JP2614097B2 - 電界発光素子 - Google Patents

電界発光素子

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はダイヤモンド状炭素膜を用いた電界発光素子
に関するものである。
(従来の技術) 従来、発光表示材料である薄膜型の電界発光(EL)素
子材料としては、ZnS、ZnCdS、ZnSe、CaS、SrS等の母材
に、Cu、Mn、希土類、弗化物等の添加剤を加えたものが
公知である。
(発明が解決しようとしている問題点) 薄膜型EL素子の発光層は、抵抗加熱、電子ビーム蒸着
或いはスパッタ法により生成するが、膜の構造欠陥等の
ため特に湿度が弱く、発光が不安定であり劣化するとい
う欠点があり、素子端面をも包みこむ防湿膜を必要とす
るという問題があった。
かかる耐湿性の問題を解決するために、発光層をダイ
ヤモンド状炭素膜で形成したEL素子がAppl.Phys.Lett.
[53(19)9月、1988年]に開示されている。
かかるEL素子は、従来材料を用いたEL素子に比べ耐湿
性に優れたものであるが、印加電圧が高く、低輝度で発
光寿命も短いという欠点を有する。
そこで、本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解
決し、耐湿性に優れ、低印加電圧でも高輝度、長寿命で
あり、しかもより短波長側に発光するEL素子を提供する
ことにある。
(問題点を解決するための手段) 上記目的は以下の本発明によって達成される。
すなわち、本発明は、酸素を含有するダイヤモンド状
炭素膜を発光層に用いたことを特徴とするEL素子であ
る。
(好ましい実施態様) 次に好ましい実施態様により本発明を更に詳しく説明
する。
本発明に用いられるダイヤモンド状炭素(DLC)膜と
は、発光色に対して透明であることが必要であり、可視
光領域をカバーするためにはEgoptが1.5eV以上、更に好
ましくは2.0eV以上が良い。又、絶縁耐圧が充分あり、
発光中心を励起する電子を充分加速することが出来るた
めには抵抗率が109乃至1013Ωcmが好ましい。又、化学
的に安定で膜質の低下が生じないものが良い。
この様なDLC膜は、カーボンブラックやグラッシーカ
ーボンとは異なり、SP2炭素の膜中混在比が少なく、
又、二重結合共役系が小さいことが必要となる。それ故
に長距離的にはアモルファス構造であっても、短距離的
にはダイヤモンド構造をとり、SP3炭素主体による膜で
ある。又、ED等で見た結晶成分の有無については本発明
においては問題ではない。
該DLC膜の生成方法は、スパッタ法、イオンビーム蒸
着法等のPVD法や、RFプラズマCVD法、直流グロー放電法
等のCVD法が使用できる。
DLC膜に酸素を含有させる方法は、原料ガスにCH3OH、
C2H5OH等のアルコール類、(CH32CO、(C6H5)CO等の
ケトン類やCOやCO2等の炭素と酸素元素を含有するガス
を用いる方法、O2やH2O等の酸素を含有するガス雰囲気
或いはプラズマ中でDLC膜の生成を行なう方法、更にはD
LC膜生成後、O2やH2O雰囲気或いはプラズマ近傍で酸化
する方法がある。酸素含有量は5atom%以下、好ましく
は0.1atom%以上が好ましく、5atom%を越えると構造が
不安定となり、繰り返し耐久性が低下し、又、含酸素ガ
スを混合して用いる場合は特に成膜速度が低下し、一
方、0.1atom%以下では発光強度が低下する。
(実施例) 次に実施例及び比較例により本発明を更に具体的に説
明する。
実施例1 第1図は、本発明のEL素子の形成に用いた装置の概略
図を示すものである。磁場を印加した空胴共振器2に原
料ガスとマイクロ波を導入して放電させ、空胴共振器2
から吹き出したプラズマにより成膜室1に設置した基板
7上に成膜を行なうものである。
原料ガスとしてCH4/H2/O2を1/1/0.1の混合物として導
入し、マイクロ波(2.45GHz)200Wとし、磁場は最大強
度1,500Gauss、ECR条件を満たす875Gaussが空胴共振器
出口端から1cm内側に設定して放電した。圧力は0.05Tor
rとし、基板温度200℃に保持した。
第2図は本発明のEL素子の構成図を示す。ガラス基板
14上に透明電極ITO13を1,000Åの厚みに、絶縁膜HfO212
を2,000Åの厚みに成膜した後、酸素含有DLC膜の発光層
11を0.8μmの厚みに成膜し、背面電極10としてAlを1,0
00Åの厚みに蒸着した。
第3図は生成したDLC膜のIRスペクトルを示す。このI
Rスペクトルでは1,700cm-1付近に−C=Oに由来する吸
収が認められ、膜中に酸素が安定に存在していることが
わかる。燃焼法による化学分析法による酸素含有量は1a
tom%であった。又、該DLC膜のEgoptは2.8eVであった。
次にこの素子の両電極間に周波数3KHzの交流電場を印加
したところ、100Vより発光を開始し200Vで飽和した。こ
のときの発光色は第4図の発光スペクトルが示す様に黄
緑色であった。
実施例2 実施例1と同様の装置を用い、実施例1と同構成の基
板(ガラス/ITO/HfO2)に、原料ガスとしてCH4ガスを導
入し、マイクロ波出力100W、磁場は実施例1と同じに
し、圧力5×10-4Torrとして放電を行ない発光層を形成
した。基板温度は200℃に保持し、基板バイアス−400V
を印加した。DLC膜を1μmの厚みに成膜した後放電を
止め、基板温度を80℃に保持し、水をバブリングした後
の酸素ガスを導入し40時間保持した。その後Al電極付け
を行なった。このときのDLC膜のEgoptは2.3eVであっ
た。この発光素子の両電極間に実施例1と同条件の交流
電場を印加したところ実施例1と同様の発光を確認し
た。尚、この素子において、その発光層の酸素含有量は
3atom%で、IRスペクトルで−C=Oの吸収ピークの増
加率が飽和した後は1ケ月経過後でも発光強度は低下し
なかった。
比較例1 実施例2と同様にして成膜したDLC膜を、放電を止め
た後酸化せずに比較例のEL素子を作成した。このときの
DLC膜はIRスペクトルで−C=O吸収ピークは検出され
なかった。このEL素子を実施例1と同条件で発光させた
ところ、僅かに発光するものの、実施例1及び2のEL素
子と比較すると、その輝度は1/100以下であった。
実施例3 実施例1と同じ装置を用い原料ガスをC2H4/CO=1/1混
合比で導入し、圧力9×10-3Torrに保持し、基板バイア
ス−100Vとし、他は実施例1と同条件にしてDLC膜の成
膜を行なった。Egoptは2.2eVであった。Al電極付けした
後実施例1と同条件で測定した発光スペクトルは第4図
と類似し、酸素含有量は5atom%であった。発光強度が
半減する時間は5,000時間であった。
(発明の効果) 以上説明した様にEL素子の発光層に酸素を含有するDL
C膜を用いることにより、耐環境性、特に湿度に対し、
発光強度の劣化がない長寿命の信頼性の高いEL素子を実
現出来る様になった。
【図面の簡単な説明】 第1図 本発明を実施した装置概略図 第2図 本発明を実施したEL素子構成図 第3図 DLC発光層のIRスペクトル図 第4図 発光スペクトル図 1……成膜室、2……空洞共振器 3……電磁石、4……ガス導入口 5……マイクロ波導波管、6……排気口 7……基板、8……直流電源 10……背面電極、11……発光DLC層 12……絶縁層、13……透明電極 14……ガラス基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 栗原 紀子 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キ ヤノン株式会社内 (56)参考文献 特開 平1−102893(JP,A) Appl.Phys.Lett.53 [19](1988)P.1880−1881

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】酸素を含有するダイヤモンド状炭素膜を発
    光層に用いたことを特徴とする電界発光素子。
  2. 【請求項2】酸素濃度が5atom%以下である請求項1に
    記載の電界発光素子。
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