JP2679193B2 - Photopolymerizable composition - Google Patents
Photopolymerizable compositionInfo
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- JP2679193B2 JP2679193B2 JP31673288A JP31673288A JP2679193B2 JP 2679193 B2 JP2679193 B2 JP 2679193B2 JP 31673288 A JP31673288 A JP 31673288A JP 31673288 A JP31673288 A JP 31673288A JP 2679193 B2 JP2679193 B2 JP 2679193B2
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は光重合性組成物に関し、より詳しくは、経時
的にも感光性が安定し、再現性に優れた光重合性組成物
に関する。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a photopolymerizable composition, and more particularly, to a photopolymerizable composition having stable photosensitivity over time and excellent reproducibility.
[従来の技術と発明が解決しようとする課題] 光重合性組成物は、プリント回路基板、集積回路、金
属レリーフ像や印刷板の製造に広く使用されている。こ
の光重合性組成物は、通常、熱可塑性高分子結合剤、付
加重合性化合物及び光重合開始剤等を含有している。そ
して、有機溶媒に溶解した溶液状光重合性組成物やドラ
イフィルム状の光重合性組成物を、プリント基板用の銅
張積層板や微細加工に供する金属基板等の表面に塗布ま
たはラミネートして積層し、活性光線により所定のパタ
ーンを露光し、露光部を硬化させ、未露光部を現像液で
現像することにより、レジスト像を形成している。従っ
て、光重合性組成物には、活性光線に対する感度、感光
硬化速度が大きいことが要求されるだけでなく、感光硬
化特性が安定していることが必要とされる。また保存中
に特性の劣化がなく、長期に亘り感光硬化性が安定して
いる必要がある。[Prior Art and Problems to be Solved by the Invention] Photopolymerizable compositions are widely used in the production of printed circuit boards, integrated circuits, metal relief images and printing plates. This photopolymerizable composition usually contains a thermoplastic polymer binder, an addition polymerizable compound, a photopolymerization initiator and the like. Then, a solution-type photopolymerizable composition or a dry film-form photopolymerizable composition dissolved in an organic solvent is applied or laminated on the surface of a copper-clad laminate for a printed board or a metal substrate to be subjected to fine processing. The resist image is formed by laminating, exposing a predetermined pattern with actinic rays, curing the exposed portion, and developing the unexposed portion with a developing solution. Therefore, the photopolymerizable composition is required not only to have a high sensitivity to actinic rays and a high photosensitive curing speed, but also to have stable photosensitive curing characteristics. Further, it is necessary that the characteristics do not deteriorate during storage and the photocurability is stable for a long period of time.
しかしながら、従来の光重合性組成物によると、光重
合開始剤と熱可塑性高分子結合剤等との相溶性等が十分
でないためか、一定の光量を照射しても硬化性にばらつ
きが生じ、再現よく感光硬化させることが困難である。
また長期保存により再現性が低下する。However, according to the conventional photopolymerizable composition, the compatibility between the photopolymerization initiator and the thermoplastic polymer binder or the like is not sufficient, or even if a certain amount of light is irradiated, the curability varies, It is difficult to photosensitize with good reproducibility.
In addition, reproducibility is reduced by long-term storage.
本発明の目的は、安定した感光特性を示し、再現性に
優れた光重合性組成物を提供することにある。An object of the present invention is to provide a photopolymerizable composition which shows stable photosensitive characteristics and has excellent reproducibility.
[発明の構成] 本発明者らは、鋭意研究の結果、特定の化合物を含有
する光重合性組成物が安定性及び再現性に優れているこ
とを見いだした。すなわち本発明は、 (1)熱可塑性高分子結合剤と、 (2)常温常圧で液体または固体の付加重合性化合物
と、 (3)光重合開始剤と、 (4)一般式(I) (式中、R1は水素原子、アルキル基、置換されていても
よいアリール基またはハロゲン原子、R2はアルキル基ま
たは置換されていてもよいアリール基を示す)で表され
るヒドロキシ安息香酸アミド化合物とを含有する光重合
性組成物により、上記課題を解決するものである。[Constitution of the Invention] As a result of intensive studies, the present inventors have found that a photopolymerizable composition containing a specific compound is excellent in stability and reproducibility. That is, the present invention provides (1) a thermoplastic polymer binder, (2) an addition polymerizable compound which is liquid or solid at room temperature and normal pressure, (3) a photopolymerization initiator, and (4) general formula (I). (Wherein R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a halogen atom which may be substituted, and R 2 represents an alkyl group or an aryl group which may be substituted). A photopolymerizable composition containing a compound solves the above problems.
まず、熱可塑性高分子結合剤について説明する。熱可
塑性高分子結合剤としては、特に限定されず、種々の熱
可塑性樹脂が使用できるが、アクリル酸エステル及び/
又はメタクリル酸エステルの単独または共重合体や、ス
チレン系モノマーと、アクリル酸エステル及び/又はメ
タクリル酸エステル等との共重合体が好ましい。First, the thermoplastic polymer binder will be described. The thermoplastic polymer binder is not particularly limited, and various thermoplastic resins can be used, such as acrylic ester and / or
Alternatively, a homopolymer or copolymer of methacrylic acid ester, or a copolymer of styrene-based monomer and acrylic acid ester and / or methacrylic acid ester is preferable.
スチレン系モノマーとしては、スチレン、α−位がア
ルキル基またはハロゲン原子で置換されたα−置換スチ
レン、例えば、α−メチルスチレン、α−クロロスチレ
ン等;置換スチレン、例えば、置換された置換スチレ
ン、例えば、p−メチルスチレン、p−エチルスチレン
p−(tert−ブチル)スチレン等が例示され、少なくと
も一種使用される。スチレン系モノマーのうちスチレ
ン、α−メチルスチレン等が好ましい。As the styrene-based monomer, styrene, α-substituted styrene in which the α-position is substituted with an alkyl group or a halogen atom, for example, α-methylstyrene, α-chlorostyrene, etc .; Substituted styrene, for example, substituted substituted styrene, For example, p-methylstyrene, p-ethylstyrene p- (tert-butyl) styrene, etc. are exemplified, and at least one is used. Among the styrene monomers, styrene, α-methylstyrene and the like are preferred.
アクリル酸エステルとしては、例えば、アクリル酸メ
チル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリ
ル酸イソプロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソ
ブチル、アクリル酸−tert−ブチル、アクリル酸ペンチ
ル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アクリ
ル酸オクチル、アクリル酸−2−エチルヘキシル、アク
リル酸シクロヘキシル、アクリル酸−2−フェノキシエ
チル、アクリル酸フェノキシプロピル等が例示される。
またメタクリル酸エステルとしては、上記アクリル酸エ
ステルに対応したメタクリル酸エステルが例示される。
これらのアクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル
は一種以上使用される。Examples of the acrylate ester include methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, isopropyl acrylate, butyl acrylate, isobutyl acrylate, tert-butyl acrylate, pentyl acrylate, hexyl acrylate, heptyl acrylate. , Octyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, phenoxypropyl acrylate and the like.
Examples of the methacrylate include methacrylate corresponding to the above acrylate.
One or more of these acrylates and methacrylates are used.
なお、アルカリ現像液で、未露光部分を除去し現像し
たり、硬化膜を剥離する場合には、カルボキシル基を有
する付加重合単量体を共重合させることが有効である。
このような付加重合性単量体としては、例えば、マレイ
ン酸、イタコン酸、メタクリル酸、アクリル酸等が挙げ
られる。When the unexposed portion is removed and developed with an alkali developer or the cured film is peeled off, it is effective to copolymerize an addition polymerizable monomer having a carboxyl group.
Examples of such an addition-polymerizable monomer include maleic acid, itaconic acid, methacrylic acid, and acrylic acid.
熱可塑性高分子は、適宜の割合の各モノマーで構成で
きる。The thermoplastic polymer can be composed of an appropriate ratio of each monomer.
付加重合性化合物としては、常温常圧で液体または固
体であり、分子中に2個以上のアクリロイル基やメタク
リロイル基を有するアクリレートやメタクリレート等が
挙げられる。Examples of the addition polymerizable compound include acrylates and methacrylates which are liquid or solid at normal temperature and normal pressure and have two or more acryloyl groups or methacryloyl groups in the molecule.
分子中に2個のアクリロイル基を有するアクリレート
としては、例えば、エチレングリコールジアクリレー
ト、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレ
ングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコー
ルジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレ
ート、プロピレングリコールジアクリレート、ジプロピ
レングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコ
ールジアクリレート、テトラプロピレングリコールジア
クリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレー
ト、1,4−ブタンジオールジアクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオール
ジアクリレート、ビスフェノールAのエチレンオキサイ
ド付加物のジアクリレート、ビスフェノールAのプロピ
レンオキサイド付加物のジアクリレート、水素化ビスフ
ェノールAのエチレンオキサイド付加物のジアクリレー
ト、水素化ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付
加物のジアクリレート、N,N′−メチレンビスアクリル
アミド、N,N′−ベンジリデンビスアクリルアミド等が
例示される。Examples of the acrylate having two acryloyl groups in the molecule include ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, and dipropylene glycol. Diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, tetrapropylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, ethylene oxide addition of bisphenol A Diacrylate, bisphenol A propylene oxide adduct dia Acrylate, diacrylate of ethylene oxide adduct of hydrogenated bisphenol A, diacrylate of propylene oxide adduct of hydrogenated bisphenol A, N, N'-methylenebisacrylamide, N, N'-benzylidenebisacrylamide and the like. .
分子中に3個以上のアクリロイル基を有するアクリレ
ートとしては、例えば、グリセリントリアクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロ
ールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が
例示される。Examples of the acrylate having three or more acryloyl groups in the molecule include glycerin triacrylate,
Examples include trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and dipentaerythritol hexaacrylate.
分子中に2個以上のメタクリロイル基を有するメタク
リレートとしては、上記アクリレートに対応するメタク
リレートが例示される。Examples of the methacrylate having two or more methacryloyl groups in the molecule include methacrylates corresponding to the above acrylates.
上記アクリレート及びメタクリレートは、少なくとも
一種使用され、両者を混合して使用してもよい。なお、
単官能性のアクリレート及びメタクリレートを適宜併用
してもよい。付加重合性化合物の量は、光重合性組成物
の特性を損わない範囲であれば特に限定されないが、通
常、熱可塑性高分子結合剤100重量部に対して10〜200重
量部、好ましくは20〜150重量部程度である。At least one of the above acrylates and methacrylates is used, and both may be used as a mixture. In addition,
Monofunctional acrylates and methacrylates may be appropriately used in combination. The amount of the addition-polymerizable compound is not particularly limited as long as it does not impair the characteristics of the photopolymerizable composition, but is usually 10 to 200 parts by weight, preferably 100 to 100 parts by weight of the thermoplastic polymer binder. It is about 20 to 150 parts by weight.
光重合開始剤としては、置換又は非置換の多核キノン
類、芳香族ケトン類、ベンゾイン類、ベンゾインエーテ
ル類、置換又は非置換のチオキサントン類などの種々の
ものが使用できる。As the photopolymerization initiator, various substances such as substituted or unsubstituted polynuclear quinones, aromatic ketones, benzoins, benzoin ethers, and substituted or unsubstituted thioxanthones can be used.
置換又は非置換の多核キノン類としては、例えば、2
−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、
2−プロピルアントラキノン、2−tert−ブチルアント
ラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,4−ジメチ
ルアントラキノン、2,3−ジメチルアントラキノン、ベ
ンズ[a]アントラキノン、ベンズ[b]アントラキノ
ン、2−フェニルアントラキノン、2,3−ジフェニルア
ントラキノン、1−クロロアントラキノン、2−クロロ
アントラキノン、3−クロロ−2−メチルアントラキノ
ン、1,4−ナフタキノン、9,10−フェナントラキノン、
2−メチル−1,4−ナフタキノン、2,3−ジクロロナフタ
キノン、7,8,9,10−テトラヒドロナフタセンキノン等が
例示される。Examples of the substituted or unsubstituted polynuclear quinones include, for example, 2
-Methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone,
2-propylanthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone, octamethylanthraquinone, 1,4-dimethylanthraquinone, 2,3-dimethylanthraquinone, benz [a] anthraquinone, benz [b] anthraquinone, 2-phenylanthraquinone, 2,3 -Diphenylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone, 2-chloroanthraquinone, 3-chloro-2-methylanthraquinone, 1,4-naphthaquinone, 9,10-phenanthraquinone,
Examples thereof include 2-methyl-1,4-naphthaquinone, 2,3-dichloronaphthaquinone, and 7,8,9,10-tetrahydronaphthacenequinone.
芳香族ケトン類としては、例えば、ベンゾフェノン、
4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4′
−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4−メトキ
シ−4′−ジエチルアミノベンゾフェノン等が例示され
る。As aromatic ketones, for example, benzophenone,
4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4 '
-Bis (diethylamino) benzophenone, 4-methoxy-4'-diethylaminobenzophenone and the like.
ベンゾイン類及びベンゾインエーテル類としては、例
えば、ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインフェニルエーテル等が例示される。Examples of benzoins and benzoin ethers include benzoin, methyl benzoin, ethyl benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin phenyl ether and the like.
置換又は非置換のチオキサントン類としては、例え
ば、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−
メチルチオキサントン、2−エチルチオキサントン、2
−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキ
サントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジブチ
ルチオキサントン等が例示される。Examples of the substituted or unsubstituted thioxanthone include thioxanthone, 2-chlorothioxanthone,
Methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2
-Isopropylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dibutylthioxanthone and the like.
また他の光重合開始剤として、ベンジル、α,α−ジ
エトキシアセトフェノンや、ベンゾフェノンオキシムア
セテート等のオキシムエステル類等が例示される。Examples of other photopolymerization initiators include oxime esters such as benzyl, α, α-diethoxyacetophenone, and benzophenone oxime acetate.
上記光重合開始剤は、一種または二種以上使用され、
同種または異種の光重合開始剤を組合せて使用してもよ
い。光重合開始剤の量は、硬化速度及び硬化膜の特性低
下させない範囲で選択できるが、通常、前記熱可塑性高
分子100重量部に対して0.01〜30重量部、好ましくは1
〜15重量部である。The photopolymerization initiator is used alone or in combination of two or more,
The same or different photopolymerization initiators may be used in combination. The amount of the photopolymerization initiator can be selected within a range that does not deteriorate the curing rate and the properties of the cured film, but is usually 0.01 to 30 parts by weight, preferably 1 to 100 parts by weight of the thermoplastic polymer.
~ 15 parts by weight.
なお、上記光重合開始剤は、例えば、2,4,5−トリア
リールイミダゾリル二量体、2−メルカプトベンゾオキ
サゾール、ロイコクリスタルバイオレット、トリス(4
−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)メタンや、脂
肪族又は芳香族第3級アミン、例えば、N−メチルジエ
タノールアミン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエ
ステル等と組合せて使用するのが有用である。The photopolymerization initiator is, for example, 2,4,5-triarylimidazolyl dimer, 2-mercaptobenzoxazole, leuco crystal violet, tris (4
-Diethylamino-2-methylphenyl) methane and aliphatic or aromatic tertiary amines such as N-methyldiethanolamine, ethyl p-dimethylaminobenzoate are useful in combination.
そして、本発明の光重合性組成物は、一般式(I)で
表されるヒドロキシ安息香酸アミド化合物を含有してい
る。一般式(I)において、R1及びR2のアルキル基とし
ては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、
ヘプチル、オクチル基等が例示される。R1及びR2の置換
されていてもよいアリール基としては、フェニル、ナフ
チル、4−メチルフェニル、3,5−ジメチルフェニル、
4−クロロフェニル基等が例示される。またR1のハロゲ
ン原子としては、臭素、塩素、フッ素等が例示される。The photopolymerizable composition of the present invention contains the hydroxybenzoic acid amide compound represented by the general formula (I). In the general formula (I), the alkyl group for R 1 and R 2 includes methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tert-butyl, pentyl, hexyl,
Examples thereof include heptyl and octyl groups. As the optionally substituted aryl group for R 1 and R 2 , phenyl, naphthyl, 4-methylphenyl, 3,5-dimethylphenyl,
A 4-chlorophenyl group etc. are illustrated. Examples of the halogen atom for R 1 include bromine, chlorine and fluorine.
上記一般式(I)で表される化合物のうちサリチル酸
アミド化合物が好ましい。好ましいサリチル酸アミド化
合物としては、例えば、サリチル酸メチルアミド、サリ
チル酸エチルアミド、サリチル酸プロピルアミド、サリ
チル酸ブチルアミド、サリチル酸ヘプチルアミド、サリ
チル酸ヘキシルアミド、サリチル酸ナフチルアミド、サ
リチリ酸アニリド、サリチル酸メチルアニリド等が挙げ
られる。Among the compounds represented by the general formula (I), salicylic acid amide compounds are preferable. Examples of preferable salicylic acid amide compounds include salicylic acid methylamide, salicylic acid ethylamide, salicylic acid propylamide, salicylic acid butylamide, salicylic acid heptylamide, salicylic acid hexylamide, salicylic acid naphthylamide, salicylic acid anilide, salicylic acid methylanilide and the like.
ヒドロキシ安息香酸アミド化合物は、広い範囲で添加
できるが、通常、熱可塑性高分子結合剤に100重量部に
対して、0.1〜30重量部、好ましくは1〜15重量部であ
る。The hydroxybenzoic acid amide compound can be added in a wide range, but is usually 0.1 to 30 parts by weight, preferably 1 to 15 parts by weight, based on 100 parts by weight of the thermoplastic polymer binder.
本発明の光重合性組成物は、必要に応じて、熱重合反
応を抑制し、貯蔵安定性を高める安定剤、発色剤、レジ
スト像の判別を容易にする着色剤、柔軟性を付与する可
塑剤等を含有していてもよい。安定剤としては、例え
ば、p−メトキシフェノール、ハイドロキノン、ハイド
ロキノンモノメチルエーテル、tert−ブチルカテコール
等が例示され、光重合性を阻害しない範囲で適宜量使用
される。発色剤としては、トリアリールメタン系染料の
ロイコ体が有用であり、例えば、ロイコクリスタルバイ
オレット、ロイコマラカイトグリーンや、これらロイコ
体の塩酸塩、硫酸塩等の鉱酸塩、p−トルエンスルホン
酸塩等の有機酸塩等が挙げられる。また着色剤として
は、例えば、クリスタルバイオレット、マラカイトグリ
ーン、ビクトリアブルー、メチレンブルー等が例示され
る。可塑剤としては、例えば、ジエチルフタレート、ジ
ブチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジオクチル
フタレート等のフタル酸エステル類;ジオクチルアジペ
ート、ジブチルジグリコールアジペート等の脂肪酸エス
テル類;トリメチルホスフィン等のリン酸エステル等;
トルエンスルホン酸アミド等のスルホン酸アミド類等が
例示される。The photopolymerizable composition of the present invention may contain a stabilizer, a coloring agent, a coloring agent for facilitating discrimination of a resist image, a plasticizer for imparting flexibility, if necessary, for suppressing a thermal polymerization reaction and for enhancing storage stability. And the like. Examples of the stabilizer include p-methoxyphenol, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, tert-butylcatechol and the like, and are used in an appropriate amount as long as the photopolymerizability is not inhibited. As the color former, a leuco compound of a triarylmethane dye is useful. For example, leuco crystal violet, leucomalachite green, mineral salts such as hydrochloride and sulfate of these leuco bodies, p-toluenesulfonate And the like. Examples of the coloring agent include crystal violet, malachite green, Victoria blue, methylene blue and the like. Examples of the plasticizer include phthalic acid esters such as diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diheptyl phthalate and dioctyl phthalate; fatty acid esters such as dioctyl adipate and dibutyl diglycol adipate; phosphoric acid esters such as trimethylphosphine;
Examples thereof include sulfonic acid amides such as toluenesulfonic acid amide.
本発明の光重合性組成物は、有機溶媒を含有しない液
状であってもよいが、通常、有機溶媒に溶解ないし分散
した液状またはドライフィルムの形態で使用される。上
記有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノー
ル、プロパノール等のアルコール類、酢酸エチル等のエ
ステル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン
類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル類、塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素類等が例示
される。ドライフィルムは、例えばポリエチレンテレフ
タレートフィルム等の基体フィルムに重合性組成物を塗
布し、乾燥した後、ポリエチレンフィルム等のカバーフ
ィルムを加圧ロール等でラミネートすることにより作製
される。ドライフィルムの光重合性組成物の膜厚は解像
度及び作業性等を低下させない範囲であれば特に制限さ
れないが、通常5〜100μm、好ましくは20〜70μmで
ある。The photopolymerizable composition of the present invention may be a liquid containing no organic solvent, but is usually used in the form of a liquid or a dry film dissolved or dispersed in an organic solvent. Examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol and propanol, esters such as ethyl acetate, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, ethers such as diethyl ether and tetrahydrofuran, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride. Examples thereof include types. The dry film is produced, for example, by applying a polymerizable composition to a base film such as a polyethylene terephthalate film and drying, and then laminating a cover film such as a polyethylene film with a pressure roll or the like. The thickness of the photopolymerizable composition of the dry film is not particularly limited as long as the resolution and workability are not reduced, but is usually 5 to 100 μm, preferably 20 to 70 μm.
本発明の光重合性組成物からなる感光層は、通常、有
機溶媒を含有する液状の光重合性組成物を、プリント基
板等の支持体に印刷または塗布し、有機溶媒を除去した
り、ドライフィルムのカバーフィルムを剥離し上記支持
体にゴムロール等でラミネートすることにより形成され
る。The photosensitive layer comprising the photopolymerizable composition of the present invention is usually prepared by printing or coating a liquid photopolymerizable composition containing an organic solvent on a support such as a printed circuit board to remove the organic solvent or dry the photopolymerizable composition. It is formed by peeling the cover film of the film and laminating the film on the support with a rubber roll or the like.
感光層は、化学的に活性な放射線を発生させる光源、
例えば、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプな
どの光源で露光される。露光は、通常、必要に応じて感
光層上にカバーシートを設け、ネガまたはポジ型のパタ
ーンマスクを用い、接触法または投影法により行なわれ
る。未露光部を、現像液で現像すると前記パターンに応
じたレジスト像が得られる。上記現像液としては、パー
クロロエチレン、トリクロロエタンなどの有機溶媒から
なる現像液や塩基性化合物を含有するアルカリ現像液な
どが使用できる。アルカリ現像液の塩基性化合物として
は、例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素
カリウム、炭酸水素ナトリウムケイ酸ナトリウム、リン
酸ナトリウム等の無機塩基;トリメチルアミン、トリエ
チルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、
トリエタノールアミン、モルホリン、ピリジン等の有機
塩基が例示される。なお、アルカリ現像液には、エチレ
ングリコールモノブチルエーテル等の有機溶媒が含有さ
れていてもよい。The photosensitive layer is a light source that generates chemically active radiation,
For example, exposure is performed with a light source such as a low-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, and a xenon lamp. Exposure is usually performed by providing a cover sheet on the photosensitive layer as necessary and using a negative or positive pattern mask by a contact method or a projection method. When the unexposed portion is developed with a developing solution, a resist image corresponding to the pattern is obtained. As the developing solution, a developing solution comprising an organic solvent such as perchloroethylene and trichloroethane, an alkaline developing solution containing a basic compound, and the like can be used. Examples of the basic compound of the alkali developer include inorganic bases such as potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, sodium silicate, and sodium phosphate; trimethylamine, triethylamine, ethanolamine, diethanolamine,
Organic bases such as triethanolamine, morpholine and pyridine are exemplified. Note that the alkali developer may contain an organic solvent such as ethylene glycol monobutyl ether.
また回路パターンを形成する場合には、レジスト像を
形成した後、メッキ液やエッチング液で処理され、上記
レジスト像は水酸化ナトリウム等の強アルカリ水溶液又
は塩化メチレン等の有機溶媒で剥離除去される。When a circuit pattern is formed, after forming a resist image, the resist image is treated with a plating solution or an etching solution, and the resist image is peeled off with a strong alkaline aqueous solution such as sodium hydroxide or an organic solvent such as methylene chloride. .
[発明の効果] 本発明の光重合性組成物によれば、ヒドロキシ安息香
酸アミド化合物を含有しているので、安定した感光特性
を示し、再現性に優れている。従って、本発明の光重合
性組成物は、プリント配線板、回路基板、金属レリーフ
像や印刷版等を製造する際のフォトレジストとして有用
である。[Effect of the Invention] Since the photopolymerizable composition of the present invention contains the hydroxybenzoic acid amide compound, it exhibits stable photosensitivity and is excellent in reproducibility. Therefore, the photopolymerizable composition of the present invention is useful as a photoresist for producing a printed wiring board, a circuit board, a metal relief image, a printing plate, and the like.
[実施例] 本発明を実施例により具体的に説明する。[Examples] The present invention will be specifically described with reference to examples.
実施例1、2及び比較例 以下の成分に、サリチル酸アニリド0g(比較例)、2g
(実施例1)及び3g(実施例2)を混合して光重合性組
成物を得た。Examples 1 and 2 and Comparative Example The following ingredients were mixed with 0 g of anilide salicylate (comparative example) and 2 g.
(Example 1) and 3 g (Example 2) were mixed to obtain a photopolymerizable composition.
メタクリル酸12重量%、アクリル酸8重量%、メタクリ
ル酸メチル45重量%、アクリル酸2−フェノキシエチル
35重量%の共重合体 50 g トリメチロールプロパントリアクリレート 15 g ノナエチレングリコールジメタクリレート 10 g 2,4−ジメチルチオキサントン 0.8 g p−ジメチルアミノ安息香酸エチル 3 g 2−(o−クロロフェニル)−3,4−ジフェニルイミダ
ゾリル二量体 1.5 g ロイコクリスタルバイオレット 0.3 g ダイヤモンドグリーンGH 0.03g メチルエチルケトン 70 g テトラヒドロフラン 10 g 得られた比較例、実施例1及び実施例2の光重合性組
成物を、それぞれ膜厚25μmのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム支持体に塗布し、温度75℃で乾燥し、感光
性フィルムを得た。感光層の厚味は50μmであった。感
光性フィルムを研磨した銅張積層板に、100℃に加熱し
たゴムローラーによって積層した。ストファー21段ステ
ップタブレットを感光性フィルム上に重ね、2Kwの超高
圧水銀灯で70cmの距離から積算光量30mJ/cm2となるよう
に照射し、硬化させ、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム支持体を剥離させた。次いで、30℃の1%炭酸ナト
リウム水溶液で現像したところ、銅張積層板上に樹脂レ
リーフ像が得られた。そして、現像により未露光部の光
重合性組成物が除去されたストファーステップタブレッ
トに対応する段数を感度の指標とした。Methacrylic acid 12% by weight, acrylic acid 8% by weight, methyl methacrylate 45% by weight, 2-phenoxyethyl acrylate
35% by weight of copolymer 50 g trimethylolpropane triacrylate 15 g nonaethylene glycol dimethacrylate 10 g 2,4-dimethylthioxanthone 0.8 g ethyl p-dimethylaminobenzoate 3 g 2- (o-chlorophenyl) -3, 4-Diphenylimidazolyl dimer 1.5 g Leuco crystal violet 0.3 g Diamond green GH 0.03 g Methyl ethyl ketone 70 g Tetrahydrofuran 10 g The photopolymerizable compositions obtained in Comparative Example, Example 1 and Example 2 were each formed into a film thickness of 25 μm. Was applied to the polyethylene terephthalate film support of Example 1 and dried at a temperature of 75 ° C. to obtain a photosensitive film. The thickness of the photosensitive layer was 50 μm. The photosensitive film was laminated on a polished copper-clad laminate using a rubber roller heated to 100 ° C. A 21-step Stopher step tablet was placed on a photosensitive film, and irradiated with a 2 Kw ultra-high pressure mercury lamp from a distance of 70 cm so that an integrated light amount was 30 mJ / cm 2, and cured, and a polyethylene terephthalate film support was peeled off. Then, it was developed with a 1% sodium carbonate aqueous solution at 30 ° C., and a resin relief image was obtained on the copper clad laminate. Then, the number of steps corresponding to the Stoffer step tablet from which the unexposed portion of the photopolymerizable composition was removed by development was used as an index of sensitivity.
上記操作を繰返し、感度の変動幅を調べた。また6ケ
月保存後の感度変化を調べたところ、表に示す結果を得
た。The above operation was repeated to examine the fluctuation range of sensitivity. When the change in sensitivity after storage for 6 months was examined, the results shown in the table were obtained.
表に示すように、比較例の光重合性組成物は感度の変
動及び経時変化が大きいのに対して、実施例1及び2の
光重合性組成物は感度が経時的にも安定していた。 As shown in the table, the photopolymerizable compositions of Comparative Examples have large fluctuations in sensitivity and changes with time, whereas the photopolymerizable compositions of Examples 1 and 2 have stable sensitivity over time. .
Claims (1)
と、 (3)光重合開始剤と、 (4)一般式(I) (式中、R1は水素原子、アルキル基、置換されていても
よいアリール基またはハロゲン原子、R2はアルキル基ま
たは置換されていてもよいアリール基を示す) で表されるヒドロキシ安息香酸アミド化合物とを含有す
ることを特徴とするとする光重合性組成物。1. A thermoplastic polymer binder, (2) an addition polymerizable compound which is liquid or solid at room temperature and normal pressure, (3) a photopolymerization initiator, and (4) a general formula (I). (Wherein R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a halogen atom which may be substituted, and R 2 represents an alkyl group or an aryl group which may be substituted). A photopolymerizable composition containing a compound.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31673288A JP2679193B2 (en) | 1988-12-15 | 1988-12-15 | Photopolymerizable composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP31673288A JP2679193B2 (en) | 1988-12-15 | 1988-12-15 | Photopolymerizable composition |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02161441A JPH02161441A (en) | 1990-06-21 |
JP2679193B2 true JP2679193B2 (en) | 1997-11-19 |
Family
ID=18080284
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31673288A Expired - Lifetime JP2679193B2 (en) | 1988-12-15 | 1988-12-15 | Photopolymerizable composition |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2679193B2 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6875557B2 (en) | 2001-08-29 | 2005-04-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Plate-making method of printing plate |
WO2005029188A1 (en) * | 2003-09-24 | 2005-03-31 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Photosensitive element, method of forming resist pattern, and process for producing printed wiring board |
-
1988
- 1988-12-15 JP JP31673288A patent/JP2679193B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH02161441A (en) | 1990-06-21 |
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