JP2659541B2 - Transparent electrode for transparent tablet - Google Patents

Transparent electrode for transparent tablet

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JP2659541B2 JP21541987A JP21541987A JP2659541B2 JP 2659541 B2 JP2659541 B2 JP 2659541B2 JP 21541987 A JP21541987 A JP 21541987A JP 21541987 A JP21541987 A JP 21541987A JP 2659541 B2 JP2659541 B2 JP 2659541B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、透明タブレット用透明電極に関し、さら
に詳しくは防蝕性・酸化防止性を有し、さらに機械的強
度に優れ、外部と直接接触する用途に用いうる透明タブ
レット用透明電極に係るものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a transparent electrode for a transparent tablet, and more particularly, to a transparent electrode having corrosion resistance and antioxidation, excellent mechanical strength, and direct contact with the outside. The present invention relates to a transparent tablet transparent electrode that can be used for applications.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

ガラスやプラスチック(以下ガラス等という)の基板
上に形成された透明電極は、その優れた透明性から液晶
ディスプレイ、エレクトロクロミックディスプレイ,プ
ラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンス、蛍光
表示管の表示部用透明電極あるいはメンブレンスイッチ
等の透明電極として用いられている。
Transparent electrodes formed on glass or plastic (hereinafter referred to as glass etc.) substrates are transparent electrodes for liquid crystal displays, electrochromic displays, plasma displays, electroluminescence, display sections of fluorescent display tubes or membranes because of their excellent transparency. It is used as a transparent electrode for switches and the like.

このような液晶ディスプレイ等に用いられている透明
電極は基板上に形成されているが、この透明電極は外界
と直接に接触することはなく、装置内部で用いられてい
る。このように透明電極を外界と接触のある場所でな
く、装置内部で用いなければならいのは次のような理由
からである。すなわち、一般にこれら透明電極は、蒸着
法・スパッタリング法等の気相法によりガラス等の基板
上に形成されるが、これらの透明電極は、酸、アルカリ
により腐蝕したり、空気中で酸化されたり、また、電気
抵抗が温度、湿度等によって変化し、さらに機械的強度
が弱いために傷付き易くて透明電極が断線するという問
題点があるからである。
The transparent electrode used in such a liquid crystal display or the like is formed on a substrate, but the transparent electrode is used directly inside the device without directly contacting the outside. The reason why the transparent electrode must be used inside the device, not in a place where it is in contact with the outside world, is as follows. That is, generally, these transparent electrodes are formed on a substrate such as glass by a vapor phase method such as a vapor deposition method or a sputtering method, but these transparent electrodes are corroded by an acid or alkali, or oxidized in the air. In addition, the electrical resistance varies depending on the temperature, humidity, and the like, and furthermore, the mechanical strength is weak, so that the transparent electrode is easily damaged and the wire is disconnected.

ところで、近年、コンピュータ等に情報を表示装置の
外部から直接入力する目的で開発されている透明ディジ
タイザあるいはテレライティングターミナル用入力面等
に透明電極を適用する必要性が生じている。
In recent years, it has become necessary to apply a transparent electrode to a transparent digitizer or an input surface for a telewriting terminal, which has been developed for the purpose of directly inputting information to a computer or the like from outside the display device.

例えば第4図および第5図は透明ディジタイザの一例
で、ガラス板11の表面に透明電極12が形成されており、
その四辺からダイオード13,14,15,16により電極が引き
出されている。この透明ディジタイザにスイッチ18,19
を接続し、その表面に電気ペン17を接触することによっ
て、透明電極12に電流が流れる。この電流値は、電気ペ
ン17の接触位置によって変化するため、電流値の計測に
より接触位置を算出することができる。
For example, FIGS. 4 and 5 show an example of a transparent digitizer in which a transparent electrode 12 is formed on the surface of a glass plate 11,
Electrodes are drawn out from the four sides by diodes 13, 14, 15, and 16. Switches 18 and 19 for this transparent digitizer
Are connected, and the electric pen 17 is brought into contact with the surface thereof, whereby a current flows through the transparent electrode 12. Since the current value changes depending on the contact position of the electric pen 17, the contact position can be calculated by measuring the current value.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

ところが、このような用途に用いられる透明電極12
は、外界と直接接触することになる。しかしながら、従
来知られている透明電極12では機械的強度が弱いため、
入力ペンなどの入力端子と接触すると容易に透明電極12
の断線がおこったり、また、透明電極12が酸、アルカリ
あるいは空気によって腐蝕し易い等の大きな問題点があ
り、透明電極12を前記透明ディジタイザあるいはテレラ
イティングターミナル等に適用することはできなかっ
た。
However, transparent electrodes 12 used for such purposes
Will come into direct contact with the outside world. However, because the mechanical strength of the conventionally known transparent electrode 12 is weak,
When it comes into contact with an input terminal such as an input pen,
And the transparent electrode 12 is easily corroded by acid, alkali, or air, and the like, and the transparent electrode 12 cannot be applied to the transparent digitizer, the telewriting terminal, or the like.

この発明は、上記のような従来技術に伴う問題点を解
決するものであって、防蝕性,酸化防止性,機械的強度
に優れ、外界と直接接触する用途に用いうる透明タブレ
ット用透明電極を提供することを目的とする。
The present invention solves the problems associated with the prior art described above, and provides a transparent electrode for a transparent tablet which has excellent corrosion resistance, antioxidant properties, and mechanical strength, and which can be used for direct contact with the outside world. The purpose is to provide.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

この発明は、透明絶縁基板上に、透明電極膜と、金属
粒子が有機バインダあるいは無機バインダに単分散した
異方導電性膜と、さらに導電性酸化物粉末がバインダ樹
脂に分散した透明導電性保護膜とを順次形成したもので
ある。
The present invention provides a transparent electrode film, an anisotropic conductive film in which metal particles are monodispersed in an organic binder or an inorganic binder, and a transparent conductive protection in which conductive oxide powder is further dispersed in a binder resin. And a film are sequentially formed.

〔作用〕[Action]

この発明は、単分散させた金属粒子を通じて下方の透
明電極膜と導通し入力を行う。そして、透明電極膜はそ
の上の異方導電性膜により直接外界と接触しないように
保護される。
In the present invention, input is performed by conducting to the lower transparent electrode film through the monodispersed metal particles. Then, the transparent electrode film is protected by the anisotropic conductive film thereon so as not to directly contact the outside.

そして、透明導電性保護膜によって金属粒子が直接外
界と接触しないように保護される。
The transparent conductive protective film protects the metal particles from direct contact with the outside.

〔実施例〕〔Example〕

この発明に係る透明タブレット用透明電極の実施例に
ついて以下に説明する。
An embodiment of the transparent electrode for a transparent tablet according to the present invention will be described below.

第1図はこの発明に係る透明タブレット用透明電極の
原理説明の図であり、1はプラスチックあるいはガラス
等の透明絶縁基板、2は前記透明絶縁基板1上に形成さ
れた透明電極膜、3は異方導電性膜で、金属粒子4が分
散しており、透明電極膜2上に形成される。以下それぞ
れについて説明する。
FIG. 1 is a view for explaining the principle of a transparent electrode for a transparent tablet according to the present invention, wherein 1 is a transparent insulating substrate such as plastic or glass, 2 is a transparent electrode film formed on the transparent insulating substrate 1, and 3 is The metal particles 4 are dispersed in the anisotropic conductive film and are formed on the transparent electrode film 2. Hereinafter, each will be described.

この発明で用いられる透明絶縁基板1は、プラスチッ
ク製あるいはガラス製等が使用できる。
The transparent insulating substrate 1 used in the present invention can be made of plastic or glass.

次に、前記透明絶縁基板1上に形成される透明電極膜
2は、透明であることが好ましい。透明電極膜2の表面
抵抗は10〜5000Ω/□、全光線透過率が65%以上、さら
に好ましくは、表面抵抗が10〜1000Ω/□、全光線透過
率が70%以上であることが望ましい。表面抵抗が5000Ω
/□を越えると、表面抵抗が高くなりすぎるため好まし
くない、また、全光線透過率が65%未満であると、透明
性が悪くなるため好ましくない。
Next, the transparent electrode film 2 formed on the transparent insulating substrate 1 is preferably transparent. It is desirable that the surface resistance of the transparent electrode film 2 is 10 to 5000 Ω / □ and the total light transmittance is 65% or more, more preferably, the surface resistance is 10 to 1000 Ω / □ and the total light transmittance is 70% or more. Surface resistance 5000Ω
When the ratio exceeds / □, the surface resistance becomes too high, which is not preferable. When the total light transmittance is less than 65%, the transparency deteriorates, which is not preferable.

この発明に係る異方導電性膜3は、第1図のように、
金属粒子4が有機バインダあるいは無機バインダ(以下
異方導電性膜用バインダという)中に単分散し、さらに
金属粒子4の一部が表面に露出したものであり、それを
透明電極膜2の上に形成する。これにより透明電極膜2
は直接外部との接触がなくなるので、酸・アルカリある
いは空気による腐蝕および酸化を防止できる。さらに、
入力ペン等の入力端子が透明電極膜2に直接接触しない
ため、断線がおこらず、入力不良がなくなる。
The anisotropic conductive film 3 according to the present invention is, as shown in FIG.
Metal particles 4 are monodispersed in an organic binder or an inorganic binder (hereinafter referred to as a binder for an anisotropic conductive film), and a part of the metal particles 4 is exposed on the surface. Formed. Thereby, the transparent electrode film 2
Since there is no direct contact with the outside, corrosion and oxidation by acid, alkali or air can be prevented. further,
Since an input terminal such as an input pen does not directly contact the transparent electrode film 2, disconnection does not occur and input failure is eliminated.

異方導電性膜3中で、電流は金属粒子4を介して、露
出部分から下層の透明電極膜2の方向にのみ流れ、膜内
部の横方向には金属粒子4同士が接触せずに膜中に単分
散しているため電流は流れない。金属粒子4は電気抵抗
の小さなものならば何でもよいが、具体的には、Au,Ag,
Pt,Pd等の貴金属粒子、Sn,Cu,Ni,Zn,Fe,Pb等の金属粒子
または前記貴金属、金属の合金が使用可能である。ま
た、前記貴金属・金属が無機物の粒子や樹脂の粒子に鍍
金されたものでも使用することができる。金属粒子4
は、その粒径が2〜30μmのものであれば使用できる。
2μm未満であると入力端子が異方導電性膜3を突破っ
たり、摩減させるため透明電極膜2の断線がおこりやす
くなり、30μmを越えると透明性が低下するからであ
る。
In the anisotropic conductive film 3, a current flows only from the exposed portion to the lower transparent electrode film 2 through the metal particles 4, and the metal particles 4 do not contact each other in the lateral direction inside the film. No current flows because it is monodispersed inside. The metal particles 4 may be anything as long as they have a small electric resistance, but specifically, Au, Ag,
Noble metal particles such as Pt and Pd, metal particles such as Sn, Cu, Ni, Zn, Fe and Pb, or alloys of the above noble metals and metals can be used. Further, those in which the noble metal or metal is plated with inorganic particles or resin particles can also be used. Metal particles 4
Can be used if its particle size is 2 to 30 μm.
If the thickness is less than 2 μm, the input terminal breaks through the anisotropic conductive film 3 or wears out, so that the transparent electrode film 2 is liable to be broken. If it exceeds 30 μm, the transparency is reduced.

異方導電性膜用バインダに用いられる有機バインダあ
るいは無機バインダとしては、透明電極膜2との密着性
の良いものであれば使用でき、あるいは密着性の悪いバ
インダでもカップリング剤を混合して密着性を向上させ
れば使用できる。具体的には、有機バインダとして、メ
タクリル樹脂等のアクリル系樹脂、ユリア樹脂、メラミ
ン樹脂等のアミノ系樹脂、ポリウレタン樹脂、アルキッ
ド樹脂等のポリエステル系樹脂、エポキシ樹脂、シリコ
ーン系樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、酢
酸ビニル樹脂、ポリビニルカルバゾール樹脂、ブチラー
ル樹脂等のビニル系樹脂、弗素系樹脂、ポリフェニレン
オキシド系樹脂、紫外線硬化樹脂あるいはセルロール誘
導体等が用いられる。また、前記樹脂の混合物あるいは
前記樹脂の共重合体等を1種または2種以上組合せて使
用できる。
As the organic binder or the inorganic binder used for the binder for the anisotropic conductive film, any binder having good adhesion to the transparent electrode film 2 can be used. It can be used if the performance is improved. Specifically, as an organic binder, acrylic resin such as methacrylic resin, urea resin, amino resin such as melamine resin, polyurethane resin, polyester resin such as alkyd resin, epoxy resin, silicone resin, vinyl chloride resin, A vinyl resin such as a vinylidene chloride resin, a vinyl acetate resin, a polyvinyl carbazole resin, a butyral resin, a fluorine resin, a polyphenylene oxide resin, an ultraviolet curable resin, or a cellulose derivative is used. Further, a mixture of the above resins or a copolymer of the above resins may be used alone or in combination of two or more.

また、無機バインダとしては、有機溶媒を分散媒とす
るコロイドが良く、そのコロイドとしてシリカ、アルミ
ナ、ジルコニア、チタニア、スズ等が使用できる。コロ
イドの粒径としては5〜80mμであればよい。80mμを越
えると異方導電性膜3の透明性が悪くなるからである。
As the inorganic binder, a colloid containing an organic solvent as a dispersion medium is preferable, and silica, alumina, zirconia, titania, tin, or the like can be used as the colloid. The particle size of the colloid may be 5 to 80 mμ. If the thickness exceeds 80 μm, the transparency of the anisotropic conductive film 3 deteriorates.

金属粒子4と有機バインダまたは無機バインダの混合
割合は、両者の全体容積に対して金属粒子4が0.1〜10v
ol%、好ましくは1〜6vol%である。0.1vol%未満であ
ると金属粒子4同士の間隔が離れすぎるために入力が不
明瞭になり、10vol%を越えると透明電極膜2との密着
性および異方導電性膜3の透明性が悪くなるからであ
る。さらに、異方導電性膜3の膜厚は、その表面に金属
粒子4が露出するように金属粒子4の粒径よりも小さく
する。異方導電性膜3は金属粒子4と異方導電膜用バイ
ンダが後述の溶剤中に溶解あるいは分散された異方導電
性膜用塗料により得ることができる。
The mixing ratio of the metal particles 4 and the organic binder or the inorganic binder is such that the metal particles 4 are 0.1 to 10 v
ol%, preferably 1 to 6 vol%. If it is less than 0.1 vol%, the input between the metal particles 4 is too far apart to make the input unclear, and if it exceeds 10 vol%, the adhesion to the transparent electrode film 2 and the transparency of the anisotropic conductive film 3 are poor. Because it becomes. Further, the thickness of the anisotropic conductive film 3 is smaller than the particle size of the metal particles 4 so that the metal particles 4 are exposed on the surface. The anisotropic conductive film 3 can be obtained by a coating for an anisotropic conductive film in which metal particles 4 and a binder for an anisotropic conductive film are dissolved or dispersed in a solvent described later.

このように、透明絶縁基板1の上に透明電極膜2およ
び異方導電性膜3を順次積層すれば透明電極が得られ、
透明ディジタイザあるいはテレライティングターミナル
に適用することができる。
Thus, a transparent electrode can be obtained by sequentially laminating the transparent electrode film 2 and the anisotropic conductive film 3 on the transparent insulating substrate 1,
It can be applied to a transparent digitizer or a telewriting terminal.

ところがこの構成では、次の問題点が残る。一つは金
属粒子4が露出しているため、金属の酸化や腐蝕が発生
し易いため電気抵抗が変動したり、あるいは金属粒子4
が入力端子により摩滅する。また、金属粒子4間には絶
縁物であるバインダが存在するため、入力端子がバイン
ダだけに接触した場合には入力されないことになり、さ
らに、入力端子が金属粒子4に触れる際や離れる際に電
気スパークが発生する。これらの問題を解決したのがこ
の発明であり第2図にその実施例を示す。
However, this configuration has the following problems. One is that since the metal particles 4 are exposed, the oxidation or corrosion of the metal is apt to occur, so that the electrical resistance fluctuates or the metal particles 4
Are worn by the input terminal. In addition, since there is a binder which is an insulator between the metal particles 4, no input is made when the input terminal contacts only the binder, and further, when the input terminal touches or separates from the metal particle 4. Electric spark occurs. The present invention has solved these problems, and FIG. 2 shows an embodiment thereof.

第2図において、5は前記異方導電性膜3の上に形成
した透明導電性保護膜であり、その他は第1図と同じで
ある。透明導電性保護膜5はその膜厚が2〜30μmであ
り、透明導電性保護膜5の防蝕性・膜強度をさらに高め
るには、3〜30μmであることが好ましい。透明導電性
保護膜5の膜厚が2μm未満では、透明導電性保護膜5
の強度が弱くなるため好ましくなく、一方、30μmを越
えると透明導電性保護膜5の透明性が悪くなり、透明タ
ブレット用透明電極の透明性を低下させるため好ましく
ない。また、透明導電性保護膜5自体の体積抵抗値とし
ては、10-1〜106Ω・cmであることが好ましい。また、
透明導電性保護膜5自体の体積抵抗値が106Ω・cmを越
えると厚さ方向に電流が流れにくくなり、透明電極膜2
が電極としての機能を損なうため好ましくない。
In FIG. 2, reference numeral 5 denotes a transparent conductive protective film formed on the anisotropic conductive film 3, and the other components are the same as those in FIG. The transparent conductive protective film 5 has a thickness of 2 to 30 μm, and preferably 3 to 30 μm in order to further increase the corrosion resistance and film strength of the transparent conductive protective film 5. If the thickness of the transparent conductive protective film 5 is less than 2 μm, the transparent conductive protective film 5
On the other hand, if the thickness exceeds 30 μm, the transparency of the transparent conductive protective film 5 is deteriorated, and the transparency of the transparent electrode for a transparent tablet is undesirably reduced. Further, the volume resistance value of the transparent conductive protective film 5 itself is preferably 10 −1 to 10 6 Ω · cm. Also,
If the volume resistivity of the transparent conductive protective film 5 itself exceeds 10 6 Ω · cm, it becomes difficult for current to flow in the thickness direction, and the transparent electrode film 2
Is not preferred because the function as an electrode is impaired.

したがって、透明絶縁基板1上に透明電極膜2と異方
導電性膜3および透明導電性保護膜5とが順次形成され
た第2図に示す透明タブレット用透明電極は、その表面
抵抗が2×103Ω/□以下であることが好ましい。前記
数値を越えると透明タブレット用透明電極として使用で
きない。
Therefore, the transparent electrode for a transparent tablet shown in FIG. 2 in which the transparent electrode film 2, the anisotropic conductive film 3, and the transparent conductive protective film 5 are sequentially formed on the transparent insulating substrate 1, has a surface resistance of 2 ×. It is preferably at most 10 3 Ω / □. If it exceeds the above value, it cannot be used as a transparent electrode for a transparent tablet.

また、透明導電性保護膜5は、導電性酸化物粉末(以
下cという)が透明導電性保護膜用バインダ樹脂(以下
dという)中に分散された透明導電性保護膜用塗料を用
いて、異方導電性膜3上に形成される。
The transparent conductive protective film 5 is made of a transparent conductive protective film paint in which a conductive oxide powder (hereinafter, referred to as c) is dispersed in a transparent conductive protective film binder resin (hereinafter, referred to as d). It is formed on the anisotropic conductive film 3.

この際に用いられる透明導電性保護膜用塗料中の導電
性酸化物粉末cは、酸化インジウムにSn,F,Cl等の元素
を1種または2種以上ドープした導電性酸化インジウム
粉末、あるいは酸化錫にSb,F,Cl,P等の元素を1種また
は2種以上ドープした導電性酸化錫粉末が用いられる。
さらに、前記導電性酸化インジウム粉末と導電性粉末錫
粉末を混合して使用することもできる。そして、それら
導電性酸化インジウム粉末あるいは導電性酸化錫粉末の
塗料中の平均粒子径は、0.01〜0.6μm、好ましくは0.0
1〜0.5μmの範囲にあり、さらに、0.8μm以上の粗大
粒子が少量しか含まれていないものが良い。これらの粉
末の製造方法は特に限定しないが、好ましくは特開昭62
−51008号公報によって得られる導電性微粉末がよい。
The conductive oxide powder c in the paint for the transparent conductive protective film used at this time is a conductive indium oxide powder in which one or more elements such as Sn, F, and Cl are doped into indium oxide, or an oxide. Conductive tin oxide powder in which one or more elements such as Sb, F, Cl, and P are doped into tin is used.
Further, the conductive indium oxide powder and the conductive powder tin powder may be mixed and used. The average particle size of the conductive indium oxide powder or conductive tin oxide powder in the coating is 0.01 to 0.6 μm, preferably 0.0 to 0.6 μm.
It is preferably in the range of 1 to 0.5 μm and further contains only a small amount of coarse particles of 0.8 μm or more. The method for producing these powders is not particularly limited, but is preferably
Preferred is a conductive fine powder obtained according to JP-A-51008.

この導電性微粉末の調整方法について説明すると、こ
の導電性微粉末は、スズ化合物またはインジウム化合物
の水溶液を、8〜12のpH条件下に保持して、液中の化合
物を徐々に加水分解することにより、金属酸化物、含水
酸化物あるいは金属水酸化物のコロイド粒子を含有する
ゾルを生成させ、しかる後、このゾルを乾燥、焼成した
後、粉砕して得られる。出発原料としては、水溶性で、
しかもpH8〜12の範囲で加水分解可能なスズ化合物また
はインジウム化合物が使用され、具体的には、スズ酸カ
リウム、スズ酸ナトリウム等のスズ化合物、および硝酸
インジウム、硫酸インジウム等のインジウム化合物が使
用可能である。
The method for preparing the conductive fine powder will be described. The conductive fine powder gradually hydrolyzes a compound in a liquid while maintaining an aqueous solution of a tin compound or an indium compound under a pH condition of 8 to 12. Thereby, a sol containing colloidal particles of a metal oxide, a hydrated oxide or a metal hydroxide is generated, and then the sol is dried, calcined, and pulverized. The starting material is water-soluble,
In addition, tin compounds or indium compounds that can be hydrolyzed in the pH range of 8 to 12 are used, and specifically, tin compounds such as potassium stannate and sodium stannate, and indium compounds such as indium nitrate and indium sulfate can be used. It is.

スズ化合物またはインジウム化合物の水溶液(以下原
料液という)に含まれる金属種が、スズまたはインジウ
ムのいずれか1種である場合、得られる導電性微粉末は
酸化スズまたは酸化インジウムで構成されるが、原料液
に少量の異種金属を溶存させることで、異種金属がドー
プした導電性微粉末を製造することができる。ちなみ
に、スズ化合物を含有する原料液に、少量の吐酒石また
は弗化アンモニウムを溶解させておくことにより、酸化
錫にアンチモンまたは弗素がドープした導電性微粉末を
得ることができ、インジウム化合物を含有する原料液に
少量のスズ化合物を溶解させておくことにより、酸化イ
ンジウムにスズがドープした導電性微粉末を得ることが
できる。
When the metal species contained in the aqueous solution of the tin compound or the indium compound (hereinafter referred to as a raw material liquid) is any one of tin and indium, the obtained conductive fine powder is composed of tin oxide or indium oxide. By dissolving a small amount of a different metal in the raw material liquid, a conductive fine powder doped with a different metal can be produced. By the way, by dissolving a small amount of tartar or ammonium fluoride in the raw material liquid containing the tin compound, it is possible to obtain a conductive fine powder in which antimony or fluorine is doped into tin oxide, and the indium compound is removed. By dissolving a small amount of a tin compound in a contained raw material liquid, a conductive fine powder in which indium oxide is doped with tin can be obtained.

異種金属がドープした導電性微粉末は、また、次のよ
うな方法でも製造することができる。すなわち、原料液
にスズ化合物を使用し、液中のスズ化合物を上記のpH条
件下で徐々に加水分解することでゾルを生成させ、この
ゾルからコロイド粒子を回収し、次いでアンチモン化合
物、リン化合物および弗素化合物の少なくとも1種の水
溶液を前記コロイド粒子に含浸させ、しかる後に、この
粒子を乾燥して焼成する方法により、スズ化合物にアン
チモン、リン弗素などがドープした導電性微粉末を製造
することができる。また、原料液にインジウム化合物の
水溶液を使用し、上記と同様にしてゾルを生成させ、こ
のゾルからコロイド粒子を回収後、スズ化合物および/
または弗素化合物の水溶液をこのコロイド粒子に含浸さ
せ、次いで、この粒子を乾燥して焼成する方法によりイ
ンジウム化合物にスズおよび/または弗素がドープした
導電性微粉末を製造することができる。原料液がスズ化
合物である場合でも、また、インジウム化合物である場
合でもゾルを生成させる過程で副生塩が生成されると、
コロイド粒子が凝集し易くなるばかりでなく、最終的に
得らえる導電性微粉末の比抵抗が副生塩の夾雑によって
上昇するので、副生塩の生成が予想される場合には、ゾ
ルから回収したコロイド粒子に金属化合物水溶液を含浸
させるに先立って、コロイド粒子から副生塩を除去して
おくことが推奨される。
The conductive fine powder doped with a dissimilar metal can also be produced by the following method. That is, a tin compound is used as a raw material liquid, a sol is generated by gradually hydrolyzing the tin compound in the liquid under the above-mentioned pH conditions, colloid particles are collected from the sol, and then an antimony compound and a phosphorus compound A method of impregnating the colloid particles with at least one aqueous solution of a fluorine compound and then drying and baking the particles to produce a conductive fine powder in which a tin compound is doped with antimony, phosphorus fluorine, or the like. Can be. In addition, an aqueous solution of an indium compound is used as a raw material liquid, a sol is generated in the same manner as described above, and after collecting colloid particles from the sol, a tin compound and / or
Alternatively, a conductive fine powder in which an indium compound is doped with tin and / or fluorine can be produced by impregnating the colloid particles with an aqueous solution of a fluorine compound, and then drying and firing the particles. Even when the raw material liquid is a tin compound, and when a by-product salt is generated in the process of generating a sol even when the raw material liquid is an indium compound,
Not only does the colloidal particles easily agglomerate, but the specific resistance of the finally obtained conductive fine powder increases due to contamination with by-product salts. Prior to impregnating the collected colloid particles with the aqueous metal compound solution, it is recommended to remove by-product salts from the colloid particles.

原料液に含まれるスズ化合物またはインジウム化合物
の濃度は、任意に選ぶことができるが、一般に0.5〜30w
t%の範囲にあることが好ましい。
The concentration of the tin compound or the indium compound contained in the raw material liquid can be arbitrarily selected, but is generally 0.5 to 30 watts.
It is preferably in the range of t%.

上記の原料液に含まれるスズ化合物またはインジウム
化合物のドーパントとなる異種金属の化合物が共存して
いる場合には、異種金属化合物とともに、pH8〜12の条
件下で加水分解が生起している間、反応系のpHを常に8
〜12の範囲に保持しなければならない。pH8未満ではpH8
に近くても粒度分布がブロードになり、pH値がさらに低
下すると、加水分解で生成した金属酸化物が沈殿し、こ
れをコロイド粒子として液中に分散することができず、
したがって、ゾルを調整することができないからであ
る。また、反応系のpHが12を越えた場合には、ゾルの調
整は不可能ではないものの、ゾルから濾別したコロイド
粒子を洗浄する際に、アルカリ分を十分に除去できない
ため、最終的に得られる導電性微粉末の導電性が悪化す
るからである。
When a compound of a different metal serving as a dopant of the tin compound or the indium compound contained in the above-described raw material liquid is present, together with the different metal compound, while hydrolysis occurs under the condition of pH 8 to 12, Always keep the pH of the reaction system at 8
Must be kept in the range of ~ 12. pH8 below pH8
When the particle size distribution becomes broad and the pH value further decreases even when the temperature is close to, the metal oxide generated by hydrolysis precipitates and cannot be dispersed in the liquid as colloid particles,
Therefore, the sol cannot be adjusted. In addition, when the pH of the reaction system exceeds 12, although it is not impossible to adjust the sol, when washing the colloid particles separated from the sol, the alkali cannot be sufficiently removed. This is because the conductivity of the obtained conductive fine powder deteriorates.

反応器内に生成されるゾル液の固形分濃度について
は、特に制限はないが、一般に濃度が高くなるにしたが
って生成するコロイド粒子の粒度分布がブロードになる
傾向がある。加水分解の反応温度は常に30〜90℃の範囲
で任意に選ぶことができる。
There is no particular limitation on the solid content concentration of the sol liquid generated in the reactor, but generally, as the concentration increases, the particle size distribution of the generated colloidal particles tends to become broader. The hydrolysis reaction temperature can always be arbitrarily selected within the range of 30 to 90 ° C.

加水分解によって得らえるコロイド粒子の平均粒径
は、0.05〜0.3μm、好ましくは0.07〜0.2μmの範囲に
あり、粒度分布は全粒子の80%以上が平均粒径の0.5倍
〜1.5倍の範囲にある。
The average particle size of the colloidal particles obtained by hydrolysis is in the range of 0.05 to 0.3 μm, preferably 0.07 to 0.2 μm, and the particle size distribution is such that 80% or more of all the particles are 0.5 to 1.5 times the average particle size. In range.

ゾル液調整後は、このゾル液を濾過してコロイド粒子
を回収し、洗浄によって粒子に付着する副性塩、その他
を除去した後乾燥し、さらに焼成した後粉砕することに
よって、導電性微粉末を得ることができる。ゾル液から
濾別された粒子は、焼成工程で若干焼結するため、導電
性微粉末の平均粒径は20〜50μm程度であり、また、導
電性微粉末の比表面積は50m2/g以下である。
After the preparation of the sol solution, the sol solution is filtered to collect colloidal particles, and after removing by-product salts and others attached to the particles by washing, drying, and further calcination and then pulverization, the conductive fine powder is obtained. Can be obtained. The particles filtered out from the sol liquid are slightly sintered in the firing step, so the average particle size of the conductive fine powder is about 20 to 50 μm, and the specific surface area of the conductive fine powder is 50 m 2 / g or less. It is.

これに対して、従来公知の沈殿生成工程を経て製造さ
れる導電性微粉末の比表面積は、70〜100m2/gとなる。
このことは、上記によって得られる導電性微粉末の方が
従来の導電性微粉末よりも大きい一次粒子で構成されて
いることを物語っている。このようにして得らえる導電
性微粉末は、また、粉砕により容易にその焼結状態を解
き放つことができ、通常の粉砕手段によって塗料中での
平均粒子が0.6μm以下の導電性微粉末を得ることがで
きる。そして、こうして得られる導電性微粉末には、例
えば0.8μm以上の粗大粒子が少量しか含まれていな
い。なお、導電性微粉末の粉砕は、バインダ樹脂等の他
の成分との混合前に行ってもよく、また、バインダ樹脂
の他の成分との混合後に行ってもよい。導電性微粉末の
粉砕は、従来公知の粉砕方法によって行うことができ、
例えばアトライタ、サンドミル、ボールミル、三本ロー
ル等の機器が利用できる。
On the other hand, the specific surface area of the conductive fine powder produced through a conventionally known precipitation forming step is 70 to 100 m 2 / g.
This indicates that the conductive fine powder obtained as described above is composed of primary particles larger than the conventional conductive fine powder. The conductive fine powder thus obtained can be easily released from its sintered state by pulverization, and the average particle in the coating material is 0.6 μm or less in the coating material by ordinary pulverization means. Obtainable. The conductive fine powder thus obtained contains only a small amount of coarse particles of, for example, 0.8 μm or more. The pulverization of the conductive fine powder may be performed before mixing with other components such as a binder resin, or may be performed after mixing with other components such as a binder resin. The grinding of the conductive fine powder can be performed by a conventionally known grinding method,
For example, devices such as an attritor, a sand mill, a ball mill, and a three-roll machine can be used.

また、この発明の透明導電性保護膜用塗料で用いられ
る透明導電性保護膜用バインダ樹脂dは、具体的には、
例えばメタクリル樹脂等のアクリル系樹脂、ユリア樹
脂、メラミン樹脂等のアミン系樹脂、ポリウレタン系樹
脂、アルキッド樹脂等のポリエステル系樹脂、エポキシ
系樹脂、シリコーン系樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニ
リデン樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルカルバゾール
樹脂、プチラール樹脂等のビニル系樹脂、弗素系樹脂、
ポリフェニレオキシド系樹脂、紫外線硬化樹脂、あるい
はセルロース誘導体等が用いられる。また、上記樹脂の
混合物、あるいは上記樹脂の共重合体等の1種または2
種以上組合せて使用できる。
Further, the binder resin d for a transparent conductive protective film used in the paint for a transparent conductive protective film of the present invention is, specifically,
For example, acrylic resins such as methacrylic resins, amine resins such as urea resins and melamine resins, polyester resins such as polyurethane resins and alkyd resins, epoxy resins, silicone resins, vinyl chloride resins, vinylidene chloride resins, and vinyl acetate Resin, polyvinyl carbazole resin, vinyl resin such as butyral resin, fluorine resin,
A polyphenylene oxide resin, an ultraviolet curable resin, a cellulose derivative, or the like is used. One or two of a mixture of the above resins, a copolymer of the above resins, and the like.
More than one species can be used in combination.

導電性酸化物微粉末と透明導電性保護膜用バインダ樹
脂dとの混合割合いは、両者の全体重量に対して導電性
酸化物粉末cが40〜95wt%、好ましくは60〜90wt%、さ
らに、好ましくは70〜85wt%である。導電性酸化物粉末
cが40wt%未満では、得られる塗膜の導電性が悪くな
り、一方、95wt%を越えると透明導電性保護膜5と異方
導電性膜3との密着性および得らえる透明導電性保護膜
5の透明性が悪くなるので好ましくない。
The mixing ratio of the conductive oxide fine powder and the binder resin d for the transparent conductive protective film is such that the conductive oxide powder c is 40 to 95 wt%, preferably 60 to 90 wt%, based on the total weight of both. , Preferably 70 to 85% by weight. If the conductive oxide powder c is less than 40% by weight, the conductivity of the coating film obtained will be poor. On the other hand, if it exceeds 95% by weight, the adhesion between the transparent conductive protective film 5 and the anisotropic conductive film 3 and the obtained film will not be obtained. This is not preferable because the resulting transparent conductive protective film 5 has poor transparency.

透明電極膜2は蒸着法・スパッタリング法・CVD法等
の気相法により前記透明絶縁基板1上に導電性酸化イン
ジウム膜(ITO膜)あるいは導電性酸化錫膜(NESA膜)
等を被着することによって得ることができる。また、導
電性酸化インジウム粉末(以下aという)がキャリア移
動速度が10-8cm2/V・sec以上のバインダ樹脂(以下透明
電極膜用バインダ樹脂bという)中に分散された透明電
極用塗料を用いても透明絶縁基板1上に形成することが
できる。
The transparent electrode film 2 is made of a conductive indium oxide film (ITO film) or a conductive tin oxide film (NESA film) on the transparent insulating substrate 1 by a vapor phase method such as a vapor deposition method, a sputtering method, and a CVD method.
And the like. Also, a transparent electrode coating material in which conductive indium oxide powder (hereinafter referred to as a) is dispersed in a binder resin (hereinafter referred to as a transparent electrode film binder resin b) having a carrier moving speed of 10 −8 cm 2 / V · sec or more. Can be formed on the transparent insulating substrate 1.

この際に用いられる導電性酸化インジウム粉末aは、
前記透明導電性保護膜用塗料に用いられる導電性酸化物
粉末cのうちの導電性酸化インジウム粉末が使用でき
る。
The conductive indium oxide powder a used at this time is:
Among the conductive oxide powders c used in the transparent conductive protective film coating, conductive indium oxide powder can be used.

透明電極膜用塗料で用いられる透明電極膜用バインダ
樹脂bとしては、ポリピロール、ポリアセタール、ポリ
ピリジン等の導電性樹脂、あるいはポリカルバゾール、
ジフェニルアミノスチレン等の光導電性樹脂等が使用で
きる。キャリア移動速度が10-8cm2/V・sec未満である
と、抵抗が高くなりすぎて透明電極膜2としての機能を
保てない。さらに、紫外線硬化性バインダ樹脂、熱可塑
性バインダ樹脂、熱硬化性バインダ樹脂うちから1種以
上を前記透明電極膜用バインダ樹脂bと混合すると、透
明電極膜用塗料の塗工性を向上させたり、得られる透明
電極膜2と透明絶縁基板1との密着性を向上させたりす
ることができる。この紫外線硬化性バインダ樹脂、熱可
塑性バインダ樹脂、熱硬化性バインダ樹脂としては具体
的には、例えばメタクリル樹脂等のアクリル系樹脂、ポ
リアセチレン系樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂等のア
ミノ系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポ
リアミドイミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエー
テル系樹脂、アルキッド樹脂等のポリエステル系樹脂、
エポキシ系樹脂、塩素化ポリエーテル樹脂等の塩素化物
系樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂等のポ
リオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、シリコ
ーン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ABS系樹脂、ポリア
ミンスルフォン樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポ
リフェニレンスルフォン樹脂等のポリスルフォン系樹
脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、酢酸ビニル
樹脂、ポリビニルカルバゾール樹脂、ブチラール樹脂等
のビニル系樹脂、弗素系樹脂、ポリフェニレンオキシド
系樹脂、ポリピロール系樹脂、ポリファラフェニンレン
系樹脂、紫外線硬化樹脂あるいはセルロース誘導体等が
用いられる。また、上記樹脂の混合物、あるいは上記樹
脂の共重合体等の1種または2種以上組合わせて使用で
きる。
Examples of the transparent electrode film binder resin b used in the transparent electrode film paint include conductive resins such as polypyrrole, polyacetal, and polypyridine, or polycarbazole,
A photoconductive resin such as diphenylaminostyrene can be used. If the carrier moving speed is less than 10 −8 cm 2 / V · sec, the resistance becomes too high and the function as the transparent electrode film 2 cannot be maintained. Further, when one or more of ultraviolet curable binder resin, thermoplastic binder resin, and thermosetting binder resin are mixed with the transparent electrode film binder resin b, the coatability of the transparent electrode film paint is improved, The adhesion between the resulting transparent electrode film 2 and the transparent insulating substrate 1 can be improved. Specific examples of the ultraviolet curable binder resin, thermoplastic binder resin, and thermosetting binder resin include acrylic resins such as methacrylic resin, polyacetylene resins, urea resins, amino resins such as melamine resins, and polyamide resins. Resin, polyimide resin, polyamide imide resin, polyurethane resin, polyether resin, polyester resin such as alkyd resin,
Epoxy resin, chlorinated resin such as chlorinated polyether resin, polyolefin resin such as polyethylene resin and polypropylene resin, polycarbonate resin, silicone resin, polystyrene resin, ABS resin, polyamine sulfone resin, polyether sulfone Resin, polysulfone resin such as polyphenylene sulfone resin, vinyl chloride resin, vinylidene chloride resin, vinyl acetate resin, polyvinyl carbazole resin, vinyl resin such as butyral resin, fluorine resin, polyphenylene oxide resin, polypyrrole resin, poly A pharafenenlen-based resin, an ultraviolet curable resin, a cellulose derivative, or the like is used. Further, a mixture of the above resins, a copolymer of the above resins, or the like, may be used alone or in combination of two or more.

透明電極膜用バインダ樹脂bと紫外線硬化性バインダ
樹脂、熱可塑性バインダ樹脂、熱硬化性バインダ樹脂と
の混合割合いは、混合されたバインダ樹脂でのキャリア
移動速度が10-8cm2/V・sec以上を保持すればよい。10-8
cm2/V・secを越えると抵抗が高くなりすぎて、透明電極
膜2としての機能を保てない。バインダ樹脂のキャリア
移動速度とは、バインダ樹脂に電界をかけた場合に、樹
脂中で電子または正孔が動く速度を意味している。この
ようなバインダ樹脂のキャリア移動速度は以下のように
して測定される。
The mixing ratio of the binder resin b for the transparent electrode film and the ultraviolet curable binder resin, the thermoplastic binder resin, and the thermosetting binder resin is such that the carrier moving speed in the mixed binder resin is 10 −8 cm 2 / V · What is necessary is just to hold for sec or more. 10 -8
If it exceeds cm 2 / V · sec, the resistance becomes too high and the function as the transparent electrode film 2 cannot be maintained. The carrier moving speed of the binder resin means a speed at which electrons or holes move in the resin when an electric field is applied to the binder resin. The carrier moving speed of such a binder resin is measured as follows.

距離lの電極間に厚さlのバインダ樹脂を設ける。次
に試料に光を照射して試料内の電子を励起こさせ、正極
側に電子を移動させる。この際、光を照射した時刻t0
正極に電子が到達した時刻t1との差を測定機により検出
する。ここでキャリア移動速度関数v(E)は次式で表
される。
A binder resin having a thickness of l is provided between electrodes at a distance of l. Next, the sample is irradiated with light to excite electrons in the sample and move the electrons to the positive electrode side. At this time, it detected at time t 0 and the positive electrode was irradiated with light the difference between the time t 1 that electrons reached by measuring. Here, the carrier moving speed function v (E) is represented by the following equation.

(式中μはキャリア移動速度、Eは電界、Vは電圧であ
る。) 導電性酸化インジウム粉末aと透明電極膜用バインダ
樹脂bとの割合いは、両者の全体重量に対して導電性酸
化インジウム粉末aが70〜95wt%が好ましい。導電性酸
化インジウム粉末aが70wt%未満では、得られる塗膜の
導電性が悪くなり、一方、95wt%を越えると、透明電極
膜2と透明絶縁基板1との密着性および得られる透明電
極膜2の透明性が悪くなるので好ましくない。
(In the formula, μ is the carrier moving speed, E is the electric field, and V is the voltage.) The ratio of the conductive indium oxide powder a to the binder resin b for the transparent electrode film is determined by the ratio of the conductive oxide to the total weight of both. The indium powder a is preferably 70 to 95% by weight. When the amount of the conductive indium oxide powder a is less than 70 wt%, the conductivity of the obtained coating film is deteriorated. On the other hand, when it exceeds 95 wt%, the adhesion between the transparent electrode film 2 and the transparent insulating substrate 1 and the obtained transparent electrode film are reduced. No. 2 is not preferred because the transparency is deteriorated.

この発明で用いられる透明電極膜用塗料、異方導電性
膜用塗料および透明導電性保護膜用塗料は、前記の各成
分が溶剤中に溶解、あるいは分散されているが、この溶
剤としては透明電極膜用バインダ樹脂b、異方導電性膜
用バインダおよび透明導電性保護膜用バインダ樹脂dを
溶解または希釈しうるものであれば用いることができ
る。具体的にはメタノール、エタノール、n−プロパノ
ール、i−プロパノール、n−ブタノール、i−ブタノ
ール、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノール等の
アルコール類、アセトン、シクロヘキサノン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、ホロン、イソホ
ロン等のケトン類、エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、カルビ
トール、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジ
オキサン等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸n−ブチル
等のエステル類、ヘキサン、シクロヘキサン等の石油ナ
フサ類、トルエン、キシレン、メシチレン、ソルベント
ナフサ等のベンゾール類、N−メチル−2−ピロリドン
およびその誘導体等が単独、あるいは組合せて用いられ
る。このような溶剤は、所望の膜厚および塗料を塗布し
うるような粘度となる量で用いられる。また、水溶性バ
インダ樹脂を用いた場合には、溶剤として水を用いるこ
ともできる。
In the paint for a transparent electrode film, the paint for an anisotropic conductive film and the paint for a transparent conductive protective film used in the present invention, the above-mentioned components are dissolved or dispersed in a solvent. Any material can be used as long as it can dissolve or dilute the binder resin b for the electrode film, the binder for the anisotropic conductive film, and the binder resin d for the transparent conductive protective film. Specifically, alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, i-propanol, n-butanol, i-butanol, diacetone alcohol and cyclohexanol, acetone, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, holon and isophorone Ketones, ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, carbitol, methyl carbitol, butyl carbitol, dioxane, esters such as ethyl acetate and n-butyl acetate, and petroleum naphtha such as hexane and cyclohexane Benzenes such as toluene, xylene, mesitylene, and solvent naphtha, N-methyl-2-pyrrolidone and its derivatives, etc. are used alone or in combination. Such a solvent is used in such an amount as to have a desired film thickness and a viscosity capable of applying a paint. When a water-soluble binder resin is used, water can be used as a solvent.

透明電極膜用塗料、異方導電性膜用塗料および透明導
電性保護膜用塗料を製造する際に、導電性酸化インジウ
ム粉末a,金属粒子4、導電性酸化物粉末cの分散性を向
上させて、粒子同士の再凝集を防止するため、界面活性
剤あるいはカップリング剤を透明電極膜用塗料、異方導
電性膜用塗料および透明導電性保護膜用塗料に添加する
こともできる。界面活性剤としては、アニオン系、ノニ
オン系、カチオン系などのものを広く用いることができ
る。また、カップリング剤としては、シラン系、チタン
系、アルミニウム系、ジルコニウム系、マグネシウム系
のものが使用できる。
When producing a paint for a transparent electrode film, a paint for an anisotropic conductive film, and a paint for a transparent conductive protective film, the dispersibility of the conductive indium oxide powder a, the metal particles 4, and the conductive oxide powder c is improved. In order to prevent the particles from reaggregating, a surfactant or a coupling agent may be added to the coating for the transparent electrode film, the coating for the anisotropic conductive film, and the coating for the transparent conductive protective film. As the surfactant, anionic, nonionic, cationic and the like can be widely used. As the coupling agent, a silane-based, titanium-based, aluminum-based, zirconium-based, or magnesium-based coupling agent can be used.

このようにして得られる透明電極膜用塗料、異方導電
性膜用塗料および透明導電性保護膜用塗料を用い、従来
公知の塗工法、例えばスピンナー法、バーコード法、デ
ィップ法、メイヤバー法、エアーナイフ法、あるいはグ
ラビア・スクリーン・ロールコータ等の印刷法によって
塗工され、次いで乾燥することにより透明電極膜2、異
方導電性膜3および透明導電性保護膜5が得らえる。
Using the thus obtained transparent electrode film paint, anisotropic conductive film paint and transparent conductive protective film paint, conventionally known coating methods, such as a spinner method, a bar code method, a dip method, a Meyer bar method, The transparent electrode film 2, the anisotropic conductive film 3, and the transparent conductive protective film 5 are obtained by coating by an air knife method or a printing method such as a gravure screen roll coater and then drying.

なお、透明電極膜2、異方導電性膜3および透明導電
性保護膜5は塗工法により形成できるので、連続生産お
よび低コストの生産が可能である。
In addition, since the transparent electrode film 2, the anisotropic conductive film 3, and the transparent conductive protective film 5 can be formed by a coating method, continuous production and low-cost production are possible.

第3図は、第4図の透明ディジタイザにこの発明を応
用した例であって、ガラス板20の表面に気相法で透明電
極膜21を形成し、さらにその上に金属粒子22をバインダ
23の中に分散させた異方導電性膜24を形成している。そ
の他は第4図と同じである。座標検出原理は第4図と同
様であり、電気ペン17を透明ディジタイザ表面に接触す
ると、電流は異方導電性膜24中を抵抗の大きい横方向に
は流れず、金属粒子22を介して透明電極膜21に向い縦方
向に流れる。座標の検出は透明電極膜21中を流れた電流
(XaおよびXb)で行うため、異方導電性膜24の抵抗には
左右されない。したがって、異方導電性膜24の表面の汚
れ、傷等で異方導電性膜24の抵抗値が変化しても、電気
ペン17と透明電極膜21の導通がとれれば座標は検出で
き、座標検出精度が劣化しない。
FIG. 3 shows an example in which the present invention is applied to the transparent digitizer shown in FIG. 4, in which a transparent electrode film 21 is formed on a surface of a glass plate 20 by a vapor phase method, and a metal particle 22 is further coated thereon with a binder.
An anisotropic conductive film 24 dispersed in 23 is formed. Others are the same as FIG. The principle of coordinate detection is the same as that shown in FIG. 4. When the electric pen 17 is brought into contact with the surface of the transparent digitizer, the current does not flow in the anisotropic conductive film 24 in the lateral direction where the resistance is large. It flows in the vertical direction toward the electrode film 21. Since the detection of the coordinates is performed by the currents ( Xa and Xb ) flowing through the transparent electrode film 21, it is not affected by the resistance of the anisotropic conductive film 24. Therefore, even if the resistance value of the anisotropic conductive film 24 changes due to dirt or scratches on the surface of the anisotropic conductive film 24, if the electric pen 17 and the transparent electrode film 21 are conducted, the coordinates can be detected, and the coordinates can be detected. Detection accuracy does not deteriorate.

以下、この発明の具体例と比較例について説明し、そ
れぞれの評価値を第1表に示す。ただし、具体例1,3,5
は透明導電性保護膜は形成していない。
Hereinafter, specific examples and comparative examples of the present invention will be described, and their evaluation values are shown in Table 1. However, specific examples 1, 3, 5
Does not have a transparent conductive protective film.

〔具体例1〕 平均粒径8μmの銀鍍された粉末(触媒化成工業
(株)製、製品名P−500S、比重2.5)2.4gを、ブタノ
ールに分散したシリカゾル(触媒化成工業(株)製、商
品名OSCAL−1532、濃度30wt%、平均粒径12mμ、比重1.
4)100g中に混合し、十分分散して異方導電性膜用塗料
を得た。この塗料を後述する比較例1で得られた透明電
極膜の上にスピンナーを用い、300r.p.mで塗布した後、
300℃で30分間硬化して異方導電性膜を形成させた(膜
厚3μm)。
[Specific Example 1] Silica sol (manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd.) in which 2.4 g of silver-plated powder having an average particle diameter of 8 μm (manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd., product name: P-500S, specific gravity 2.5) was dispersed in butanol , Trade name OSCAL-1532, concentration 30 wt%, average particle size 12 mμ, specific gravity 1.
4) The mixture was mixed in 100 g and sufficiently dispersed to obtain a paint for an anisotropic conductive film. This paint was applied on the transparent electrode film obtained in Comparative Example 1 described below using a spinner at 300 rpm, and then applied.
The composition was cured at 300 ° C. for 30 minutes to form an anisotropic conductive film (thickness: 3 μm).

〔具体例2〕 アンチモンをドープした導電性酸化錫粉末(触媒化成
工業(株)、商品名ELCOM TL−30)150gとシリコーン
樹脂(トーレシリコン製、商品名SR−2410)50gをメシ
チレン500g中に加えて混合し、サンドミルで2時間粉砕
して透明導電性保護膜用塗料を得た。この塗料を具体例
1で得られた異方導電性膜の上にスピンナーを用い200
r.p.mで塗布した後、120℃で10分間乾燥し、250℃で2
時間硬化して透明導電性保護膜を形成させた(膜厚5μ
m)。
[Specific Example 2] 150 g of antimony-doped conductive tin oxide powder (catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name ELCOM TL-30) and 50 g of silicone resin (made by Toray Silicone, trade name SR-2410) were placed in 500 g of mesitylene. The mixture was further mixed and pulverized with a sand mill for 2 hours to obtain a paint for a transparent conductive protective film. This paint was applied on the anisotropic conductive film obtained in Example 1 using a spinner for 200 hours.
After application at rpm, dry at 120 ° C for 10 minutes,
Cured for a time to form a transparent conductive protective film (5 μm thick)
m).

〔具体例3〕 平均粒径15μmのNi鍍金された粉末(触媒化成工業
(株)性、製品名P−600S、比重2.2)6gをエポキシ樹
脂(ダイセル化学(株)製、商品名EHPE−3150、比重1.
2)60gと、無水フタル酸40gを酢酸エチルセロソルブ30g
中に混合し、十分分散して異方導電性膜用塗料を得た。
この塗料を後述する比較例2で得らえた透明電極膜の上
にスピンナーを用い、100r.p.mで塗布した後、120℃2
時間硬化して異方導電性膜を形成させた(膜厚9μ
m)。
[Specific Example 3] 6 g of Ni-plated powder having an average particle size of 15 μm (produced by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd., product name: P-600S, specific gravity: 2.2) was epoxy resin (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., trade name: EHPE-3150). , Specific gravity 1.
2) 60 g and 40 g of phthalic anhydride in 30 g of ethyl acetate
The mixture was sufficiently mixed and dispersed sufficiently to obtain a paint for an anisotropic conductive film.
The coating was applied at 100 rpm on a transparent electrode film obtained in Comparative Example 2 using a spinner, and then applied at 120 ° C.
Cured for a time to form an anisotropic conductive film (9 μm thick)
m).

〔具体例4〕 弗素をドープした導電性酸化インジウム粉末(触媒化
成工業(株)製、商品名ELCOM TL130)150gと紫外線硬
化樹脂(大八化学製、商品名DH−700)50gを酢酸n−ブ
チル500gに加えて混合し、サンドミルで2時間粉砕して
透明導電性保護膜用塗料を得た。この塗料を具体例3で
得られた異方導電性膜上にスピンナーを用い100r.p.mで
塗布した後、紫外線で硬化して透明導電性保護膜を形成
させた(膜厚5μm)。
[Example 4] 150 g of fluorine-doped conductive indium oxide powder (trade name ELCOM TL130, manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd.) and 50 g of an ultraviolet curable resin (trade name, DH-700 manufactured by Daihachi Chemical Co., Ltd.) were mixed with n-acetic acid. The mixture was added to 500 g of butyl, mixed, and pulverized with a sand mill for 2 hours to obtain a transparent conductive protective film paint. This paint was applied on the anisotropic conductive film obtained in Example 3 at 100 rpm using a spinner, and then cured with ultraviolet light to form a transparent conductive protective film (film thickness: 5 μm).

〔具体例5〕 平均粒径5μmの金鍍された粉末(触媒化成工業
(株)製、製品名P−700S、比重3.0)6gをアクリル−
メラミン樹脂(大日本インキ化学工業(株)製、商品名
アクリデック、比重1.2)100gと、ブチルカルビトール
アセテート500g中に混合し、十分分散して異方導電性膜
用塗料を得た。この塗料を後述する比較例1で得られた
透明電極膜の上にスクリーン印刷した後、180℃1時間
硬化して異方導電性膜を形成させた(膜厚4μm)。
[Specific Example 5] 6 g of a gold-plated powder having an average particle size of 5 μm (product name: P-700S, specific gravity: 3.0, manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd.)
100 g of a melamine resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., trade name: Acrydec, specific gravity 1.2) and 500 g of butyl carbitol acetate were mixed and sufficiently dispersed to obtain a coating for an anisotropic conductive film. This paint was screen-printed on the transparent electrode film obtained in Comparative Example 1 described later, and then cured at 180 ° C. for 1 hour to form an anisotropic conductive film (film thickness 4 μm).

〔具体例6〕 弗素をドープした導電性酸化インジウム粉末(触媒化
成工業(株)製、商品名ELCOM TL−130)150gとポリビ
ニルブチラール樹脂(デカン製、商品名#2000−L)35
gとメラミン樹脂(大日本化学工業(株)製、商品名ス
ーパーベッカミンJ−820)15gをブチルカルビトールア
セテート100g中に加えて混合し、サンドミルで2時間粉
砕して透明導電性保護膜用塗料を得た。この塗料を具体
例5で得られた異方導電性膜上にスクリーン印刷した
後、150℃1時間で硬化して透明導電性保護膜を形成さ
せた(膜厚10μm)。
[Specific Example 6] 150 g of conductive indium oxide powder doped with fluorine (trade name: ELCOM TL-130, manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd.) and polyvinyl butyral resin (trade name: # 2000-L, manufactured by Decane) 35
g and 15 g of melamine resin (trade name: Super Beckamine J-820, manufactured by Dainippon Chemical Co., Ltd.) in 100 g of butyl carbitol acetate, mixed and pulverized with a sand mill for 2 hours to form a transparent conductive protective film. Paint was obtained. This paint was screen-printed on the anisotropic conductive film obtained in Example 5, and then cured at 150 ° C. for 1 hour to form a transparent conductive protective film (film thickness: 10 μm).

〔比較例1〕 5wt%の酸化錫粉末を含む酸化インジウム粉末をタブ
レット状に成型した後、2Kwの電子銃を用い、ガラス板
上に温度を400℃、酸素分圧3×10-4Torr、蒸着速度3
Å/secで透明電極膜を被着させた(膜厚1500Å)。
[Comparative Example 1] Indium oxide powder containing 5 wt% tin oxide powder was molded into a tablet shape, and then a temperature of 400 ° C and an oxygen partial pressure of 3 × 10 -4 Torr were applied on a glass plate using a 2 Kw electron gun. Deposition rate 3
A transparent electrode film was deposited at a rate of (/ sec (film thickness 1500Å).

〔比較例2〕 弗素をドープした導電性酸化インジウム粉末(触媒化
成工業(株)製、商品名ELCOM TL−130)150gとポリビ
ニルカルバゾール(亜南香料製、商品名ツビコール、キ
ャリア移動速度:10-6cm2/V・sec)37.5gをシクロヘキサ
ノン200g中に加えて混合し、サンドミルで2時間粉砕し
て透明電極用塗料を得た。この塗料を透明アクリル板に
スピンナーを用い、200r.p.mで塗布した後、紫外線で硬
化して透明電極膜を形成させた(膜厚5μm)。
[Comparative Example 2] 150 g of fluorine-doped conductive indium oxide powder (trade name: ELCOM TL-130, manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd.) and polyvinyl carbazole (trade name, Zubicol, manufactured by Anan Perfume Co., Ltd., carrier moving speed: 10 − (6 cm 2 / V · sec) 37.5 g was added to 200 g of cyclohexanone, mixed, and pulverized with a sand mill for 2 hours to obtain a paint for a transparent electrode. The paint was applied to a transparent acrylic plate at 200 rpm using a spinner, and then cured with ultraviolet light to form a transparent electrode film (film thickness: 5 μm).

〔評価方法〕 透明性:全光線透過率(Tt)およびヘース(H)を
ヘーズコンピュータ(スガ試験機製)で測定した。
[Evaluation Method] Transparency: Total light transmittance (Tt) and haze (H) were measured by a haze computer (manufactured by Suga Test Instruments).

導電性:電極セル(YHP製)で表面抵抗(RS)を測
定した。
Conductivity: Surface resistance (R S ) was measured with an electrode cell (YHP).

膜強度:下記の評価を行った。 Film strength: The following evaluation was performed.

1)JISDO202−71の鉛筆硬度試験で評価した。1) It was evaluated by the pencil hardness test of JISDO202-71.

2)JISH8682−80の砂落し摩耗試験に準じて400gの砂を
2分間落し摩耗面のヘーズと表面抵抗を測定した。
2) 400 g of sand was dropped for 2 minutes in accordance with the JIS H8682-80 sand erosion test, and the haze and surface resistance of the abraded surface were measured.

3)200gの加重をかけたHの鉛筆を5cm幅で摺動させ、
線切れ等の入力不良に至るまでの往復回数を評価した。
3) Slide the H pencil with a weight of 200 g with a width of 5 cm.
The number of reciprocations up to input failure such as line breakage was evaluated.

耐酸性:50wt%酢酸水溶液中に室温で1時間浸漬し
たのち引上げ、純水で十分洗浄し乾燥させて膜の剥がれ
を観察した。
Acid resistance: immersed in a 50 wt% acetic acid aqueous solution at room temperature for 1 hour, pulled up, sufficiently washed with pure water, dried, and observed film peeling.

耐アルカリ性15wt%アンモニア水溶液中に室温で1
時間浸漬したのち引上げ、純水で十分洗浄し乾燥させて
膜の剥がれを観察した。
Alkali resistance 1% in aqueous solution of 15wt% ammonia at room temperature
After soaking for a period of time, the film was pulled up, washed sufficiently with pure water and dried, and the peeling of the film was observed.

ノングレア性:JISK105−81の光沢度の測定におい
て、測定角度60゜で光沢度(G)を評価した。
Non-glare property: In the measurement of glossiness according to JIS K105-81, the glossiness (G) was evaluated at a measurement angle of 60 °.

なお、砂落し試験において、ΔHおよびΔRSは次式で
表わされる。
In the sand removal test, ΔH and ΔR S are represented by the following equations.

ΔH=H2−H1 ただし、H1は試験前のベース値、H2は試験後のヘーズ
値、ΔRS(表面抵抗)も同様である。
ΔH = H2−H1, where H1 is the base value before the test, H2 is the haze value after the test, and ΔR S (surface resistance) is the same.

また、耐酸性、耐アルカリ性試験後、膜が全く剥がれ
ていないものは○とし、少しでも剥がれたものは×とし
た。さらに、比較例1のΔHは膜が剥がれたため測定不
能であった。
Further, after the acid resistance and alkali resistance tests, the film where the film was not peeled at all was evaluated as ○, and the film that was slightly peeled was evaluated as ×. Further, ΔH of Comparative Example 1 could not be measured because the film was peeled off.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上詳細に説明したように、この発明は、透明絶縁基
板上に、透明電極膜と、金属粒子が有機バインダあるい
は無機バインダに単分散した異方導電性膜さらに、導電
性酸化物粉末がバインダ樹脂に分散した透明導電性保護
膜とを順次形成したので、酸、アルカリ薬品に対する防
蝕性が強く、空気中に放置しても酸化されないため電気
抵抗の経時変化がなく、温度、湿度の変化にも電気抵抗
が影響されない。また、機械的強度が極めて優れている
ため、入力ペン等の入力端子で直接書き込まれる透明デ
ィジタイザあるいはテレライディングターミナル用入力
面として使用できる。また、外表面が凹凸なので、外部
からの入射光が散乱され、入力面のぎらつきが防止でき
る。さらに、この発明の透明タブレット用透明電極は透
明ではあるが、黒色系の色調を有しているため、表示画
面とのコントラストが良く、画像が見易くなる利点があ
る。
As described above in detail, the present invention provides a transparent electrode substrate, a transparent electrode film, an anisotropic conductive film in which metal particles are monodispersed in an organic binder or an inorganic binder, and a conductive oxide powder in a binder resin. And a transparent conductive protective film dispersed in order, have strong corrosion resistance to acids and alkali chemicals, and are not oxidized even when left in the air. Electric resistance is not affected. Further, since the mechanical strength is extremely excellent, it can be used as an input surface for a transparent digitizer or a tele-writing terminal which is directly written by an input terminal such as an input pen. In addition, since the outer surface is uneven, incident light from the outside is scattered and glare on the input surface can be prevented. Furthermore, although the transparent electrode for a transparent tablet of the present invention is transparent, it has a black color tone, so that it has an advantage that the contrast with the display screen is good and the image is easy to see.

また、金属粒子の酸化や腐蝕が防止され、確実な入力
が保証される利点がある。
Further, there is an advantage that oxidation and corrosion of the metal particles are prevented, and a reliable input is ensured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図はこの発明の原理説明のための要部の断面図、第
2図はこの発明の一実施例を示す要部の断面図、第3図
はこの発明を透明ディジタイザに適用した場合を示す側
面略図、第4図は従来の透明ディジタイザの一例を示す
構成略図、第5図は、第4図のディジタイザの側面略図
である。 図中、1は透明絶縁基板、2は透明電極膜、3は異方導
電性膜、4は金属粒子、5は透明導電性保護膜である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a main part for explaining the principle of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view of a main part showing one embodiment of the present invention, and FIG. 3 shows a case where the present invention is applied to a transparent digitizer. FIG. 4 is a schematic diagram showing an example of a conventional transparent digitizer, and FIG. 5 is a schematic side view of the digitizer shown in FIG. In the figure, 1 is a transparent insulating substrate, 2 is a transparent electrode film, 3 is an anisotropic conductive film, 4 is metal particles, and 5 is a transparent conductive protective film.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小柳 嗣雄 福岡県北九州市八幡西区春日台1−14− 12 (72)発明者 小松 通郎 東京都江戸川区中葛西3丁目36番9号 NACアメニテイ葛西901号 (72)発明者 野末 育利 福岡県北九州市若松区大谷町7−36 (72)発明者 佐藤 護郎 福岡県北九州市若松区大字頓田2530 (56)参考文献 特開 昭62−92301(JP,A) 特開 昭62−77626(JP,A) 特開 昭61−118825(JP,A) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Tsutsuo Koyanagi 1-14-12 Kasugadai, Yawatanishi-ku, Kitakyushu-shi, Fukuoka (72) Inventor Toshiro Komatsu 3-36-9 Nakakasai, Edogawa-ku, Tokyo NAC Amenity Kasai No. 901 (72) Inventor Ikutari Nozue 7-36, Otani-cho, Wakamatsu-ku, Kitakyushu-shi, Fukuoka (72) Inventor Gyoro 2530 Totonda, Oji-machi, Wakamatsu-ku, Kitakyushu-shi, Fukuoka (56) JP, A) JP-A-62-77626 (JP, A) JP-A-61-118825 (JP, A)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】透明絶縁基板上に、透明電極膜と、金属粒
子が有機バインダあるいは無機バインダに単分散した異
方導電性膜と、さらに導電性酸化物粉末がバインダ樹脂
に分散した透明導電性保護膜とを順次形成したことを特
徴とする透明タブレット用透明電極。
A transparent electrode film, an anisotropic conductive film in which metal particles are monodispersed in an organic binder or an inorganic binder, and a transparent conductive film in which conductive oxide powder is dispersed in a binder resin. A transparent electrode for a transparent tablet, wherein a protective film and a protective film are sequentially formed.
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