JP2750461B2 - Photopolymerizable composition - Google Patents

Photopolymerizable composition

Info

Publication number
JP2750461B2
JP2750461B2 JP29294989A JP29294989A JP2750461B2 JP 2750461 B2 JP2750461 B2 JP 2750461B2 JP 29294989 A JP29294989 A JP 29294989A JP 29294989 A JP29294989 A JP 29294989A JP 2750461 B2 JP2750461 B2 JP 2750461B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acrylate
photopolymerizable composition
weight
examples
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP29294989A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH03153750A (en
Inventor
江津子 小野
智 角本
敏郎 遠藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DAISERU KAGAKU KOGYO KK
Original Assignee
DAISERU KAGAKU KOGYO KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by DAISERU KAGAKU KOGYO KK filed Critical DAISERU KAGAKU KOGYO KK
Priority to JP29294989A priority Critical patent/JP2750461B2/en
Publication of JPH03153750A publication Critical patent/JPH03153750A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2750461B2 publication Critical patent/JP2750461B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は新規な光重合性組成物に関するものであり、
更に詳しくは金属との密着性(付着性または接着性)が
改善された光重合性組成物に関する。
The present invention relates to a novel photopolymerizable composition,
More specifically, the present invention relates to a photopolymerizable composition having improved adhesion (adhesion or adhesion) to a metal.

(従来技術) プリント配線板、印刷板や金属レリーフ像形成用フォ
トレジストとしてアルカリ現像液で現像できる種々の光
重合性組成物が提案されている(特開昭63−202740,特
開昭64−10235)。この光重合性組成物は、通常有機溶
媒に溶解した溶液に限らず、ポリエステル系基体フィル
ムとポリオレフィン系フィルムとの間に光重合性組成物
が積層されたドライフィルムとして使用される。
(Prior Art) Various photopolymerizable compositions which can be developed with an alkaline developer have been proposed as photoresists for forming printed wiring boards, printing boards and metal relief images (JP-A-63-202740, JP-A-64-202). 10235). This photopolymerizable composition is usually used not only as a solution dissolved in an organic solvent but also as a dry film in which the photopolymerizable composition is laminated between a polyester base film and a polyolefin film.

このドライフィルムにおいては、ポリオレフィン系フ
ィルムを剥離させた状態でプリント基板用の銅張積層
板,印刷板用支持体や金属基板等に積層するが、従来の
光重合性組成物は密着性に乏しくエッチングあるいはメ
ッキの際に種々の好ましくない現象が生じる。例えば、
エッチング液のスプレー時におけるアンダーカット及び
メッキ液の浸漬時におけるレジスト界面へのメッキ液の
浸みこみ等の現象が生じ、その結果、期待する配線が得
られないことがしばしば経験される。
In this dry film, the polyolefin-based film is peeled off and laminated on a copper-clad laminate for a printed board, a support for a printed board, a metal substrate, etc., but the conventional photopolymerizable composition has poor adhesion. Various undesirable phenomena occur during etching or plating. For example,
Phenomena such as undercut when spraying the etching solution and infiltration of the plating solution into the resist interface when the plating solution is immersed occur, and as a result, it is often experienced that the expected wiring cannot be obtained.

(発明が解決しょうとする課題) 本発明の目的は、前述の従来技術の欠点を解消して、
しかも金属面への密着性が改善された新規の光重合性組
成物を提供することである。さらに本発明の目的は、原
版に対する忠実な画線像を再現し高解像力を発現しうる
光重合性組成物を提供することにある。
(Problems to be solved by the invention) An object of the present invention is to solve the above-mentioned disadvantages of the prior art,
Moreover, it is an object of the present invention to provide a novel photopolymerizable composition having improved adhesion to a metal surface. A further object of the present invention is to provide a photopolymerizable composition capable of reproducing a faithful image image of an original plate and exhibiting high resolution.

(発明の構成) 本発明者らは鋭意研究の結果、ε−カプロラクトン変
性(メタ)アクリル酸エステルを必須成分としカルボキ
シル基を有する重合性モノマー,スチレン系モノマー,
アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルと組み合
せて構成した熱可塑性高分子を含有する光重合性組成物
が目的に適合していることを見いだし本発明を完成する
に至った。
(Constitution of the Invention) As a result of earnest studies, the present inventors have found that a polymerizable monomer having a ε-caprolactone-modified (meth) acrylate ester as an essential component and having a carboxyl group, a styrene monomer,
The present inventors have found that a photopolymerizable composition containing a thermoplastic polymer composed in combination with an acrylic ester and a methacrylic ester is suitable for the purpose, and have completed the present invention.

すなわち、本発明はポリカプロラクトン側鎖を有する
熱可塑性高分子化合物と常温常圧で液体又は固体の付加
重合性化合物と光重合開始剤とを含有する光重合性組成
物であって、上記熱可塑性高分子化合物が下記(I)式
で示されるポリカプロラクトン構造含有単量体及び下記
(II)式で示されるビニル単量体との共重合化合物であ
る。
That is, the present invention is a photopolymerizable composition containing a thermoplastic polymer compound having a polycaprolactone side chain, a liquid or solid addition polymerizable compound at normal temperature and normal pressure, and a photopolymerization initiator, The polymer compound is a copolymer compound of a polycaprolactone structure-containing monomer represented by the following formula (I) and a vinyl monomer represented by the following formula (II).

(ただし、n=1〜5,式中R1〜R7は水素原子又はアルキ
ル基を示す。) (ただし、式中R8〜R11は水素原子,アルキル基,芳香
族環又はハロゲン原子又はアルキルエステル基,カルボ
キシル基を示す) 上記(I)式の代表的なモノマーとしては、ε−カプ
ロラクトン変性(メタ)アクリル酸エステル、上記(I
I)式の代表的なモノマーとしては、カルボキシル基を
有する重合性モノマー、スチレン系モノマー、アクリル
酸エステル及びメタクリル酸エステルが挙げられる。そ
して、具体的な組成割合は次の通りのものが好ましい。
すなわち、 ε−カプロラクトン変性(メタ)アクリル酸エステル 1〜20重量% カルボキシル基を有する重合性モノマー 15〜40重量% スチレン系モノマー 1〜35重量% アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル 84〜25重量% カルボキシル基を有する重合性モノマーとしては、ア
クリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フ
マル酸、プロピオン酸、ソルビン酸、ケイ皮酸等が例示
され少なくとも一種使用される。カルボキシル基を有す
る重合性モノマーのうちアクリル酸およびメタクリル酸
が好ましい。なお、マレイン酸等のジカルボン酸は、半
エステルまたは無水物としても使用できる。このカルボ
キシル基を有する重合性モノマーは、光重合性組成物の
アルカリ現像性に寄与する。
(However, n = 1 to 5, wherein R 1 to R 7 represent a hydrogen atom or an alkyl group.) (Wherein, R 8 to R 11 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aromatic ring or a halogen atom or an alkyl ester group, or a carboxyl group). A typical monomer of the above formula (I) is ε-caprolactone-modified (Meth) acrylic acid ester, the above (I
Representative monomers of the formula (I) include polymerizable monomers having a carboxyl group, styrenic monomers, acrylates and methacrylates. The specific composition ratio is preferably as follows.
That is, ε-caprolactone-modified (meth) acrylic acid ester 1 to 20% by weight Polymerizable monomer having a carboxyl group 15 to 40% by weight Styrenic monomer 1 to 35% by weight Acrylic acid ester and methacrylic acid ester 84 to 25% by weight Carboxyl Examples of the polymerizable monomer having a group include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, propionic acid, sorbic acid, and cinnamic acid, and at least one of them is used. Among the polymerizable monomers having a carboxyl group, acrylic acid and methacrylic acid are preferred. In addition, dicarboxylic acids such as maleic acid can be used as half esters or anhydrides. The polymerizable monomer having a carboxyl group contributes to the alkali developability of the photopolymerizable composition.

スチレン系モノマーとしては、スチレン;α−位がア
ルキル基またはハロゲン原子で置換されたα−置換スチ
レン、例えば、α−メチルスチレン、α−クロロスチレ
ン等;ベンゼン環が置換された置換スチレン、例えば、
p−メチルスチレン、p−エチルスチレン、p−プロピ
ルスチレン、p−イソプロピルスチレン、p−(tert−
ブチル)スチレン等が例示され、少なくとも一種使用さ
れる。スチレン系モノマーのうちスチレン、α−メチル
スチレン等が好ましい。
Examples of the styrene monomer include styrene; α-substituted styrene in which the α-position is substituted with an alkyl group or a halogen atom, for example, α-methylstyrene, α-chlorostyrene, and the like; substituted styrene in which a benzene ring is substituted, for example,
p-methylstyrene, p-ethylstyrene, p-propylstyrene, p-isopropylstyrene, p- (tert-
Butyl) styrene and the like, and at least one kind is used. Among the styrene monomers, styrene, α-methylstyrene and the like are preferred.

アクリル酸エステルとしては、炭素数1〜20のアルキ
ル基を有するアクリル酸エステル、例えば、アクリル酸
メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アク
リル酸イソプロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イ
ソブチル、アクリル酸−tert−ブチル、アクリル酸ペン
チル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アク
リル酸オクチル、アクリル酸−2−エチルヘキシル、ア
クリル酸ノニル、アクリル酸デシル、アクリル酸ウンデ
シル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸ステアリル等が
例示される。またメタクリル酸エステルとしては、上記
アクリル酸エステルに対応したメタクリル酸エステルが
例示される。これらのアクリル酸エステル及びメタクリ
ル酸エステルは一種類以上使用される。
As the acrylate, an acrylate having an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, isopropyl acrylate, butyl acrylate, isobutyl acrylate, tert-acrylate -Butyl, pentyl acrylate, hexyl acrylate, heptyl acrylate, octyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, nonyl acrylate, decyl acrylate, undecyl acrylate, dodecyl acrylate, stearyl acrylate and the like. . Examples of the methacrylate include methacrylate corresponding to the above acrylate. One or more of these acrylates and methacrylates are used.

上記アクリル酸エステルはメタクリル酸エステルと併
用する。いずれか一方を前記スチレン系モノマーと組み
合せても光重合性組成物の解像度が十分でない。
The acrylate is used in combination with the methacrylate. Even when either one is combined with the styrene-based monomer, the resolution of the photopolymerizable composition is not sufficient.

なお、解像度をより一層高めるには、アクリル酸エス
テルとしては、炭素数7以上のアルキル基を有するアク
リル酸エステルが好ましく、メタクリル酸エステルとし
ては、炭素数1〜3のアルキル基を有するメタクリル酸
エステルが好ましい。特に、炭素数7以上のアルキル基
を有するアクリル酸エステルと炭素数1〜3のアルキル
基を有するメタクリル酸エステルとを組み合せて使用す
るのが好ましい。
In order to further improve the resolution, the acrylate is preferably an acrylate having an alkyl group having 7 or more carbon atoms, and the methacrylate is preferably a methacrylate having an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Is preferred. In particular, it is preferable to use a combination of an acrylate having an alkyl group having 7 or more carbon atoms and a methacrylate having an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.

熱可塑性高分子は、ε−カプロラクトン変性(メタ)
アクリル酸エステル1〜20重量%、カルボキシル基を有
する重合性モノマー15〜40重量%、好ましくは20〜35重
量%、スチレン系モノマー1〜35重量%、好ましくは10
〜33重量%、アクリル酸エステル及びメタクリル酸エス
テル84〜25重量%、好ましくは70〜32重量%の割合で構
成される。各モノマーの割合が上記範囲を外れると解像
度が低下する。
Thermoplastic polymers are modified with ε-caprolactone (meth)
Acrylic acid ester 1 to 20% by weight, carboxyl group-containing polymerizable monomer 15 to 40% by weight, preferably 20 to 35% by weight, styrene monomer 1 to 35% by weight, preferably 10 to 10%
3333% by weight, acrylates and methacrylates in an amount of 84-25% by weight, preferably 70-32% by weight. When the ratio of each monomer is out of the above range, the resolution is reduced.

またアクリル酸エステルとメタクリル酸エステルとの
割合は、解像度を低下させない範囲で適宜設定すること
ができるが、アクリル酸エステル/メタクリル酸エステ
ル=20〜65/80〜35重量%、好ましくは30〜50/70〜50重
量%である。
Further, the ratio between the acrylate and the methacrylate can be appropriately set within a range that does not reduce the resolution, but acrylate / methacrylate = 20 to 65/80 to 35% by weight, preferably 30 to 50% by weight. / 70-50% by weight.

なお、熱可塑性高分子は、前記3成分モノマーの溶液
重合、塊状重合、混濁重合、乳化重合等の慣用の重合法
により得ることができる。
The thermoplastic polymer can be obtained by a conventional polymerization method such as solution polymerization, bulk polymerization, turbidity polymerization, and emulsion polymerization of the three-component monomer.

付加重合性化合物としては、常温常圧で液体又は固体
であり、分子中に2個以上のアクリロイル基やメタクリ
ロイル基を有するアクリレートやメタクリレート等が挙
げられる。
Examples of the addition polymerizable compound include acrylates and methacrylates which are liquid or solid at normal temperature and normal pressure and have two or more acryloyl groups or methacryloyl groups in the molecule.

分子中に2個のアクリロイル基を有するアクリレート
としては、例えば、エチレングリコールジアクリレー
ト、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレ
ングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコー
ルジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレ
ート、プロピレングリコールジアクリレート、ジプロピ
レングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコ
ールジアクリレート、テトラプロピレングリコールジア
クリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレー
ト、1,4−ブタンジオールジアクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオール
ジアクリレート、ビスフェノールAのエチレンオキサイ
ド付加物のジアクリレート、ビスフェノールAのプロピ
レンオキサイド付加物のジアクリレート、水素化ビスフ
ェノールAのエチレンオキサイド付加物のジアクリレー
ト、水素化ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付
加物のジアクリレート、N,N′−メチレンビスアクリル
アミド、N,N′−ベンジリデンビスアクリルアミド等が
例示される。
Examples of the acrylate having two acryloyl groups in the molecule include ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, and dipropylene glycol. Diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, tetrapropylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, ethylene oxide addition of bisphenol A Diacrylate, bisphenol A propylene oxide adduct dia Acrylate, diacrylate of ethylene oxide adduct of hydrogenated bisphenol A, diacrylate of propylene oxide adduct of hydrogenated bisphenol A, N, N'-methylenebisacrylamide, N, N'-benzylidenebisacrylamide and the like. .

分子中に3個以上のアクリロイル基を有するアクリレ
ートとしては、例えば、グリセリントリアクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロ
ールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が
例示される。
Examples of the acrylate having three or more acryloyl groups in the molecule include glycerin triacrylate,
Examples thereof include trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and dipentaerythritol hexaacrylate.

分子中に2個以上のメタクリロイル基を有するメタク
リレートとしては、上記アクリレートに対応するメタク
リレートが例示される。
Examples of the methacrylate having two or more methacryloyl groups in the molecule include methacrylates corresponding to the above acrylates.

上記アクリレート及びメタクリレートは、少なくとも
一種使用され、両者を混合して使用してもよい。なお、
単官能性のアクリレート及びメタクリレートを適宜併用
してもよい。
At least one of the above acrylates and methacrylates is used, and both may be used as a mixture. In addition,
Monofunctional acrylates and methacrylates may be appropriately used in combination.

付加重合性化合物の量は、光重合性組成物の特性を損
わない範囲であれば特に限定されないが、前記熱可塑性
高分子100重量部に対して10〜200重量部、好ましくは20
〜150重量部である。
The amount of the addition-polymerizable compound is not particularly limited as long as the properties of the photopolymerizable composition are not impaired, but 10 to 200 parts by weight, preferably 20 to 100 parts by weight of the thermoplastic polymer.
~ 150 parts by weight.

光重合開始剤としては、置換又は非置換の多核キノン
類、芳香族ケトン類、ベンゾイン類、ベンゾインエーテ
ル類、置換又は非置換のチオキサントン類などの種々の
ものが使用できる。
As the photopolymerization initiator, various substances such as substituted or unsubstituted polynuclear quinones, aromatic ketones, benzoins, benzoin ethers, and substituted or unsubstituted thioxanthones can be used.

置換又は非置換の多核キノン類としては、例えば2−
メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2
−プロピルアントラキノン、2−tert−ブチルアントラ
キノン、オクタメチルアントラキノン、1,4−ジメチル
アントラキノン、2,3−ジメチルアントラキノン、ベン
ズ[a]アントラキノン、ベンズ[b]アントラキノ
ン、2−フェニルアントラキノン、2,3−ジフェニルア
ントラキノン、1−クロロアントラキノン、2−クロロ
アントラキノン、3−クロロ−2−メチルアントラキノ
ン、1,4−ナフタキノン、9,10−フェナントラキノン、
2−メチル−1,4−ナフタキノン、2,3−ジクロロナフタ
キノン、7,8,9,10−テトラヒドロナフタセンキノン等が
例示される。
Examples of the substituted or unsubstituted polynuclear quinones include, for example, 2-
Methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2
-Propylanthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone, octamethylanthraquinone, 1,4-dimethylanthraquinone, 2,3-dimethylanthraquinone, benz [a] anthraquinone, benz [b] anthraquinone, 2-phenylanthraquinone, 2,3- Diphenylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone, 2-chloroanthraquinone, 3-chloro-2-methylanthraquinone, 1,4-naphthaquinone, 9,10-phenanthraquinone,
Examples thereof include 2-methyl-1,4-naphthaquinone, 2,3-dichloronaphthaquinone, and 7,8,9,10-tetrahydronaphthacenequinone.

芳香族ケトン類としては、例えば、ベンゾフェノン、
4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4′
−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4−メトキ
シ−4′−ジエチルアミノベンゾフェノン等が例示され
る。
As aromatic ketones, for example, benzophenone,
4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4 '
-Bis (diethylamino) benzophenone, 4-methoxy-4'-diethylaminobenzophenone and the like.

ベンゾイン類及びベンゾインエーテル類としては、例
えばベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインフェニルエチルエーテル等が例示され
る。
Examples of benzoins and benzoin ethers include benzoin, methyl benzoin, ethyl benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin phenyl ethyl ether and the like.

置換又は非置換のチオキサントン類としては、例え
ば、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−
メチルチオキサントン、2−エチルチオキサントン、2
−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキ
サントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジブチ
ルチオキサントン等が例示される。
Examples of the substituted or unsubstituted thioxanthone include thioxanthone, 2-chlorothioxanthone,
Methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2
-Isopropylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dibutylthioxanthone and the like.

また他の光重合開始剤として、ベンジル、α,α−ジ
エトキシアセトフェノンやベンゾフェノンオキシムアセ
テート等のオキシムエステル類等が例示される。
Examples of other photopolymerization initiators include oxime esters such as benzyl, α, α-diethoxyacetophenone and benzophenone oxime acetate.

上記重合開始剤は、一種または二種以上使用され、同
種または異種の光重合開始剤を組み合せて使用してもよ
い。
One or more of the above polymerization initiators are used, and the same or different photopolymerization initiators may be used in combination.

光重合開始剤の量は、硬化速度及び解像度を低下させ
ない範囲で選択できるが、通常、前記熱可塑性高分子10
0重量部に対して0.01〜30重量部、好ましくは1〜15重
量部である。
The amount of the photopolymerization initiator can be selected within a range that does not decrease the curing speed and the resolution, but usually, the thermoplastic polymer 10
The amount is 0.01 to 30 parts by weight, preferably 1 to 15 parts by weight based on 0 parts by weight.

なお、上記光重合開始剤は、例えば、2,4,5−トリア
リールイミダゾリル二量体、2−メルカプトベンゾオキ
サゾール、ロイコクリスタルバイオレット、トリス(4
−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)メタンや、脂
肪族又は芳香族第3級アミン、例えば、N−メチルジエ
タノールアミン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエ
ステル等と組み合せて使用するのが有用である。
The photopolymerization initiator is, for example, 2,4,5-triarylimidazolyl dimer, 2-mercaptobenzoxazole, leuco crystal violet, tris (4
-Diethylamino-2-methylphenyl) methane and aliphatic or aromatic tertiary amines such as N-methyldiethanolamine, ethyl p-dimethylaminobenzoate, and the like are useful.

本発明の光重合性組成物は、必要に応じて、熱重合反
応を抑制し、貯蔵安定性を高める安定剤、発色剤、レジ
スト像の判別を容易にする着色剤、柔軟性を付与する可
塑剤等を含有してもよい。安定剤としては、例えば、p
−メトキシフェノール、ハイドロキノン、ハイドロキノ
ンモノメチルエーテル、tert−ブチルカテコール等が例
示され、光重合性を阻害しない範囲で適宜量使用され
る。発色剤としては、トリアリールメタン系染料のロイ
コ体が有用であり、例えば、ロイコクリスタルバイオレ
ット、ロイコマラカイトグリーンや、これらロイコ体の
塩酸塩、硫酸塩等の鉱酸塩、p−トルエンスルホン酸塩
等の有機酸塩等が挙げられる。また、着色剤としては、
例えば、クリスタルバイオレット、マラカイトグリー
ン、ビクトリアブルー、メチレンブルー等が例示され
る。可塑剤としては、例えば、ジエチルフタレート、ジ
ブチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジオクチル
フタレート等のフタル酸エステル類;ジオクチルアジペ
ート、ジブチルジグリコールアジペート等の脂肪酸エス
テル類;トチメチルホスフィン等のリン酸エステル類;
トルエンスルホン酸アミド等のスルホン酸アミド類等が
例示される。
The photopolymerizable composition of the present invention may contain a stabilizer, a coloring agent, a coloring agent for facilitating discrimination of a resist image, a plasticizer for imparting flexibility, if necessary, for suppressing a thermal polymerization reaction and for enhancing storage stability. And the like. As the stabilizer, for example, p
-Methoxyphenol, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, tert-butylcatechol and the like are exemplified, and they are used in an appropriate amount as long as the photopolymerizability is not impaired. As the color former, a leuco compound of a triarylmethane dye is useful. For example, leuco crystal violet, leucomalachite green, mineral salts such as hydrochloride and sulfate of these leuco bodies, p-toluenesulfonate And the like. Also, as a coloring agent,
For example, crystal violet, malachite green, Victoria blue, methylene blue and the like are exemplified. Examples of the plasticizer include phthalic acid esters such as diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diheptyl phthalate and dioctyl phthalate; fatty acid esters such as dioctyl adipate and dibutyl diglycol adipate; phosphoric acid esters such as totimethyl phosphine;
Examples thereof include sulfonic acid amides such as toluenesulfonic acid amide.

本発明の光重合性組成物は、有機溶媒を含有しない液
状であってもよいが、通常、有機溶媒に溶解ないし分散
した液状またはドライフィルムの形態で使用される。上
記有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノー
ル、プロパノール等のアルコール類、酢酸エチル等のエ
ステル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン
類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル類、塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素類等が例示
される。ドライフィルムは、例えば、ポリエチレンテレ
フタレートフィルム等の基体フィルムに重合性組成物を
塗布し、乾燥した後、ポリエチレンフィルム等のカバー
フィルムを加圧ロール等でラミネートすることにより作
製される。
The photopolymerizable composition of the present invention may be a liquid containing no organic solvent, but is usually used in the form of a liquid or a dry film dissolved or dispersed in an organic solvent. Examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, and propanol; esters such as ethyl acetate; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; ethers such as diethyl ether and tetrahydrofuran; and halogenated hydrocarbons such as methylene chloride. And the like. The dry film is produced, for example, by applying a polymerizable composition to a base film such as a polyethylene terephthalate film, drying the film, and then laminating a cover film such as a polyethylene film with a pressure roll or the like.

本発明の光重合性組成物からなる感光層は、通常、有
機溶媒を含有する液状の光重合性組成物をプリント基板
等のと支持体に印刷又は塗布し、有機溶媒を除去した
り、ドライフィルムのカバーフィルムを剥離し、上記支
持体にゴムロール等でラミネートすることにより形成さ
れる。
The photosensitive layer comprising the photopolymerizable composition of the present invention is usually printed or coated with a liquid photopolymerizable composition containing an organic solvent on a substrate such as a printed circuit board, and the organic solvent is removed or dried. It is formed by peeling the cover film of the film, and laminating the above-mentioned support with a rubber roll or the like.

感光層は、化学的に活性な放射線を発生させる光源、
例えば、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプな
どの光源で露光される。露光は、通常、必要に応じて感
光層上にカバーシートを設け、ネガまたはポジ型のパタ
ーンマスクを用い、接触法または投影法により行われ
る。露光後、塩基性化合物を含有するアルカリ現像液で
現像すると前記パターンに応じたレジスト像が得られ
る。アルカリ現像液の塩基性化合物としては、例えば、
炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭
酸水素ナトリウム、珪酸ナトリウム、リン酸ナトリウム
等の無機塩基;ブチルアミン、ジメチルアミン、トリメ
チルアミン、トリエチルアミン、エタノールアミン、ジ
エタノールアミン、トリエタノールアミン、モルホリ
ン、ピリジン等の有機塩基が例示される。現像液には、
エチレングリコールモノブチルエーテル等の有機溶媒が
含有されていてもよい。
The photosensitive layer is a light source that generates chemically active radiation,
For example, exposure is performed with a light source such as a low-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, and a xenon lamp. Exposure is usually performed by providing a cover sheet on the photosensitive layer as necessary and using a negative or positive pattern mask by a contact method or a projection method. After exposure, development with an alkaline developer containing a basic compound yields a resist image corresponding to the pattern. As the basic compound of the alkali developer, for example,
Inorganic bases such as potassium carbonate, sodium carbonate, potassium bicarbonate, sodium bicarbonate, sodium silicate, sodium phosphate; organic bases such as butylamine, dimethylamine, trimethylamine, triethylamine, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, morpholine, pyridine and the like Is exemplified. In the developer,
An organic solvent such as ethylene glycol monobutyl ether may be contained.

また、回路パターンを形成する場合には、レジスト像
を形成した後、メッキ液やエッチング液で処理され、上
記レジスト像は水酸化ナトリウム等の強アルカリ水溶液
または、塩化メチレン等の有機溶剤で剥離除去される。
When a circuit pattern is formed, after forming a resist image, the resist image is treated with a plating solution or an etching solution, and the resist image is peeled off with a strong alkaline aqueous solution such as sodium hydroxide or an organic solvent such as methylene chloride. Is done.

(実施例及び比較例) 実施例に基づいて本発明をより詳細に説明する。ま
ず、以下の成分を混合して光重合性樹脂組成物を得た。
(Examples and Comparative Examples) The present invention will be described in more detail based on examples. First, the following components were mixed to obtain a photopolymerizable resin composition.

熱可塑性高分子 50g トリメチロールプロパントリアクリレート 15 g ノナエチレングリコールジメタクリレート 10 g 2,4−ジエチルチオキサントン 0.8 g p−ジメチルアミノ安息香酸エチル 3 g ダイヤモンドグリーンGH 0.03g メチルエチルケトン 70 g テトラヒドロフラン 10 g 熱可塑性高分子は、表1に示した組成から成るもので
ある。得られた光重合性樹脂組成物を厚さ0.1mmの銅箔
でサンドイッチ構造にラミネートし、180度引きはがし
密着力を測定した。測定結果は、表1に示した通りであ
る。
Thermoplastic polymer 50 g Trimethylolpropane triacrylate 15 g Nonaethylene glycol dimethacrylate 10 g 2,4-Diethylthioxanthone 0.8 g Ethyl p-dimethylaminobenzoate 3 g Diamond green GH 0.03 g Methyl ethyl ketone 70 g Tetrahydrofuran 10 g Thermoplastic high The molecule has the composition shown in Table 1. The obtained photopolymerizable resin composition was laminated in a sandwich structure with a copper foil having a thickness of 0.1 mm, and the adhesion was measured by peeling 180 degrees. The measurement results are as shown in Table 1.

(発明の効果) 以上の結果から明らかなように本発明による光重合性
樹脂組成物は、良好なレジストパターン(解像度,感
度,最小現像時間)を与えるうえに銅との密着性を著し
く向上させるものである。
(Effects of the Invention) As is clear from the above results, the photopolymerizable resin composition according to the present invention not only gives a good resist pattern (resolution, sensitivity, minimum development time), but also significantly improves the adhesion to copper. Things.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】下記(I)式で示されるポリカプロラクト
ン構造含有単量体および下記(II)式で示されるビニル
単量体との共重合化合物からなるポリカプロラクトン側
鎖を有する熱可塑性高分子化合物と常温常圧で液体又は
固体の付加重合性化合物と光重合開始剤とを含有する光
重合性組成物。 (ただし、N=1〜5,R1〜R7は水素原子又はアルキル基
である。) (ただし、R8〜R11は水素原子,アルキル基,芳香族環
又はハロゲン原子又はアルキルエステル基,カルボキシ
ル基を示す。)
1. A thermoplastic polymer having a polycaprolactone side chain comprising a copolymer compound of a polycaprolactone structure-containing monomer represented by the following formula (I) and a vinyl monomer represented by the following formula (II): A photopolymerizable composition containing a compound, a liquid or solid addition polymerizable compound at normal temperature and normal pressure, and a photopolymerization initiator. (However, N = 1 to 5, R 1 to R 7 are a hydrogen atom or an alkyl group.) (However, R 8 to R 11 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aromatic ring or a halogen atom or an alkyl ester group, or a carboxyl group.)
JP29294989A 1989-11-10 1989-11-10 Photopolymerizable composition Expired - Fee Related JP2750461B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29294989A JP2750461B2 (en) 1989-11-10 1989-11-10 Photopolymerizable composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29294989A JP2750461B2 (en) 1989-11-10 1989-11-10 Photopolymerizable composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03153750A JPH03153750A (en) 1991-07-01
JP2750461B2 true JP2750461B2 (en) 1998-05-13

Family

ID=17788509

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP29294989A Expired - Fee Related JP2750461B2 (en) 1989-11-10 1989-11-10 Photopolymerizable composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2750461B2 (en)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08328248A (en) * 1995-06-02 1996-12-13 Nippon Paint Co Ltd Water-developable photosensitive resin composition
TW200710571A (en) * 2005-05-31 2007-03-16 Taiyo Ink Mfg Co Ltd Curable resin composition and cured object obtained therefrom
JP4713948B2 (en) * 2005-05-31 2011-06-29 太陽ホールディングス株式会社 Curable resin composition and cured product thereof
TWI503625B (en) * 2013-08-23 2015-10-11 Ind Tech Res Inst Photosensitive composition and photoresist
CN106978066A (en) * 2017-04-28 2017-07-25 广东深展实业有限公司 Water-based cationic polyurethane acrylate vacuum coating metallic paint

Also Published As

Publication number Publication date
JPH03153750A (en) 1991-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0356952B1 (en) Process for making flexographic plates with increased flexibility
US4273857A (en) Polymeric binders for aqueous processable photopolymer compositions
US4239849A (en) Polymers for aqueous processed photoresists
US4632897A (en) Photopolymerizable recording material suitable for the production of photoresist layers
US4088498A (en) Photopolymerizable copying composition
JP3549015B2 (en) Photopolymerizable composition
JP2001201851A (en) Photopolymerizable resin composition
US4353978A (en) Polymeric binders for aqueous processable photopolymer compositions
US3879204A (en) Two-layer photopolymerizable gravure resist film
JP2750461B2 (en) Photopolymerizable composition
JPS60258539A (en) Photopolymerizable composition
JP2826329B2 (en) Photopolymerizable composition
WO2011114593A1 (en) Photosensitive resin composition and photosensitive element using same, resist pattern formation method and printed circuit board manufacturing method
JP2826330B2 (en) Photopolymerizable composition
JP2826331B2 (en) Photopolymerizable composition
JP2726072B2 (en) Photopolymerizable composition
JP2801047B2 (en) Photopolymerizable composition
JP2679193B2 (en) Photopolymerizable composition
JPH05241340A (en) Photopolymerizable composition
JP2982398B2 (en) New photosensitive resin composition
JP2003057812A (en) Photopolymerizable resin composition
JP2856746B2 (en) Photopolymerizable composition
JPH0536581A (en) Photopolymerizing composition
JP3638772B2 (en) Photopolymerizable composition
JP2700391B2 (en) Photosensitive composition

Legal Events

Date Code Title Description
S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313532

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees