JP2612419B2 - Ｍｐｐコア用粉末の製造方法およびその粉末を利用したｍｐｐコアの製造方法 - Google Patents
Ｍｐｐコア用粉末の製造方法およびその粉末を利用したｍｐｐコアの製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はＳＭＰＳ（Switching Mo
de Power Supply）及びＤＣコンバーター（DC Converte
r）等に用いられるモリ−・パーマロイ・パウダー・コ
ア（Moly Permalloy Powder Core；以下、“ＭＰＰコ
ア”と称す）に関するものであって、特に、ＭＰＰコア
用粉末を溶融物から直接製造することのできるＭＰＰコ
ア用粉末の製造方法およびその粉末を利用してＭＰＰコ
アを製造する方法に関する。
de Power Supply）及びＤＣコンバーター（DC Converte
r）等に用いられるモリ−・パーマロイ・パウダー・コ
ア（Moly Permalloy Powder Core；以下、“ＭＰＰコ
ア”と称す）に関するものであって、特に、ＭＰＰコア
用粉末を溶融物から直接製造することのできるＭＰＰコ
ア用粉末の製造方法およびその粉末を利用してＭＰＰコ
アを製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般的に、ＭＰＰコアはＳＭＰＳおよび
ＤＣコンバーター等に用いられるものであって、高い透
磁率でかつ周波数損失が少ないという特性を有している
ので、用いられる製品のエネルギーの損失を減らし、機
器の嵩を減少させる。
ＤＣコンバーター等に用いられるものであって、高い透
磁率でかつ周波数損失が少ないという特性を有している
ので、用いられる製品のエネルギーの損失を減らし、機
器の嵩を減少させる。
【０００３】通常、ＭＰＰコアは、図５に示す工程によ
り製造されるが、それを詳しく説明すれば次の通りであ
る。即ち、ＭＰＰコアを製造するためには、先ずＮｉ
（ニッケル）−Ｍｏ（モリブデン）−Ｆｅ（鉄）からな
る合金を電気炉等で溶解された後、一定の大きさインゴ
ット（ｉｎｇｏｔ）を製造する。なお、上記ＭＰＰ用コ
ア素材用の合金としては、１．６〜４．０ｗｔ％のＭ
ｏ、７８〜８３ｗｔ％のＮｉおよび残部がＦｅである合
金が用いられる。そして、上記合金の溶解は、通常電気
炉等で１５００℃以上の温度で１時間以上の加熱により
行っている。
り製造されるが、それを詳しく説明すれば次の通りであ
る。即ち、ＭＰＰコアを製造するためには、先ずＮｉ
（ニッケル）−Ｍｏ（モリブデン）−Ｆｅ（鉄）からな
る合金を電気炉等で溶解された後、一定の大きさインゴ
ット（ｉｎｇｏｔ）を製造する。なお、上記ＭＰＰ用コ
ア素材用の合金としては、１．６〜４．０ｗｔ％のＭ
ｏ、７８〜８３ｗｔ％のＮｉおよび残部がＦｅである合
金が用いられる。そして、上記合金の溶解は、通常電気
炉等で１５００℃以上の温度で１時間以上の加熱により
行っている。
【０００４】次に、上記のように製造したインゴットを
５００℃以上の温度で加熱し、３パス（Ｐａｓｓ）以上
の熱間圧延を行って約６０インチの幅を有するストリッ
プを製造した後、水のような冷却媒体を通じて急冷処理
する。なお、上記の急冷処理は、次に行われる破砕工程
をより容易に行い、更に素材内の原子配列が不規則な
（ｄｉｓｏｒｄｅｒ）な状態を有するように成すため行
われるものであって、急冷処理条件はそのような観点か
ら制御されている。
５００℃以上の温度で加熱し、３パス（Ｐａｓｓ）以上
の熱間圧延を行って約６０インチの幅を有するストリッ
プを製造した後、水のような冷却媒体を通じて急冷処理
する。なお、上記の急冷処理は、次に行われる破砕工程
をより容易に行い、更に素材内の原子配列が不規則な
（ｄｉｓｏｒｄｅｒ）な状態を有するように成すため行
われるものであって、急冷処理条件はそのような観点か
ら制御されている。
【０００５】次に、上記のように急冷処理されたストリ
ップを破砕機により一定の大きさに破砕した後、メッシ
ュ篩（ｍｅｓｈ ｓｉｅｖｅ）を通過させることにより
粒度が一定の大きさ以上の破砕粉末を取り除いてＭＰＰ
コア用粉末を製造する。ここで、通常広く用いられるＭ
ＰＰコア用粉末の平均粒度は約５０μｍであり、そのよ
うな平均粒度を有する粉末はメッシュ篩の目の大きさ１
２０メッシュに選定し粒度の大きさが１２０メッシュ以
上の粉末を取り除くことによって製造することができ
る。
ップを破砕機により一定の大きさに破砕した後、メッシ
ュ篩（ｍｅｓｈ ｓｉｅｖｅ）を通過させることにより
粒度が一定の大きさ以上の破砕粉末を取り除いてＭＰＰ
コア用粉末を製造する。ここで、通常広く用いられるＭ
ＰＰコア用粉末の平均粒度は約５０μｍであり、そのよ
うな平均粒度を有する粉末はメッシュ篩の目の大きさ１
２０メッシュに選定し粒度の大きさが１２０メッシュ以
上の粉末を取り除くことによって製造することができ
る。
【０００６】次に、上記のように製造した粉末に雲母を
混合した後、水素のような還元性雰囲気の下において、
６３２〜７６０℃で加熱し、その温度区間で１時間以上
保つ。その後、３００℃まで炉冷させた後、常温まで急
冷させる。このようなアニーリング（ａｎｎｅａｌｉｎ
ｇ）処理は、破砕粉末に残留する応力（ｓｔｒｅｓｓ）
および変形（ｓｔｒａｉｎ）を取り除くために行われる
ものであって、アニーリング条件はそのような観点から
制御される。
混合した後、水素のような還元性雰囲気の下において、
６３２〜７６０℃で加熱し、その温度区間で１時間以上
保つ。その後、３００℃まで炉冷させた後、常温まで急
冷させる。このようなアニーリング（ａｎｎｅａｌｉｎ
ｇ）処理は、破砕粉末に残留する応力（ｓｔｒｅｓｓ）
および変形（ｓｔｒａｉｎ）を取り除くために行われる
ものであって、アニーリング条件はそのような観点から
制御される。
【０００７】次に、上記のように熱処理した粉末粒子を
絶縁するためにセラミックでコーティングした後、所望
のコア形状に成形する。この際、粉末と粉末との間また
は成形体と金型との間の摩擦力を減らすために、成形前
に上記粉末に亜鉛−ステアリン酸（Ｚｎ−Ｓｔｅａｒａ
ｔｅ）を１％以下混合している。
絶縁するためにセラミックでコーティングした後、所望
のコア形状に成形する。この際、粉末と粉末との間また
は成形体と金型との間の摩擦力を減らすために、成形前
に上記粉末に亜鉛−ステアリン酸（Ｚｎ−Ｓｔｅａｒａ
ｔｅ）を１％以下混合している。
【０００８】次に、上記のように製造した成形体から成
形時に生じたバリ（ｂｕｒｒ）を取り除き、それを水素
のような還元性ガス雰囲気の下に約７６０℃の温度まで
加熱して０．６時間以上保った後、炉冷させるアニーリ
ング処理を行う。その後、コアの磁気特性をチェック
し、湿気および大気からのコア特性を保護するためコア
の表面にポリエステル（ｐｏｌｙ ｅｓｔｅｒ）等をコ
ーティングすることによって、ＭＰＰコアが製造され
る。なお、上記アニーリング処理は成形体に残留する応
力および変形を取り除くために行われるものであって、
アニーリング条件はこのような観点から制御される。
形時に生じたバリ（ｂｕｒｒ）を取り除き、それを水素
のような還元性ガス雰囲気の下に約７６０℃の温度まで
加熱して０．６時間以上保った後、炉冷させるアニーリ
ング処理を行う。その後、コアの磁気特性をチェック
し、湿気および大気からのコア特性を保護するためコア
の表面にポリエステル（ｐｏｌｙ ｅｓｔｅｒ）等をコ
ーティングすることによって、ＭＰＰコアが製造され
る。なお、上記アニーリング処理は成形体に残留する応
力および変形を取り除くために行われるものであって、
アニーリング条件はこのような観点から制御される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】上記のような工程を経
てＭＰＰコアを製造する従来の方法によれば、多くの工
程を経なければならないため、作業性が低下し、よっ
て、生産コストの上昇および生産性の低下を生じるとい
う問題があった。
てＭＰＰコアを製造する従来の方法によれば、多くの工
程を経なければならないため、作業性が低下し、よっ
て、生産コストの上昇および生産性の低下を生じるとい
う問題があった。
【００１０】また、上記の従来の方法は、ＭＰＰコア用
粉末を破砕してから得るようになっているが、粉末の粒
子が不規則な多角形を有するので、成形密度が低くな
り、ＭＰＰコアの透磁率が落ちるという問題があった。
粉末を破砕してから得るようになっているが、粉末の粒
子が不規則な多角形を有するので、成形密度が低くな
り、ＭＰＰコアの透磁率が落ちるという問題があった。
【００１１】更に、上記の従来の方法によれば、粉末粒
子が鋭利な形態を有するので、絶縁のためのセラミック
コーティングが均一に行われず、言い換えれば、粉末粒
子の絶縁被膜が不均一になって、ＭＰＰコアの周波数特
性に大きな問題を残していた。
子が鋭利な形態を有するので、絶縁のためのセラミック
コーティングが均一に行われず、言い換えれば、粉末粒
子の絶縁被膜が不均一になって、ＭＰＰコアの周波数特
性に大きな問題を残していた。
【００１２】更に、より小さい嵩とより軽い製品を製造
するため、より優れた特性を有するＭＰＰコア製造技術
が要求され、それに対する多くの研究が行われているの
が実情である。
するため、より優れた特性を有するＭＰＰコア製造技術
が要求され、それに対する多くの研究が行われているの
が実情である。
【００１３】本発明者はこのような推勢に応じてより優
れた特性を有するＭＰＰコアをより簡単な工程で製造す
ることのできる方法について数年に亘る研究と実験を行
っていたが、ここに溶融物から直接ＭＰＰコア用粉末を
得ることのできる方法を開発した。
れた特性を有するＭＰＰコアをより簡単な工程で製造す
ることのできる方法について数年に亘る研究と実験を行
っていたが、ここに溶融物から直接ＭＰＰコア用粉末を
得ることのできる方法を開発した。
【００１４】なお、溶融物から直接粉末を製造する方法
は、所謂アトマイズ法（atomize method）と呼ばれてい
るが、この方法はＭＰＰコアのような機能材料の製造分
野においては、未だに適用されたことが無い。他の分野
の例を挙げれば、自動車部品等の構造物の材料分野にお
いて行われていたことがあるだけである。しかし、本発
明と異なる技術分野の構造物材料分野において行われて
いる方法の場合にも、主に純金属に対して行われている
のみであって、合金に対しては未だに具体的に提示され
たことがない。
は、所謂アトマイズ法（atomize method）と呼ばれてい
るが、この方法はＭＰＰコアのような機能材料の製造分
野においては、未だに適用されたことが無い。他の分野
の例を挙げれば、自動車部品等の構造物の材料分野にお
いて行われていたことがあるだけである。しかし、本発
明と異なる技術分野の構造物材料分野において行われて
いる方法の場合にも、主に純金属に対して行われている
のみであって、合金に対しては未だに具体的に提示され
たことがない。
【００１５】合金に対して上記の方法が適用されない理
由は、合金を溶解させて直接粉末を製造する場合、粉末
粒子が均一な組成を有せず一部の元素が偏析されるため
であると解されており、この点本発明者の研究を通じて
も確認することができた。そして、このような合金成分
の偏析程度、即ち、粉末粒子の合金組成の不均一程度は
合金を構成する成分の種類および酸化特性等の特性によ
り左右される。殊に、ＭＰＰコア用粉末の合金成分が不
均一になる場合、即ち、いずれかの成分でも偏析される
場合には、透磁率が顕著に低下し、エネルギー損失の増
加を招くようになる。したがって、合金を溶解して直接
粉末を製造する方法をＭＰＰコア用粉末のように機能材
料分野に応用するためには、何よりも粉末が均一な合金
組成を有するようにすることが要求される。
由は、合金を溶解させて直接粉末を製造する場合、粉末
粒子が均一な組成を有せず一部の元素が偏析されるため
であると解されており、この点本発明者の研究を通じて
も確認することができた。そして、このような合金成分
の偏析程度、即ち、粉末粒子の合金組成の不均一程度は
合金を構成する成分の種類および酸化特性等の特性によ
り左右される。殊に、ＭＰＰコア用粉末の合金成分が不
均一になる場合、即ち、いずれかの成分でも偏析される
場合には、透磁率が顕著に低下し、エネルギー損失の増
加を招くようになる。したがって、合金を溶解して直接
粉末を製造する方法をＭＰＰコア用粉末のように機能材
料分野に応用するためには、何よりも粉末が均一な合金
組成を有するようにすることが要求される。
【００１６】したがって、本発明の目的は、合金の溶融
物から直接ＭＰＰコア用粉末を製造することにある。本
発明の他の目的は球形または規則的な多角形状を有する
ＭＰＰコア用粉末を製造することにある。本発明の更に
他の目的は溶融物から直接粉末を製造しても合金の組成
が均一なＭＰＰコア用粉末を製造することにある。本発
明の更に他の目的は簡単な工程で透磁率が高く周波数の
損失が少ないＭＰＰコアを製造することにある。
物から直接ＭＰＰコア用粉末を製造することにある。本
発明の他の目的は球形または規則的な多角形状を有する
ＭＰＰコア用粉末を製造することにある。本発明の更に
他の目的は溶融物から直接粉末を製造しても合金の組成
が均一なＭＰＰコア用粉末を製造することにある。本発
明の更に他の目的は簡単な工程で透磁率が高く周波数の
損失が少ないＭＰＰコアを製造することにある。
【００１７】
【課題を解決するための手段】本発明に係るＭＰＰコア
用粉末の製造方法は、Ｎｉを溶解後、このＮｉ溶融物
に、Ｆｅ：４０〜７０ｗｔ％およびＭｏ：６０〜３０ｗ
ｔ％からなるＦｅ−Ｍｏ合金およびＦｅを添加し溶解し
て、Ｍｏ：１．６〜４．０ｗｔ％、Ｎｉ：７８〜８３ｗ
ｔ％、および残部Ｆｅからなる溶融物を製造する段階
と、該製造された溶融物を合金化処理する段階と、該合
金化処理された溶融物の流れに、８００〜３０００ｐｓ
ｉの噴射圧力及び１１０〜３８０Ｌ／ｍｉｎの噴射流量
で水を噴射することにより、−１００〜＋２３０ｍｅｓ
ｈ通過分：１０〜１５ｗｔ％、−２３０〜＋３２５ｍｅ
ｓｈ通過分：２５〜３５ｗｔ％、および−３２５ｍｅｓ
ｈ通過分：４５〜６５ｗｔ％の粒度分布で、規則的な多
角形形態および不規則的な原子配列を有する粉末を製造
する段階と、該製造された粉末を酸素の含量が２００ｐ
ｐｍ以下となるように、７００℃〜８００℃の温度範囲
において、還元処理する段階とを含む。
用粉末の製造方法は、Ｎｉを溶解後、このＮｉ溶融物
に、Ｆｅ：４０〜７０ｗｔ％およびＭｏ：６０〜３０ｗ
ｔ％からなるＦｅ−Ｍｏ合金およびＦｅを添加し溶解し
て、Ｍｏ：１．６〜４．０ｗｔ％、Ｎｉ：７８〜８３ｗ
ｔ％、および残部Ｆｅからなる溶融物を製造する段階
と、該製造された溶融物を合金化処理する段階と、該合
金化処理された溶融物の流れに、８００〜３０００ｐｓ
ｉの噴射圧力及び１１０〜３８０Ｌ／ｍｉｎの噴射流量
で水を噴射することにより、−１００〜＋２３０ｍｅｓ
ｈ通過分：１０〜１５ｗｔ％、−２３０〜＋３２５ｍｅ
ｓｈ通過分：２５〜３５ｗｔ％、および−３２５ｍｅｓ
ｈ通過分：４５〜６５ｗｔ％の粒度分布で、規則的な多
角形形態および不規則的な原子配列を有する粉末を製造
する段階と、該製造された粉末を酸素の含量が２００ｐ
ｐｍ以下となるように、７００℃〜８００℃の温度範囲
において、還元処理する段階とを含む。
【００１８】本発明に係る別のＭＰＰコア用粉末の製造
方法は、Ｎｉを溶解後、このＮｉ溶融物に、Ｆｅ：４０
〜７０ｗｔ％およびＭｏ：６０〜３０ｗｔ％からなるＦ
ｅ−Ｍｏ合金およびＦｅを添加し溶解して、Ｍｏ：１．
６〜４．０ｗｔ％、Ｎｉ：７８〜８３ｗｔ％、および残
部Ｆｅからなる溶融物を製造する段階と、該製造された
溶融物を合金化処理する段階と、該合金化処理された溶
融物の流れに、５０〜１２００ｐｓｉの噴射圧力及び１
〜１４ｍ3／ｍｉｎの噴射流量で不活性ガス又は窒素ガ
スを噴射し、−１００〜＋２３０ｍｅｓｈ通過分：１０
〜１５ｗｔ％、−２３０〜＋３２５ｍｅｓｈ通過分：２
５〜３５ｗｔ％、および−３２５ｍｅｓｈ通過分：４５
〜６５ｗｔ％の粒度分布で、球形形態および不規則的な
原子配列を有する粉末を製造する段階とを含む。また、
本発明に係るＭＰＰコアの製造方法は、上記のようにし
て製造される粉末をセラミックコーティングした後、コ
アを成形する段階と、該成形されたコアをアニーリング
処理した後、磁気特性をチェックしたコアをコーティン
グする段階とを更に含む。
方法は、Ｎｉを溶解後、このＮｉ溶融物に、Ｆｅ：４０
〜７０ｗｔ％およびＭｏ：６０〜３０ｗｔ％からなるＦ
ｅ−Ｍｏ合金およびＦｅを添加し溶解して、Ｍｏ：１．
６〜４．０ｗｔ％、Ｎｉ：７８〜８３ｗｔ％、および残
部Ｆｅからなる溶融物を製造する段階と、該製造された
溶融物を合金化処理する段階と、該合金化処理された溶
融物の流れに、５０〜１２００ｐｓｉの噴射圧力及び１
〜１４ｍ3／ｍｉｎの噴射流量で不活性ガス又は窒素ガ
スを噴射し、−１００〜＋２３０ｍｅｓｈ通過分：１０
〜１５ｗｔ％、−２３０〜＋３２５ｍｅｓｈ通過分：２
５〜３５ｗｔ％、および−３２５ｍｅｓｈ通過分：４５
〜６５ｗｔ％の粒度分布で、球形形態および不規則的な
原子配列を有する粉末を製造する段階とを含む。また、
本発明に係るＭＰＰコアの製造方法は、上記のようにし
て製造される粉末をセラミックコーティングした後、コ
アを成形する段階と、該成形されたコアをアニーリング
処理した後、磁気特性をチェックしたコアをコーティン
グする段階とを更に含む。
【００１９】本発明において、合金溶解物はＮｉを先に
融解した後、Ｆｅ−Ｍｏ合金を添加して溶解した後Ｆｅ
を添加して溶解させたり、または、Ｆｅを添加して溶解
させた後Ｆｅ−Ｍｏ合金を添加して溶解させたり、また
は、Ｆｅ−Ｍｏ合金とＦｅを同時に添加溶解させ最終的
粉末合金の組成を有するようにした後合金化させて製造
することが望ましい。
融解した後、Ｆｅ−Ｍｏ合金を添加して溶解した後Ｆｅ
を添加して溶解させたり、または、Ｆｅを添加して溶解
させた後Ｆｅ−Ｍｏ合金を添加して溶解させたり、また
は、Ｆｅ−Ｍｏ合金とＦｅを同時に添加溶解させ最終的
粉末合金の組成を有するようにした後合金化させて製造
することが望ましい。
【００２０】上記のＮｉ、Ｆｅ−Ｍｏ合金およびＦｅの
添加量は最終的粉末合金の組成がＭｏ：１．６〜４．０
ｗｔ％、Ｎｉ：７８〜８３ｗｔ％、および残部がＦｅか
らなるように制御される。
添加量は最終的粉末合金の組成がＭｏ：１．６〜４．０
ｗｔ％、Ｎｉ：７８〜８３ｗｔ％、および残部がＦｅか
らなるように制御される。
【００２１】Ｎｉを融解する場合、その融解温度は１６
００〜１６５０℃に選定するのが望ましい。その理由
は、融解温度が１６００℃以下の場合にはＮｉの融解が
充分に成されず、一方、１６５０℃以上の場合には溶湯
が酸化される虞があるからである。この際、融解時間は
充分な融解のために１時間以上に選定するのが望まし
い。
００〜１６５０℃に選定するのが望ましい。その理由
は、融解温度が１６００℃以下の場合にはＮｉの融解が
充分に成されず、一方、１６５０℃以上の場合には溶湯
が酸化される虞があるからである。この際、融解時間は
充分な融解のために１時間以上に選定するのが望まし
い。
【００２２】上記のように融解したＮｉ溶湯にＦｅ−Ｍ
ｏ合金を添加して溶解する場合、その溶解温度は１６５
０〜１７００℃に選定するのが望ましい。その理由は、
上記したＮｉ融解の場合と同様に、１６５０℃以下にお
いては、十分な溶解がなされず、一方、１７００℃以上
の場合には溶湯が酸化される虞があり、更に非経済的で
あるからである。この際の溶解時間は十分な溶解のため
１時間以上に選定することが望ましい。ここで、Ｆｅ−
Ｍｏ合金としては通常のＦｅ−Ｍｏ合金であればいずれ
も使用可能であるが、望ましくはＦｅ：４０〜７０％お
よびＭｏ：６０〜３０％からなる合金、より望ましく
は、Ｆｅ：４０％およびＭｏ：６０％の合金を使用す
る。
ｏ合金を添加して溶解する場合、その溶解温度は１６５
０〜１７００℃に選定するのが望ましい。その理由は、
上記したＮｉ融解の場合と同様に、１６５０℃以下にお
いては、十分な溶解がなされず、一方、１７００℃以上
の場合には溶湯が酸化される虞があり、更に非経済的で
あるからである。この際の溶解時間は十分な溶解のため
１時間以上に選定することが望ましい。ここで、Ｆｅ−
Ｍｏ合金としては通常のＦｅ−Ｍｏ合金であればいずれ
も使用可能であるが、望ましくはＦｅ：４０〜７０％お
よびＭｏ：６０〜３０％からなる合金、より望ましく
は、Ｆｅ：４０％およびＭｏ：６０％の合金を使用す
る。
【００２３】上記のように融解したＮｉ溶湯にＦｅを添
加して溶解させる場合、その温度はＦｅ−Ｍｏ合金の溶
解温度と同じく選定するのが望ましい。
加して溶解させる場合、その温度はＦｅ−Ｍｏ合金の溶
解温度と同じく選定するのが望ましい。
【００２４】上記のように融解したＮｉ溶湯にＦｅ−Ｍ
ｏ合金およびＦｅを添加して溶解した後行う合金化処理
においては、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｍｏ合金およびＦｅが溶解し
た溶湯を１７００〜１７５０℃に昇温させ、その温度で
１時間以上保つことが望ましい。その理由は、合金化温
度が１７００℃以下の場合には原子等の拡散速度が緩慢
で合金化時間が永くなるばかりでなく、流動度が劣って
溶融物の粉末化が困難となるからであり、一方、１７５
０℃以上の場合には溶融物の蒸発が生じ且つ溶湯の酸化
の虞があるからである。上記の合金化処理時間は、充分
な合金化を成すために１．０時間以上に選定するのが望
ましい。上記ＮｉおよびＦｅ−Ｍｏの合金は純度が高い
程良く、望ましくは９９．９％以上の純度を有するもの
が望ましい。
ｏ合金およびＦｅを添加して溶解した後行う合金化処理
においては、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｍｏ合金およびＦｅが溶解し
た溶湯を１７００〜１７５０℃に昇温させ、その温度で
１時間以上保つことが望ましい。その理由は、合金化温
度が１７００℃以下の場合には原子等の拡散速度が緩慢
で合金化時間が永くなるばかりでなく、流動度が劣って
溶融物の粉末化が困難となるからであり、一方、１７５
０℃以上の場合には溶融物の蒸発が生じ且つ溶湯の酸化
の虞があるからである。上記の合金化処理時間は、充分
な合金化を成すために１．０時間以上に選定するのが望
ましい。上記ＮｉおよびＦｅ−Ｍｏの合金は純度が高い
程良く、望ましくは９９．９％以上の純度を有するもの
が望ましい。
【００２５】上記のように合金化処理した溶融物は流体
の噴射により粉末化される。即ち、溶融物の流れに流体
を噴射させて衝突させることにより溶融物は粉末化され
る。上記の流体としてはＡｒガスのような不活性ガス、
Ｎ2 ガスまたは水を用いることができる。上記流体の噴
射条件は、目的とする粉末の粒度、粉末の形態および粉
末の原子配列等を考慮のうえ選定するのであって、ま
た、噴射する流体の種類によっても変化する。なお、流
体としてＡｒガスのような不活性ガスまたはＮ2ガスを
用いる場合には粉末形態が球形を有し、流体として水を
用いる場合には規則的な多角的な形態を有するようにな
る。
の噴射により粉末化される。即ち、溶融物の流れに流体
を噴射させて衝突させることにより溶融物は粉末化され
る。上記の流体としてはＡｒガスのような不活性ガス、
Ｎ2 ガスまたは水を用いることができる。上記流体の噴
射条件は、目的とする粉末の粒度、粉末の形態および粉
末の原子配列等を考慮のうえ選定するのであって、ま
た、噴射する流体の種類によっても変化する。なお、流
体としてＡｒガスのような不活性ガスまたはＮ2ガスを
用いる場合には粉末形態が球形を有し、流体として水を
用いる場合には規則的な多角的な形態を有するようにな
る。
【００２６】流体噴射時、流体がＡｒガスのような不活
性ガスまたはＮ2 ガスの場合には、噴射圧力は５０〜１
２００ｐｓｉであり、流量は１〜１４ｍ3 ／ｍｉｎに選
定するのが望ましく、流体が水の場合には噴射圧力は８
００〜３０００ｐｓｉで、流量は１１０〜３８０Ｌ／ｍ
ｉｎに選定するのが望ましい。即ち、流体の噴射圧力が
余り少ない場合には粉末粒径が大きくなると共に粒子の
形態が不規則になり、一方、余り大きい場合には全て球
形となるが粉末粒径が余り小さくなるので流体噴射時の
噴射圧力は上記の範囲で選定するのが望ましい。また、
流体の流量が余り少ない場合には溶融物を充分に急冷す
ることができないため不規則（disorder）な原子配列状
態を充分に得ることができず、一方、余り大きい場合に
は溶融物の均一な粉末化が成されないので、流体噴射時
の流体の流量は上記の範囲に選定するのが望ましい。
性ガスまたはＮ2 ガスの場合には、噴射圧力は５０〜１
２００ｐｓｉであり、流量は１〜１４ｍ3 ／ｍｉｎに選
定するのが望ましく、流体が水の場合には噴射圧力は８
００〜３０００ｐｓｉで、流量は１１０〜３８０Ｌ／ｍ
ｉｎに選定するのが望ましい。即ち、流体の噴射圧力が
余り少ない場合には粉末粒径が大きくなると共に粒子の
形態が不規則になり、一方、余り大きい場合には全て球
形となるが粉末粒径が余り小さくなるので流体噴射時の
噴射圧力は上記の範囲で選定するのが望ましい。また、
流体の流量が余り少ない場合には溶融物を充分に急冷す
ることができないため不規則（disorder）な原子配列状
態を充分に得ることができず、一方、余り大きい場合に
は溶融物の均一な粉末化が成されないので、流体噴射時
の流体の流量は上記の範囲に選定するのが望ましい。
【００２７】溶解物の粉末化に用いられるＮ2 ガスは−
１８３℃の液化ガスを用いるのが望ましく、水の場合に
は２５℃の水を用いてもよい。
１８３℃の液化ガスを用いるのが望ましく、水の場合に
は２５℃の水を用いてもよい。
【００２８】上記のように、流体の噴射時の流体の噴射
条件、即ち、噴射圧力および噴射流量を適切に選定する
ことにより、多様な粒度範囲、球形または規則的な多角
形形態および不規則な原子配列状態を有する粉末を製造
することができる。
条件、即ち、噴射圧力および噴射流量を適切に選定する
ことにより、多様な粒度範囲、球形または規則的な多角
形形態および不規則な原子配列状態を有する粉末を製造
することができる。
【００２９】望ましい粉末粒度分布は−１００〜＋２３
０ｍｅｓｈ通過分：１０〜１５ｗｔ％、−２３０〜＋３
２５ｍｅｓｈ通過分：２５〜３５ｗｔ％、および−３２
５ｍｅｓｈ通過分：４５〜６５ｗｔ％を有するものであ
る。
０ｍｅｓｈ通過分：１０〜１５ｗｔ％、−２３０〜＋３
２５ｍｅｓｈ通過分：２５〜３５ｗｔ％、および−３２
５ｍｅｓｈ通過分：４５〜６５ｗｔ％を有するものであ
る。
【００３０】上記のように製造した粉末をＭＰＰコア用
に用いるためには粉末中の炭素（Ｃ）の含量は１００ｐ
ｐｍ以下で、酸素（Ｏ）の含量は２００ｐｐｍ以下に制
限するのが望ましい。したがって、粉末中の炭素および
酸素の含量が上記の範囲を超過する場合には、含水素雰
囲気（hydrogen contained atomosphere）のような還元
性雰囲気の下で粉末を還元処理すべきであるが、還元処
理は７００〜８００℃の温度区間で１時間以上行うのが
望ましい。
に用いるためには粉末中の炭素（Ｃ）の含量は１００ｐ
ｐｍ以下で、酸素（Ｏ）の含量は２００ｐｐｍ以下に制
限するのが望ましい。したがって、粉末中の炭素および
酸素の含量が上記の範囲を超過する場合には、含水素雰
囲気（hydrogen contained atomosphere）のような還元
性雰囲気の下で粉末を還元処理すべきであるが、還元処
理は７００〜８００℃の温度区間で１時間以上行うのが
望ましい。
【００３１】次に、本発明に基づき、ＭＰＰコアを製造
する方法について図１を参照しながら説明する。
する方法について図１を参照しながら説明する。
【００３２】ＭＰＰコアを製造するためには、先ずＭ
ｏ：１．６〜４．０ｗｔ％、Ｎｉ：７８〜８３ｗｔ％、
残部がＦｅおよびその他不可避な不純物からなる合金を
上記の方法で溶融および合金化した後、溶融物の流れに
上記の方法で流体を噴射させて粉末を製造する。この
際、望ましき粒度分布は−１００〜＋２３０ｍｅｓｈ通
過分：１０〜１５ｗｔ％、−２３０〜＋３２５ｍｅｓｈ
通過分：２５〜３５ｗｔ％、および−３２５ｍｅｓｈ通
過分：４５〜６５ｗｔ％である。粉末の粒度分布はコア
として成形する際の成形密度と密接な関係を持っている
ので、この粒度分布を外れる場合には成形密度が低下す
る虞がある。従って、上記粒度分布を有するように流体
の噴射条件を制限するのが望ましい。そして、上記の粒
度分布中から−１００〜＋２３０ｍｅｓｈ通過分の場合
には平均粒度は９０μｍで、−２３０〜＋３２５ｍｅｓ
ｈ通過分の場合には平均粒度は７０μｍで、そして、−
３２５ｍｅｓｈ通過分の場合には平均粒度を４５μｍに
選定するのが望ましい。更に、ＭＰＰコアの用途に適合
する粉末の形態および原子配列状態を得るように流体の
噴射条件を適切に選定しなければならない。
ｏ：１．６〜４．０ｗｔ％、Ｎｉ：７８〜８３ｗｔ％、
残部がＦｅおよびその他不可避な不純物からなる合金を
上記の方法で溶融および合金化した後、溶融物の流れに
上記の方法で流体を噴射させて粉末を製造する。この
際、望ましき粒度分布は−１００〜＋２３０ｍｅｓｈ通
過分：１０〜１５ｗｔ％、−２３０〜＋３２５ｍｅｓｈ
通過分：２５〜３５ｗｔ％、および−３２５ｍｅｓｈ通
過分：４５〜６５ｗｔ％である。粉末の粒度分布はコア
として成形する際の成形密度と密接な関係を持っている
ので、この粒度分布を外れる場合には成形密度が低下す
る虞がある。従って、上記粒度分布を有するように流体
の噴射条件を制限するのが望ましい。そして、上記の粒
度分布中から−１００〜＋２３０ｍｅｓｈ通過分の場合
には平均粒度は９０μｍで、−２３０〜＋３２５ｍｅｓ
ｈ通過分の場合には平均粒度は７０μｍで、そして、−
３２５ｍｅｓｈ通過分の場合には平均粒度を４５μｍに
選定するのが望ましい。更に、ＭＰＰコアの用途に適合
する粉末の形態および原子配列状態を得るように流体の
噴射条件を適切に選定しなければならない。
【００３３】上記のように製造した粉末中の炭素および
酸素の含量がそれぞれ１００ｐｐｍ以上および２００ｐ
ｐｍ以上の場合には、含水素雰囲気のような還元性雰囲
気の下に還元処理しなければならない。この還元処理は
７００〜８００℃の温度区間において１時間以上行うの
が望ましい。
酸素の含量がそれぞれ１００ｐｐｍ以上および２００ｐ
ｐｍ以上の場合には、含水素雰囲気のような還元性雰囲
気の下に還元処理しなければならない。この還元処理は
７００〜８００℃の温度区間において１時間以上行うの
が望ましい。
【００３４】次に、粉末粒子を絶縁するためにセラミッ
クでコーティングした後、目的とするコア形態に成形す
る。この際、粉末をコア金型内においてプレス機を利用
して約２４０，０００ｐｓｉの成形圧で成形するのが望
ましい。
クでコーティングした後、目的とするコア形態に成形す
る。この際、粉末をコア金型内においてプレス機を利用
して約２４０，０００ｐｓｉの成形圧で成形するのが望
ましい。
【００３５】なお、粉末と粉末との間または成形体と金
型との間の摩擦力を減少させるために、成形前に上記粉
末に亜鉛−ステアリン酸（Ｚｎ−Ｓｔｅａｒａｔｅ）を
１％以下混合させるのが望ましい。
型との間の摩擦力を減少させるために、成形前に上記粉
末に亜鉛−ステアリン酸（Ｚｎ−Ｓｔｅａｒａｔｅ）を
１％以下混合させるのが望ましい。
【００３６】次に、上記のように成形したコアをアニー
リング処理した後、磁気特性をチェックし、その後湿気
および大気からのコア特性保護のために、コア表面にポ
リエステルまたはエポキシ樹脂等をコーティングするこ
とによりＭＰＰコアが製造される。
リング処理した後、磁気特性をチェックし、その後湿気
および大気からのコア特性保護のために、コア表面にポ
リエステルまたはエポキシ樹脂等をコーティングするこ
とによりＭＰＰコアが製造される。
【００３７】上記のアニーリング処理は成形体に残留す
る応力および変形を取り除くために行うものであって、
アニーリング条件はこのような観点から制御されるが、
水素雰囲気のような還元性雰囲気の下に５３０〜７４０
℃の温度で０．６時間以上行うのが望ましい。また、上
記エポキシ樹脂コーティング層の厚さは５０〜２００μ
ｍ位が望ましい。
る応力および変形を取り除くために行うものであって、
アニーリング条件はこのような観点から制御されるが、
水素雰囲気のような還元性雰囲気の下に５３０〜７４０
℃の温度で０．６時間以上行うのが望ましい。また、上
記エポキシ樹脂コーティング層の厚さは５０〜２００μ
ｍ位が望ましい。
【００３８】
【実施例】以下、本発明の実施例より詳しく説明する。
【００３９】実施例１ 純度９９．９％のＮｉ：１．８ｋｇを誘導炉へ導入して
１６１０℃まで加熱融解した後１６８５℃まで昇温させ
た。その後Ｆｅ（４０％）−Ｍｏ（６０％）合金を１ｋ
ｇ添加し１時間１０分間保って上記合金を溶解させ、純
度９９．９％のＦｅを０．４ｋｇ添加して溶解させた
後、１７１０℃まで昇温させ１時間の間保って溶解物を
製造した。
１６１０℃まで加熱融解した後１６８５℃まで昇温させ
た。その後Ｆｅ（４０％）−Ｍｏ（６０％）合金を１ｋ
ｇ添加し１時間１０分間保って上記合金を溶解させ、純
度９９．９％のＦｅを０．４ｋｇ添加して溶解させた
後、１７１０℃まで昇温させ１時間の間保って溶解物を
製造した。
【００４０】上記のように製造した溶融物を下方へ自由
落下させながら、溶融物に−１８３℃のＮ2 ガスを９０
ｐｓｉの噴射圧力および９ｍ3 ／ｍｉｎの流量で噴射さ
せて粉末を製造し、その粒度分布を調べた。その結果を
図２（ア）に示す。
落下させながら、溶融物に−１８３℃のＮ2 ガスを９０
ｐｓｉの噴射圧力および９ｍ3 ／ｍｉｎの流量で噴射さ
せて粉末を製造し、その粒度分布を調べた。その結果を
図２（ア）に示す。
【００４１】図２（ア）に示すように、本実施例により
溶融物から粉末を直接製造した場合、ＭＰＰコア用粉末
として用いられることのできる粒度分布を有する粉末を
６５〜７５％まで得ることができた。
溶融物から粉末を直接製造した場合、ＭＰＰコア用粉末
として用いられることのできる粒度分布を有する粉末を
６５〜７５％まで得ることができた。
【００４２】実施例２および実施例３ 流体としてＮ2 ガスを用い噴射圧力：１２５０ｐｓｉお
よび流量：９ｍ3 ／ｍｉｎ（実施例２）とした点また流
体としてＮ2 ガスを用い噴射圧力：４５ｐｓｉおよび流
量：９ｍ3 ／ｍｉｎ（実施例３）とした点を除いて、実
施例１と同一の方法で粉末を製造し、その粒度分布を調
べた。その結果を図２（イ）に示す。
よび流量：９ｍ3 ／ｍｉｎ（実施例２）とした点また流
体としてＮ2 ガスを用い噴射圧力：４５ｐｓｉおよび流
量：９ｍ3 ／ｍｉｎ（実施例３）とした点を除いて、実
施例１と同一の方法で粉末を製造し、その粒度分布を調
べた。その結果を図２（イ）に示す。
【００４３】なお、図２（イ）は実施例１に基づき製造
された粉末の粒度分布をも比較のために示している。図
２（イ）に示したように、噴射圧力が少なすぎたり、大
きすぎる場合にはＭＰＰコア用粉末として使用可能な粒
度分布を有する粉末を４０〜５０％位しか得られず収率
が劣ることがわかる。
された粉末の粒度分布をも比較のために示している。図
２（イ）に示したように、噴射圧力が少なすぎたり、大
きすぎる場合にはＭＰＰコア用粉末として使用可能な粒
度分布を有する粉末を４０〜５０％位しか得られず収率
が劣ることがわかる。
【００４４】実施例４ 流体として水を用い、流体の噴射圧力を１９００ｐｓｉ
とし、そして流量を１５０Ｌ／ｍｉｎとしたことを除い
て、実施例１と同一の方法で粉末を製造し、その粒度分
布を調べた。その結果を図３（ア）に示す。
とし、そして流量を１５０Ｌ／ｍｉｎとしたことを除い
て、実施例１と同一の方法で粉末を製造し、その粒度分
布を調べた。その結果を図３（ア）に示す。
【００４５】図３（ア）に示すように、本実施例により
溶融物から粉末を直接製造する場合、ＭＰＰコア用粉末
として用いることのできる粒度分布を有する粉末を７０
％〜８０％まで得ることができ、収率が優れるというこ
とが分かった。
溶融物から粉末を直接製造する場合、ＭＰＰコア用粉末
として用いることのできる粒度分布を有する粉末を７０
％〜８０％まで得ることができ、収率が優れるというこ
とが分かった。
【００４６】実施例５ 流体として水を用い、流体の噴射力を７５０ｐｓｉと
し、そして流量を１５０Ｌ／ｍｉｎとしたことを除い
て、実施例１と同一の方法で粉末を製造し、その粒度分
布を調べた。その結果を図３（イ）に示す。
し、そして流量を１５０Ｌ／ｍｉｎとしたことを除い
て、実施例１と同一の方法で粉末を製造し、その粒度分
布を調べた。その結果を図３（イ）に示す。
【００４７】図３（イ）に示すように、流体の噴射圧力
が余り低い場合には、ＭＰＰコア用粉末として使用可能
な粒度分布を有する粉末を４０〜５０％しか得ることが
できなかった。
が余り低い場合には、ＭＰＰコア用粉末として使用可能
な粒度分布を有する粉末を４０〜５０％しか得ることが
できなかった。
【００４８】実施例６ 同一の成分の合金を用いて、実施例１に基づいて製造し
た粉末と従来の方法に基づいて破砕する工程を経て製造
した粉末を同一の条件でセラミックコーティングした
後、コア金型を用いて２００，０００ｐｓｉの成形圧で
成形した後、これらの成形密度を測定した。測定結果に
よれば、本発明により製造されたコア成形体の成形密度
は理論密度の９１％程度を得ることができたが、一方、
従来の方法により製造されたコア成形体の成形密度は理
論密度の８７％程度までしか得られなかった。
た粉末と従来の方法に基づいて破砕する工程を経て製造
した粉末を同一の条件でセラミックコーティングした
後、コア金型を用いて２００，０００ｐｓｉの成形圧で
成形した後、これらの成形密度を測定した。測定結果に
よれば、本発明により製造されたコア成形体の成形密度
は理論密度の９１％程度を得ることができたが、一方、
従来の方法により製造されたコア成形体の成形密度は理
論密度の８７％程度までしか得られなかった。
【００４９】したがって、本発明の場合には２００，０
００ｐｓｉ程度の低い成形圧においても高い成形密度を
得ることができるため、金型寿命を延長させ、セラミッ
クコーティング層の破損を低減することができる。
００ｐｓｉ程度の低い成形圧においても高い成形密度を
得ることができるため、金型寿命を延長させ、セラミッ
クコーティング層の破損を低減することができる。
【００５０】実施例７ 実施例１と同一の条件で製造した平均粒度が５０μｍの
粉末をセラミック混合機内においてセラミックコーティ
ングをした後、亜鉛−ステアリン酸を０．５％添加して
混合した。その後コア金型を用いて２４０，０００ｐｓ
ｉの成形圧で成形してコアを製造した。
粉末をセラミック混合機内においてセラミックコーティ
ングをした後、亜鉛−ステアリン酸を０．５％添加して
混合した。その後コア金型を用いて２４０，０００ｐｓ
ｉの成形圧で成形してコアを製造した。
【００５１】次に、上記コア成形体を水素雰囲気の下に
６７０℃温度で１時間１０分の間保持するアニーリング
処理を行った後、コア表面にエポキシ樹脂を１００μｍ
厚さでコーティングして、周波数に対するインダクタン
スの変化を測定した。その結果を図４に示す。
６７０℃温度で１時間１０分の間保持するアニーリング
処理を行った後、コア表面にエポキシ樹脂を１００μｍ
厚さでコーティングして、周波数に対するインダクタン
スの変化を測定した。その結果を図４に示す。
【００５２】図４には、本発明により製造した粉末と同
一の合金成分を有するが、従来の方法に基づき合金粉末
として破砕した粉末を用いて製造したＭＰＰコアにおけ
る周波数に対するインダクタンスの変化を測定した結果
もあわせて示している。
一の合金成分を有するが、従来の方法に基づき合金粉末
として破砕した粉末を用いて製造したＭＰＰコアにおけ
る周波数に対するインダクタンスの変化を測定した結果
もあわせて示している。
【００５３】図４に示すように、本発明によって製造し
たＭＰＰコアは従来の方法により製造したＭＰＰコアと
殆ど同等の水準の透磁率を有し、周波数特性においては
従来の方法により製造したものよりも優れていることが
分かるであろう。
たＭＰＰコアは従来の方法により製造したＭＰＰコアと
殆ど同等の水準の透磁率を有し、周波数特性においては
従来の方法により製造したものよりも優れていることが
分かるであろう。
【００５４】本発明により製造したＭＰＰコアが従来の
方法によって製造したものより周波数特性が優れている
のは、粉末の形態が鋭くないため粉末のセラミックコー
ティングが均一となり、更に、成形時にも均一なコーテ
ィング層を保つことができるからである。
方法によって製造したものより周波数特性が優れている
のは、粉末の形態が鋭くないため粉末のセラミックコー
ティングが均一となり、更に、成形時にも均一なコーテ
ィング層を保つことができるからである。
【００５５】
【発明の効果】上述のように、本発明は、流体噴射によ
り溶融物から直接ＭＰＰコア用粉末を製造することがで
きるから、粉末製造工程をより単純化することができ、
ひいては、作業性および生産性を顕著に向上させること
ができる。また、流体の噴射条件を適切に制御すること
により、多様なる粒度分布と球形または規則的な多角形
形態を有する粉末の製造が可能となるため、粉末製造収
率および成形密度を向上させるばかりでなく、ＭＰＰコ
アの周波数特性を顕著に向上させることができる。
り溶融物から直接ＭＰＰコア用粉末を製造することがで
きるから、粉末製造工程をより単純化することができ、
ひいては、作業性および生産性を顕著に向上させること
ができる。また、流体の噴射条件を適切に制御すること
により、多様なる粒度分布と球形または規則的な多角形
形態を有する粉末の製造が可能となるため、粉末製造収
率および成形密度を向上させるばかりでなく、ＭＰＰコ
アの周波数特性を顕著に向上させることができる。
【図１】本発明によりＭＰＰコアを製造する工程図であ
る。
る。
【図２】図２（ア）および（イ）はＮ2 ガスを溶融物に
噴射させて製造した粉末の粒度分布図である。
噴射させて製造した粉末の粒度分布図である。
【図３】図３（ア）および（イ）は水を溶融物に噴射さ
せて製造した粉末の粒度分布図である。
せて製造した粉末の粒度分布図である。
【図４】本発明により製造したＭＰＰコアと従来の方法
により製造したＭＰＰコアにおける周波数に対するイン
ダクタンスの変化を示すグラフである。
により製造したＭＰＰコアにおける周波数に対するイン
ダクタンスの変化を示すグラフである。
【図５】従来の方法によりＭＰＰコアを製造する工程図
である。
である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２２Ｃ 27/04 １０２ Ｃ２２Ｃ 27/04 １０２ Ｈ０１Ｆ 1/20 Ｈ０１Ｆ 41/02 Ｄ 41/02 1/20
Claims (7)
- 【請求項１】 Ｎｉを溶解後、このＮｉ溶融物に、Ｆ
ｅ：４０〜７０ｗｔ％およびＭｏ：６０〜３０ｗｔ％か
らなるＦｅ−Ｍｏ合金およびＦｅを添加し溶解して、Ｍ
ｏ：１．６〜４．０ｗｔ％、Ｎｉ：７８〜８３ｗｔ％、
および残部Ｆｅからなる溶融物を製造する段階と、 該製造された溶融物を合金化処理する段階と、 該合金化処理された溶融物の流れに、８００〜３０００
ｐｓｉの噴射圧力及び１１０〜３８０Ｌ／ｍｉｎの噴射
流量で水を噴射することによって、−１００〜＋２３０
ｍｅｓｈ通過分：１０〜１５ｗｔ％、−２３０〜＋３２
５ｍｅｓｈ通過分：２５〜３５ｗｔ％、および−３２５
ｍｅｓｈ通過分：４５〜６５ｗｔ％の粒度分布で、規則
的な多角形形態および不規則的な原子配列を有する粉末
を製造する段階と、 該製造された粉末を酸素の含量が２００ｐｐｍ以下とな
るように、７００℃〜８００℃の温度範囲において、還
元処理する段階とを含むＭＰＰコア用粉末の製造方法。 - 【請求項２】 Ｎｉを溶解後、このＮｉ溶融物に、Ｆ
ｅ：４０〜７０ｗｔ％およびＭｏ：６０〜３０ｗｔ％か
らなるＦｅ−Ｍｏ合金およびＦｅを添加し溶解して、Ｍ
ｏ：１．６〜４．０ｗｔ％、Ｎｉ：７８〜８３ｗｔ％、
および残部Ｆｅからなる溶融物を製造する段階と、 該製造された溶融物を合金化処理する段階と、 該合金化処理された溶融物の流れに、５０〜１２００ｐ
ｓｉの噴射圧力及び１〜１４ｍ3／ｍｉｎの噴射流量で
不活性ガス又は窒素ガスを噴射することにより、−１０
０〜＋２３０ｍｅｓｈ通過分：１０〜１５ｗｔ％、−２
３０〜＋３２５ｍｅｓｈ通過分：２５〜３５ｗｔ％、お
よび−３２５ｍｅｓｈ通過分：４５〜６５ｗｔ％の粒度
分布で、球形形態および不規則的な原子配列を有する粉
末を製造する段階とを含むＭＰＰコア用粉末の製造方
法。 - 【請求項３】 Ｎｉの融解温度は、１６００〜１６５０
℃であり、 Ｆｅ−Ｍｏ合金およびＦｅの溶解温度は、１６５０〜１
７００℃であり、 合金化温度は、１７００〜１７５０℃であることを特徴
とする請求項１又は請求項２に記載のＭＰＰコア用粉末
の製造方法。 - 【請求項４】 Ｎｉの融解時間、Ｆｅ−Ｍｏ合金および
Ｆｅの溶解時間並びに合金化時間が各々１時間以上であ
ることを特徴とする請求項３に記載のＭＰＰコア用粉末
の製造方法。 - 【請求項５】 −１００〜＋２３０ｍｅｓｈ通過分の平
均粒径は９０μｍであり、 −２３０〜＋３２５ｍｅｓｈ通過分の平均粒径は７０μ
ｍであり、 −３２５ｍｅｓｈ通過分の平均粒径は４５μｍであるこ
とを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のＭＰＰコ
ア用粉末の製造方法。 - 【請求項６】 Ｎｉを溶解後、このＮｉ溶融物に、Ｆ
ｅ：４０〜７０ｗｔ％およびＭｏ：６０〜３０ｗｔ％か
らなるＦｅ−Ｍｏ合金およびＦｅを添加し溶解して、Ｍ
ｏ：１．６〜４．０ｗｔ％、Ｎｉ：７８〜８３ｗｔ％、
および残部Ｆｅからなる溶融物を製造する段階と、 該製造される溶融物を合金化処理する段階と、 該合金化処理された溶融物の流れに、８００〜３０００
ｐｓｉの噴射圧力及び１１０〜３８０Ｌ／ｍｉｎの噴射
流量で水を噴射することにより、−１００〜＋２３０ｍ
ｅｓｈ通過分：１０〜１５ｗｔ％、−２３０〜＋３２５
ｍｅｓｈ通過分：２５〜３５ｗｔ％、および−３２５ｍ
ｅｓｈ通過分：４５〜６５ｗｔ％の粒度分布で、規則的
な多角形形態および不規則的な原子配列を有する粉末を
製造する段階と、 該製造された粉末を酸素の含量が２００ｐｐｍ以下とな
るように、７００℃〜８００℃の温度範囲において、還
元処理する段階と該製造された粉末をセラミックコーテ
ィングした後、コアを成形する段階と、該成形されたコ
アをアニーリング処理した後、磁気特性をチェックした
コアをコーティングする段階とを含むことを特徴とする
ＭＰＰコアの製造方法。 - 【請求項７】 Ｎｉを溶解後、このＮｉ溶融物に、Ｆ
ｅ：４０〜７０ｗｔ％およびＭｏ：６０〜３０ｗｔ％か
らなるＦｅ−Ｍｏ合金およびＦｅを添加し溶解して、Ｍ
ｏ：１．６〜４．０ｗｔ％、Ｎｉ：７８〜８３ｗｔ％、
および残部Ｆｅからなる溶融物を製造する段階と、 該製造された溶融物を合金化処理する段階と、 該合金化処理された溶融物の流れに、５０〜１２００ｐ
ｓｉの噴射圧力及び１〜１４ｍ3／ｍｉｎの噴射流量で
不活性ガス又は窒素ガスを噴射することにより、−１０
０〜＋２３０ｍｅｓｈ通過分：１０〜１５ｗｔ％、−２
３０〜＋３２５ｍｅｓｈ通過分：２５〜３５ｗｔ％、お
よび−３２５ｍｅｓｈ通過分：４５〜６５ｗｔ％の粒度
分布で、球形形態および不規則的な原子配列を有する粉
末を製造する段階と、 該製造された粉末をセラミックコーティングした後、コ
アを成形する段階と、該成形したコアをアニーリング処
理した後、磁気特性をチェックしたコアをコーティング
する段階とを含むことを特徴とするＭＰＰコアの製造方
法。
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