JP2655011B2 - 洗浄剤組成物 - Google Patents

洗浄剤組成物

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JP2655011B2 JP3514227A JP51422791A JP2655011B2 JP 2655011 B2 JP2655011 B2 JP 2655011B2 JP 3514227 A JP3514227 A JP 3514227A JP 51422791 A JP51422791 A JP 51422791A JP 2655011 B2 JP2655011 B2 JP 2655011B2
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律子 早川
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Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、皮膚適用化粧品又は洗浄剤用の低刺激性防
腐剤、及び低刺激性の洗浄剤組成物に関する。
背景技術 従来用いられてきた洗浄剤組成物(例えばシャンプ
ー)は刺激性が強いため、かゆみの発生を促し、あるい
はアレルギーの原因となるものであり、アトピー性皮膚
炎、接触皮膚炎等の皮膚疾患の患者、特に刺激に弱い患
者に用いることはできなかった。
本発明の目的は、アトピー性皮膚炎又はその他の皮膚
疾患の患者、特に刺激に弱い患者に用いることのできる
低刺激性の洗浄剤組成物を提供することにある。
発明の開示 本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねて
きた。その結果、ヒノキチオール又はその塩が、皮膚に
対して極めて刺激性が低く、しかも優れた防腐効果を有
するものであり、化粧品や洗剤等の皮膚と接触する組成
物用の防腐剤として非常に有用であることを見出した。
そして、ヒノキチオール又はその塩を防腐剤として用い
ると共に、界面活性剤として特定の陰イオン性界面活性
剤及び両性界面活性剤の少なくとも1種を用いる場合
に、皮膚に対する刺激性が著るしく低減された洗浄剤組
成物を得ることができることを見出し、ここに本発明を
完成するに至った。
即ち、本発明は一般式 〔式中、R1は炭素数40以下の飽和又は不飽和炭化水素基
を示し、R2は低級アルキル基を示し、Aは低級アルキレ
ン基を示す〕で表わされる陰イオン性界面活性剤又はそ
の塩、及び一般式 〔式中、R3は炭素数40以下の飽和又は不飽和炭化水素基
を示し、R4及びR5はそれぞれ低級アルキル基を示し、B
は低級アルキレン基を示す。〕で表わされる両イオン性
界面活性剤からなる群から選ばれた少なくとも1種の界
面活性剤と、ヒノキチオール又はその塩からなる防腐剤
とを含有することを特徴とする洗浄剤組成物を提供する
ものである。
本明細書において低級アルキル基としては、メチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチ
ル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル等の炭素数1〜
6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を、特に好ましくはメ
チル基を例示できる。
炭素数が40以下の飽和又は不飽和炭化水素基として
は、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシ
ル、11−メチルドデシル、10−メチルウンデシル、トリ
デシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘプタデシル、
オクタデシル、ノナデシル、イコシル、ヘンイコシル、
ドコシル、テトラコシル、トリアコンチル、ペンタトリ
アコンチル、テトラコンチル、ビニル、アリル、イソプ
ロペニル、エチニル、2−ペンチニル、3−ブテニル、
9−デセニル、シス−8−ヘプタデセニル、トランス−
8−ヘプタデセニル、2−デシニル、2−オクチニル、
ヤシ油アルキル等を挙げることができ、之等の内で炭素
数5〜19の飽和又は不飽和炭化水素基は好ましく、炭素
数7〜13の飽和又は不飽和炭化水素基はより好ましい。
特に、前記式(I)中R1で定義される該基としては、ウ
ンデシル、トリデシル等の炭素数9〜13の飽和炭化水素
基が好ましく、また前記式(II)中R3で定義される該基
としては、ヤシ油アルキル基やウンデシル、トリデシル
等の炭素数9〜13の飽和炭化水素基が好ましい。
低級アルキレン基としてはメチレン、エチレン、トリ
メチレン、2−メチルトリメチレン、2,2−ジメチルト
リメチレン、1−メチルトリメチレン、メチルメチレ
ン、エチルメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレ
ン、ヘキサメチレン基等の炭素数1〜6個の直鎖又は分
枝状のアルキレン基を挙げることができる。之等の内で
前記式(I)中Aで定義される該基としては、好ましく
はメチレン及びエチレン基を、より好ましくはエチレン
基を例示でき、また前記式(II)中Bで定義される該基
としては、好ましくはエチレン及びトリメチレン基を、
より好ましくはトリメチレン基を例示できる。
一般式(I)又は一般式(II)の界面活性剤は、同一
の置換基を有するものだけでなく、異なる種類の置換基
を有するものを混合して用いてもよい。
一般式(I)で表わされる化合物の塩としては、ナト
リウム、カリウム塩等のアルカリ金属塩、マグネシウム
塩等のアルカリ土類金属塩、Cu塩、Zn塩等の金属塩類等
の無機塩、ジエタノールアミン塩、2−アミノ−2−エ
チル−1,3−プロパンジオール塩、トリエタノールアミ
ン塩等のアルカノールアミン塩、モルホリン塩、ピペラ
ジン塩、ピペリジン塩等、アンモニウム塩、アルギニン
塩、リジン塩、ヒスチジン塩等の塩基性アミノ酸塩等の
有機塩類を挙げることができる。塩基性アミノ酸として
は、D体、L体又は之等の混合物のいずれも使用でき
る。
ヒノキチオールの塩としては、上記した一般式(I)
の化合物の塩と同様のものを挙げることができる。
本発明の洗浄剤組成物では、界面活性剤としては、一
般式(I)の陰イオン性界面活性剤及び一般式(II)の
両イオン性界面活性剤の少なくとも1種を用いればよ
い。之等の界面活性剤は、優れた洗浄能力を有すると共
に、皮膚に対する刺激性が非常に低いものである。本発
明では、特に、一般式(I)の陰イオン性界面活性剤と
一般式(II)の両イオン性界面活性剤とを併用すること
が好ましく、併用により、洗浄性及び低刺激性が極めて
良好となる。併用する場合には、通常一般式(I)の界
面活性剤と一般式(II)の界面活性剤の使用割合は、前
者:後者(重量比)=1:20〜20:1の範囲、好ましくは4:
1〜1:3の範囲、より好ましくは4:1〜3:2及び3:2〜2:3の
範囲とすることができる。
洗浄剤組成物中の界面活性剤量は、洗浄効果を充分に
発揮する範囲であれば特に限定されないが、界面活性剤
総量として、全組成物中の3〜40重量%とすることが好
ましく、5〜30重量%とすることがより好ましい。
ヒノキチオール又はその塩の配合量は、防腐効果が発
揮される量であれば特に限定されないが、洗浄剤組成物
中に0.001重量%以上とすることが好ましく、0.001〜1.
0重量%とすることがより好ましい。
ヒノキチオール又はその塩を防腐剤として用い、これ
を上記した界面活性剤と共に配合することによって、皮
膚に対する刺激性が著るしく低減され、更に良好な洗浄
性能、防腐性能等を発揮する洗浄剤組成物が得られる。
本発明の洗浄剤組成物では、更に、(1)一般式 〔式中、R6は炭素数40以下の飽和又は不飽和炭化水素基
を示し、R7はナトリウム、カリウム等のアルカリ金属;
マグネシウム等のアルカリ土類金属;銅、亜鉛等の金属
イオンを示す。〕で表わされる化合物、(2)ヤシ油ア
ルキルN−カルボキシメトキシエチル−N−カルボキシ
メチルイミダゾリニウムジナトリウムヒドロキシド、ヤ
シ油脂肪酸N−カルボキシメトキシエチルN−カルボキ
シメチルイミダゾリニウムジナトリウムラウリル硫酸及
びラウリルN−カルボキシメトキシエチル−N−カルボ
キシメチルイミダゾリニウムジナトリウムドデカノイル
サルコシンから選ばれるイミダゾリニウムベタイン系両
イオン性界面活性剤、例えばミラノールC2Mコンク、ミ
ラノールC2MコンクNP、ミラノール2MCAモデファイド、
ミラノールHMSコンク(いずれもローヌ・プーラン社(R
HONE POULENC SURFACTANTS & SPECIALITIES DIY.)製
造、香栄興業株式会社(KOEI PERFUMERY CO.,LTD.)販
売)等の通常のイミダゾリニウムベタイン系両イオン性
界面活性剤等を加えることができ、これらの添加によっ
て、例えば、眼粘膜に対する刺激を減少させることがで
きる。添加量は、一般式(I)の陰イオン性界面活性剤
の10〜200重量%程度とすることが好ましい。
本発明の洗浄剤組成物は、化粧品を使用することので
きる通常のpH範囲で用いることができ、一般にそのpHは
6.0〜8.0程度の範囲、好ましくは6.4〜7.5程度の範囲内
とするのが好ましい。
本発明の洗浄剤組成物には、必要に応じてその性能を
損わない範囲で、他の界面活性剤や、高級アルコール等
の油剤、カチオン化セルロース等の毛髪柔軟剤、グリセ
リン、プロピレングリコール、ソルビット、マルチトー
ル等の保湿剤、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセ
ルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシビ
ニルポリマー、ポリビニルアルコール等の粘度調整剤、
加水分解コラーゲン等の皮膜形成剤、エタノール等の溶
剤、クエン酸、塩酸等のpH調節剤、紫外線吸収剤、酸化
防止剤、金属封鎖剤、殺菌剤、防腐剤、無機塩、抗フケ
剤、ビタミン類、消炎剤等の薬効剤、動植物抽出剤、色
素、香料等を適時配合することができる。これらの添加
剤は、添加によって洗浄剤組成物の刺激性が高くなり過
ぎないように注意することが必要であり、例えば、アト
ピー性皮膚炎の患者用の洗浄剤組成物として用いる場合
には、後記試験例において示す皮膚刺激指数が15程度以
下となるように配合し、健常人用の洗浄剤組成物として
用いる場合には、皮膚刺激指数が30程度以下となるよう
に配合することが好ましい。
本発明の洗浄剤組成物は、その剤型については特に制
限はなく、従来より公知の種々の剤型、例えば液体シャ
ンプー、クリーム状洗顔料、ゲル状洗顔料、ボディシャ
ンプー、泡状清拭料(エアゾール容器充填品)、食器等
の器具用洗剤、ウェットティッシュ等として用いること
ができる。
本発明洗浄剤組成物は、使用時に、必要に応じて適
宜、水で希釈して用いてもよい。
本発明の洗浄剤組成物は、皮膚に対する刺激性が非常
に低いことに加えて、起泡性、洗浄性等の洗浄剤として
の必須の性能も充分に満足するものであり、アトピー性
皮膚炎又は他の皮膚疾患の患者に用いることができる
他、健常人に対しても有用である。
また、ヒノキチオール又はその塩は、皮膚に対する刺
激性が非常に低く、医薬部外品、日用品(例えば、ペッ
ト用シャンプー)等を含む広い範囲の洗浄剤、化粧品等
の皮膚と接触する組成物中に配合する防腐剤として有用
である。
実 施 例 以下、実施例を示して本発明をより詳細に説明する。
実施例1 下記配合のシャンプー組成物を調製した。
(W/W%) アラニネートLN−30* 40.0 スワノールAM−3130N** 10.0 ヒノキチオール 0.02 99.5%エタノール 0.8 pH調整剤、金属イオン封鎖剤 適 量 水にて 全量100W/W%(pH6.4) *アラニネートLN−30:日光ケミカルズ株式会社製、N
−ラウロイル−N−メチルβ−アラニンナトリウムを主
成分とする界面活性剤 **スワノールAM−3130N:日光ケミカルズ株式会社製、
ヤシ油脂肪酸アミドプロピルジメチルアミノ酢酸ベタイ
ンを主成分とする界面活性剤 上記シャンプー組成物は、良好な洗浄性能を有するも
のであった。該組成物について以下の方法で皮膚刺激性
を評価した。
(試験法) 上記洗浄組成物の1%水溶液を染め込ませたろ紙をFi
nn chamber,Scanpor tapeを用いて、44人の被験者に48
時間閉鎖貼付し、貼付除去後、1時間と24時間に皮膚反
応を判定した。判定結果は、以下の基準で評点した。
反応なし 0 わずかな紅斑 0.5 明らかな紅斑 1.0 丘疹ないし浮腫を伴う紅斑 2.0 貼付除去後、1時間と24時間の判定結果のうち、評点
の高いほうの結果を選び、評点総和を被験者数で除し、
その商の百分率を皮膚刺激指数とした。
比較として、ラウリル硫酸ナトリウムの0.5%水溶液
及び精製水についても同様の皮膚刺激性試験を行なっ
た。結果を下記第1表に示す。
以上の結果より、本発明のシャンプー組成物が極めて
低刺激性であることが判る。
実施例2 下記配合のボディシャンプーを調製した。
(W/W%) アラノンACE* 8 スワノールAM−3130N 4 ヒノキチオールトリエタノールアミン塩 0.05 非イオン性界面活性剤** 2 パール化剤*** 2 pH調整剤 適 量 香料 適 量金属キレート剤 適 量 水にて 全量100W/W%(pH6.4) *アラノンACE:川研ファインケミカル株式会社製、N−
ココイル−N−メチル−β−アラニンナトリウムを主成
分とする界面活性剤 **非イオン性界面活性剤としては花王株式会社製のエ
マノーン3199を用いた。
***パール化剤としては日光ケミカルズ株式会社製の
エステパール15を用いた。
実施例3 下記配合の洗顔料を調製した。
(W/W%) アラノンALE* 5 スワノールAM−3130N 5 ヒノキチオール 0.1 99.5%エタノール 1.0 非イオン性界面活性剤** 1.0 非イオン性界面活性剤*** 2.0pH調整剤、グリセリン 適 量 水にて 全量100W/W%(pH7.4) *アラノンALE:川研ファインケミカル株式会社製、N−
ラウロイル−N−メチル−β−アラニンナトリウムを主
成分とする界面活性剤 **非イオン性界面活性剤としては、川研ファインケミ
カル株式会社製のアミゼット5Cを用いた。
***非イオン性界面活性剤としては花王株式会社製の
エマノーン3299を用いた。
実施例4 下記配合の清拭料を調製した。
(W/W%) アラニネートLN−30 2 アラノンAME* 1 pH調整剤 適 量 ヒノキチオール・ナトリウム塩 199.5%エタノール 3 水にて 全量100W/W%(pH7.0) *アラノンAME:川研ファインケミカル株式会社製、N−
ミリストイル−N−メチル−β−アラニンナトリウムを
主成分とする界面活性剤 実施例5 下記配合の器具洗浄料を調製した。
(W/W%) アラニンACE 15 スワノールAM−3130N 5 ヒノキチオールトリエタノールアミン塩 0.01 ヒノキチオール・L−アルギニン塩 0.001 pH調整剤 適 量色素・香料・グリセリン 適 量 水にて 全量100W/W%(pH6.4) 実施例6 下記配合のボディシャンプーを調製した。
(W/W%) ニッコールサルコシネートLK−30* 10.0 スワノールAM−3130N 5.0 ミラノールC2Mコンク** 10.0 ヒノキチオール 0.01 99.5%エタノール 0.5 pH調整剤 適 量 水にて 全量100W/W%(pH=7.5) *ニッコールサルコシネートLK−30:日光ケミカルズ株
式会社製のラウロイルサルコシンカリウムを主成分とす
る界面活性剤 **ミラノールC2Mコンク:香栄興業株式会社製のヤシ
油アルキルN−カルボキシメトキシエチル−N−カルボ
キシメチルイミダゾリニウムジナトリウムヒドロキシド
を主成分とする界面活性剤 実施例7 下記配合の洗顔料を調製した。
(W/W%) アラニネートLN−30 30.0 スワノールAM3130N 20.0 ミラノールC2Mコンク 5.0 濃グリセリン 5.0 ヒノキチオール 0.005 99.5%エタノール 0.2 パール化剤、増粘剤、pH調整剤 適 量 水にて 全量100W/W%(pH6.8) 実施例8 下記配合の洗顔料を調製した。
(W/W%) アラニネートLN−30 15.0 スワノールAM3130N 10.0 ミラノールC2Mコンク 2.0 ヒノキチオールトリエタノールアミン塩 0.005パール化剤、pH調整剤、香料、色素 適 量 水にて 全量100W/W%(pH7.5) 実施例9 下記配合のボディシャンプーを調製した。
(W/W%) アラニネートLN−30 15.0 スワノールAM3130N 11.5 パール化剤、増粘剤、過脂肪剤 pH調整剤、金属キレート剤、保湿剤 適 量ヒノキチオールモルホリン塩 0.02 水にて 全量100W/W%(pH6.8) 実施例10〜44 第2〜4表に示す化合物を用いて、第5表に示す組成
(重量%)の洗浄剤組成物を調製し、皮膚刺激性を評価
した。試験方法は、実施例1と同様とし、被験者は20人
とした。皮膚刺激性について、次の基準で評価した結果
を第5表に併記する。対照として、精製水及びラウリル
硫酸ナトリウムの0.5%水溶液について同様の試験を行
なった結果を第6表に示す。
皮膚刺激指数 10以下 − 皮膚刺激指数 11〜30 + 皮膚刺激指数 31以上 ++ また上記各組成物のpHを測定した結果を第7表に示
す。
実施例45 下記配合の洗顔料を調製した。
(W/W%) アラニネートLN−30 15.0 スワノールAM3130N 10.0 ミラノールC2Mコンク 2.0 ヒノキチオール 0.04 99.5%エタノール 0.76パール化剤、pH調整剤、保湿剤 適 量 水にて 全量100W/W%(pH7.2) 実施例46 下記配合のボディシャンプーを調製した。
(W/W%) アラニネートLN−30 15.0 スワノールAM3130N 11.5 ミラノールC2Mコンク 2.5 ヒノキチオール 0.04 99.5%エタノール 0.76 パール化剤、pH調整剤、保湿剤 適 量 水にて 全量100W/W%(pH6.5) 実施例47 下記配合のシャンプー組成物を調製した。
(W/W%) アラニネートLN−30 40.0 スワノールAM3130N 10.0 ヒノキチオール 0.04 99.5%エタノール 0.76pH調整剤、金属イオン封鎖剤 適 量 水にて 全量100W/W%(pH6.4)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 特願平3 −137622 (32)優先日 平3(1991)6月10日 (33)優先権主張国 日本(JP) 前置審査

Claims (7)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式 〔式中、R1は炭素数40以下の飽和又は不飽和炭化水素基
    を示し、R2は低級アルキル基を示し、Aは低級アルキレ
    ン基を示す〕 で表わされる陰イオン性界面活性剤又はその塩、及び一
    般式 〔式中、R3は炭素数40以下の飽和又は不飽和炭化水素基
    を示し、R4及びR5はそれぞれ低級アルキル基を示し、B
    は低級アルキレン基を示す。〕 で表わされる両イオン性界面活性剤からなる群から選ば
    れた少なくとも1種の界面活性剤と、ヒノキチオール又
    はその塩からなる防腐剤とを含有することを特徴とする
    洗浄剤組成物。
  2. 【請求項2】一般式(I)で表わされる陰イオン性界面
    活性剤又はその塩と一般式(II)で表わされる両イオン
    性界面活性剤とを、前者:後者(重量比)=1:20〜20:1
    で併用し、之等界面活性剤を3〜40重量%、ヒノキチオ
    ール又はその塩を0.001重量%以上含有する請求項1に
    記載の洗浄剤組成物。
  3. 【請求項3】一般式(I)で表わされる陰イオン性界面
    活性剤が、R1がウンデシル基、R2がメチル基及びAがエ
    チレン基のものであり、一般式(II)で表わされる両イ
    オン性界面活性剤が、R3がヤシ油アルキル基、R4及びR5
    がメチル基及びBがトリメチレン基のものであり、また
    之等界面活性剤を5〜30重量%、ヒノキチオール又はそ
    の塩を0.001〜1.0重量%含有する請求項2に記載の洗浄
    剤組成物。
  4. 【請求項4】ヒノキチオール又はその塩を0.02重量%以
    上含有する請求項2に記載の洗浄剤組成物。
  5. 【請求項5】ヒノキチオール又はその塩を0.02〜0.05重
    量%含有する請求項3に記載の洗浄剤組成物。
  6. 【請求項6】一般式(I)で表わされる陰イオン性界面
    活性剤又はその塩と、一般式(II)で表わされる両イオ
    ン性界面活性剤とを併用し、更に(1)一般式 〔式中、R6は炭素数40以下の飽和又は不飽和炭化水素基
    を示し、R7はアルカリ金属、アルカリ土類金属、銅及び
    亜鉛から選ばれる金属イオンを示す。〕 で表わされる化合物並びに(2)ヤシ油アルキルN−カ
    ルボキシメトキシエチル−N−カルボキシメチルイミダ
    ゾリニウムジナトリウムヒドロキシド、ヤシ油脂肪酸N
    −カルボキシメトキシエチルN−カルボキシメチルイミ
    ダゾリニウムジナトリウムラウリル硫酸及びラウリルN
    −カルボキシメトキシエチル−N−カルボキシメチルイ
    ミダゾリニウムジナトリウムドデカノイルサルコシンか
    ら選ばれるイミダゾリニウムベタイン系両イオン性界面
    活性剤を、一般式(I)で表わされる陰イオン性界面活
    性剤の10〜200重量%含有する請求項2又は3に記載の
    洗浄剤組成物。
  7. 【請求項7】皮膚疾患患者に適用される請求項1〜6の
    いずれかに記載の洗浄剤組成物。
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