のカラーブラウン管のシャドウマスクの
製造方法を説明するための図である。

【図１２】図１２（ａ）は従来のシャドウマスクの電子
ビーム通過孔形成に用いられる第１ネガ版のパターンを
示す図、図１２（ｂ）は同じく第２ネガ版のパターンを
示す図である。

【符号の説明】

３０…シャドウマスク素材板 ３１…感光膜 ４１…電子ビーム通過孔 ４２…マスク本体 ４３…マスクフレーム ４５a …第１ネガ版 ４５b …第２ネガ版 ４６a ，４６b …レジスト膜 ４７…大孔 ４８…小孔 ５１O 、５１H ，５１V ，５１D …大孔用パターン ５２…小孔用パターン

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 シャドウマスク素材板の両面に感光膜を
   形成し、この両面の感光膜をそれぞれ大孔用パターンの
   形成された第１フォトマスクおよび小孔用パターンの形
   成された第２フォトマスクを介して露光し現像して上記
   両面の感光膜にそれぞれ上記各フォトマスクのパターン
   に対応するパターンからなるレジスト膜を形成したの
   ち、このレジスト膜の形成されたシャドウマスク素材板
   を両面からエッチングしてこのシャドウマスク素材板の
   一方の面側に大孔、他方の面側に小孔を形成して電子ビ
   ーム通過孔を形成するカラーブラウン管用シャドウマス
   クの製造方法において、 上記第１フォトマスクの大孔用パターンをフォトマスク
   の放射方向に円形ドットの中心位置をずらして２度打ち
   して得られるピーナッツ形状とし、上記第２フォトマス
   クの小孔用パターンを円形とし、これら第１、第２フォ
   トマスクを用いて上記シャドウマスク素材板に電子ビー
   ムの軌道方向からみて円形をなす電子ビーム通過孔を形
   成することを特徴とするカラーブラウン管用シャドウマ
   スクの製造方法。
2. 【請求項２】 大孔用パターンを構成する円形ドットを
   第１フォトマスクの中心から周辺部に近づくにしたがっ
   て小さくし、この第１フォトマスクを用いて中心から周
   辺部に近づくにしたがって孔径が小さくなる電子ビーム
   通過孔を形成することを特徴とする請求項１記載のカラ
   ーブラウン管用シャドウマスクの製造方法。