JP2595993B2 - Apparatus and method for producing original plate for exposure - Google Patents

Apparatus and method for producing original plate for exposure

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JP2595993B2
JP2595993B2 JP25580287A JP25580287A JP2595993B2 JP 2595993 B2 JP2595993 B2 JP 2595993B2 JP 25580287 A JP25580287 A JP 25580287A JP 25580287 A JP25580287 A JP 25580287A JP 2595993 B2 JP2595993 B2 JP 2595993B2
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【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、防塵膜(ペリクル)付きのフレームをフォ
トマスクやレチクルに自動的に貼付ける装置に関する。
The present invention relates to an apparatus for automatically attaching a frame with a dust-proof film (pellicle) to a photomask or a reticle.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

近年、半導体素子の製造においては、IC等の回路構造
は増々微細化、高密度化が進み、回路の線幅ルールも1
μm以下になってきた。半導体製造は古くからゴミ(微
小なダスト等)との戦いであるとされている程、製造ラ
インのクリーン度が要求されている。そのため、フォト
リソグラフィ工程で使われるフォトマスク又はレチクル
の保管、管理は極めてやっかいなものであった。そこで
フォトマスクやレチクルのパターン領域に異物が付着す
るのを防止するために、マスクやレチクルほ表面から一
定間隔(5〜7mm程度)のところに光学的に安定した透
明な高分子薄膜(ペリクル)を張設する手法が採用され
てきた。ペリクルはマスクやレチクルの形状に合わせた
円形又は矩形の厚さ5〜7mm程度のフレームの一面に均
一に張設され、フレームの反対の面には粘着性の層が設
けられている。このペリクル付フレームをレチクルに取
り付けるには、人手によってレチクルのパターン領域と
フレーム外形とを合わせた後、フレームの粘着層でレチ
クルに固定していた。
In recent years, in the manufacture of semiconductor devices, circuit structures such as ICs have been increasingly miniaturized and densified, and the line width rules of the circuits have also become one.
μm or less. Semiconductor manufacturing has long been regarded as a battle against dust (fine dust and the like), and the cleanliness of the manufacturing line is required. Therefore, storage and management of a photomask or a reticle used in a photolithography process are extremely troublesome. In order to prevent foreign matter from adhering to the pattern area of the photomask or reticle, an optically stable transparent polymer thin film (pellicle) is placed at a certain distance (about 5 to 7 mm) from the surface of the mask or reticle. Has been adopted. The pellicle is uniformly stretched on one surface of a frame having a thickness of about 5 to 7 mm in a circular or rectangular shape corresponding to the shape of a mask or a reticle, and an adhesive layer is provided on the opposite surface of the frame. In order to attach the pellicle-equipped frame to the reticle, the pattern area of the reticle and the outer shape of the frame were manually adjusted, and then fixed to the reticle with an adhesive layer of the frame.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

このように従来では、ペリクル付フレームのマスク又
はレチクルへの貼付けを人手で行なっているため、人体
から発生する微小異物がペリクル付フレームの内側に入
り込み、貼付け完了後にその微小異物がマスクやレチク
ルのパターン領域に落着するといった不都合が生じる。
As described above, in the related art, since the pellicle-attached frame is manually attached to the mask or reticle, minute foreign matter generated from the human body enters the inside of the pellicle-attached frame. Inconvenience such as settling in the pattern area occurs.

このような場合、落着した異物はマスクやレチクルの
使用時(露光転写時)の後に判明するため、半導体素子
の製造工程において多大な障害となっていた。
In such a case, the settled foreign substances are found after the use of the mask or the reticle (at the time of exposure transfer), which has been a great obstacle in the manufacturing process of the semiconductor element.

本発明はこのような問題点に鑑みてなされたもので、
ペリクル付フレームをレチクルやマスクに貼付ける際
に、異物の混入や付着を極力排除する構成をもった貼付
け装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of such problems,
An object of the present invention is to provide a sticking apparatus having a configuration for minimizing the entry and adhesion of foreign matter when sticking a frame with a pellicle to a reticle or mask.

[問題点を解決するための手段] 本発明において、フォトマスク又はレチクル等のマス
クに防塵のためのペリクル付フレームを貼付けて、露光
用原板を作成する露光用原板の作成装置において、ペリ
クル付フレームをほぼ密閉状態に収納するとともに、一
部が開閉可能な防塵ケースを保持するケース保持部と、
防塵ケースを開き、ペリクル付フレームを防塵ケースか
ら取り出すフレーム取り出し機構と、取り出されたペリ
クル付フレームを、マスクの所定位置に位置決めして貼
り付ける貼付け機構とを備えた また、本発明においては、フォトマスク又はレチクル
等のマスクに防塵のためのペリクル付フレームを貼付け
て、露光用原板を作成する露光用原板の作成装置におい
て、ペリクル付フレームをほぼ密閉状態に収納するとと
もに、一部が開閉可能な防塵ケースを保持するケース保
持部と、防塵ケースを開き、ペリクル付フレームを防塵
ケースから取り出すフレーム取り出し機構と、取り出さ
れた前記ペリクル付フレームを、マスクの所定位置に位
置決めして貼り付ける貼付け機構と、マスク上の異物の
有無を光学的に検査する異物検査装置とを備え、異物検
査装置は、ペリクル付フレームが貼り付けされる前と後
との少なくとも一方でマスクを検査することを特徴とす
る。
[Means for Solving the Problems] In the present invention, a frame with a pellicle is provided in an apparatus for producing an original plate for exposure, in which a frame with a pellicle for dust prevention is attached to a mask such as a photomask or a reticle to produce an original plate for exposure. And a case holding portion that holds a dustproof case that can be partially opened and closed,
The dustproof case is opened, and a frame take-out mechanism for taking out the frame with a pellicle from the dustproof case, and a sticking mechanism for positioning and taking out the taken-out frame with a pellicle at a predetermined position of a mask are provided. Attach a frame with a pellicle for dust prevention to a mask such as a mask or a reticle, and in a device for producing an original plate for exposure for creating an original plate for exposure, while accommodating the frame with a pellicle in a substantially sealed state and partially opening and closing. A case holding unit that holds the dustproof case, a frame takeout mechanism that opens the dustproof case and removes the pellicle-equipped frame from the dustproof case, and a sticking mechanism that positions the taken-out pellicle-equipped frame at a predetermined position of a mask and sticks the frame. And a foreign matter inspection device that optically inspects for the presence of foreign matter on the mask. The foreign matter inspection apparatus is characterized in that the mask is inspected at least one of before and after the pellicle-equipped frame is attached.

また、本発明では、フォトマスク又はレチクル等のマ
スクに防塵のためのペリクル付フレームを貼付けて、露
光用の原板を作成する露光用原板作成方法において、ペ
リクル付フレームをマスクに貼り付ける前にマスク上の
異物の有無を光学的に検査する工程と、検査する工程で
検査した結果、露光に障害とならないとなったマスクに
ペリクル付フレームを貼り付ける行程とを有することを
特徴とする。
Further, in the present invention, in a method for producing an original plate for exposure, in which a frame with a pellicle for dust prevention is attached to a mask such as a photomask or a reticle to create an original plate for exposure, the mask is attached before attaching the frame with a pellicle to the mask. It is characterized by having a step of optically inspecting the presence of the above foreign matter, and a step of attaching the pellicle-equipped frame to a mask which does not interfere with exposure as a result of the inspection.

〔作 用〕 従来の貼付作業ではペリクル付フレームを人手で直接
触れていたため、ゴミの付着はさけられなかった。そこ
で本発明では、異物(ゴミ)の付着のないペリクル付フ
レームを防塵ケースに収納したまま使用場所に持ち込
み、人手によって防塵ケースを開封することなく、自動
貼付け装置にセットする。自動貼付け装置内部では防塵
ケースから自動的にペリクル付フレームを取り出し、こ
のフレームは同様に防塵状態でセットされたマスク又は
レチクルに位置決めして貼付けられる。このようにペリ
クル付フレームとマスク又はレチクルは貼り合わせの直
前にケースから取り出されるため、ゴミの付着を最小限
に押えることが可能である。
[Operation] In the pasting work, the frame with the pellicle was directly touched by hand, so that adhesion of dust was not avoided. Therefore, in the present invention, a frame with a pellicle to which no foreign matter (dust) adheres is carried to a place of use while being stored in a dustproof case, and set in an automatic attaching device without manually opening the dustproof case. Inside the automatic sticking apparatus, the frame with the pellicle is automatically taken out of the dustproof case, and this frame is similarly positioned and attached to a mask or reticle set in a dustproof state. As described above, since the frame with the pellicle and the mask or the reticle are taken out of the case immediately before bonding, it is possible to minimize the adhesion of dust.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は本発明の実施例によるペリクル自動貼付け装
置の概略的な内部構成を上面よりみた図である。本実施
例の装置には、ペリクル貼付け装置本体1とレチクク、
又はペリクル付レチクルに付着した異物を検査する検査
装置本体2とが一本に設けられている。両装置本体1、
2とも内部は適当なクリーン度が保たれるようにほぼ密
閉され、空調される。
FIG. 1 is a top view of a schematic internal configuration of an automatic pellicle sticking apparatus according to an embodiment of the present invention. The apparatus of this embodiment includes a pellicle sticking apparatus main body 1 and a reticle,
Alternatively, the inspection apparatus main body 2 for inspecting foreign matter attached to the reticle with a pellicle is provided as a single unit. Both device bodies 1,
In both cases, the inside is substantially sealed and air-conditioned so that an appropriate degree of cleanness is maintained.

さて、装置本体1の正面側には、ペリクル付フレーム
を1個ずつ密閉状態で収納したフレームケースの複数を
セットするためのケースストック部3と、レチクルを1
枚ずつ密閉状態で収納した公知のレチクルケースの複数
をセットするための基板ストック部4とが設けられてい
る。この基板ストック部4とレチクルケースの構成は、
例えば特開昭57−64928号公報に開示されているものが
そのまま採用できる。
On the front side of the apparatus main body 1, a case stock unit 3 for setting a plurality of frame cases each containing a frame with a pellicle in a sealed state one by one, and a reticle 1 are provided.
A substrate stock unit 4 for setting a plurality of known reticle cases housed in a sealed state one by one is provided. The configurations of the substrate stock unit 4 and the reticle case are as follows.
For example, the one disclosed in JP-A-57-64928 can be employed as it is.

一方、ケースストック部3にセットされるフレームケ
ースは、第2図のような構造を有し、ペリクル付フレー
ム16を載置するトレイ部14と、トレイ部14を上からふさ
ぐ蓋部15とで構成される。第2図(A)はトレイ部14の
内側を上面からみたもので、ペリクル付フレーム16がケ
ース内部で位置ずれをおこさないように、4辺の夫々に
対応してリブ14aが設けられている。このリブ14aはケー
ス(トレイ部)外形に対して所定の位置精度で設けら
れ、ペリクル付フレーム16を取り出すときの搬送アーム
等との位置合わせを容易にしている。第2図(B)はト
レイ部14の上に蓋部15をして密閉した場合の断面を示
し、リブ14aはペリクル付フレーム16の高さ(厚さ)よ
りも低くなるように定められる。
On the other hand, the frame case set in the case stock unit 3 has a structure as shown in FIG. 2 and includes a tray unit 14 on which a frame 16 with a pellicle is placed and a lid unit 15 which covers the tray unit 14 from above. Be composed. FIG. 2A shows the inside of the tray section 14 as viewed from above, and ribs 14a are provided corresponding to each of the four sides so that the frame 16 with a pellicle does not shift inside the case. . The rib 14a is provided with a predetermined positional accuracy with respect to the outer shape of the case (tray portion), and facilitates alignment with a transfer arm or the like when taking out the frame 16 with a pellicle. FIG. 2 (B) shows a cross section when the lid portion 15 is closed on the tray portion 14, and the rib 14a is set to be lower than the height (thickness) of the frame 16 with a pellicle.

さらにトレイ部14の下面には、第2図(B)、(C)
に示すように2本の平行なリブ14bが設けられている。
本実施例では、2本のリブ14bの間隔はペリクル付フレ
ーム16の外形幅よりも大きくなるように定められてい
る。このリブ14bは、貼付け装置本体1内にフレームケ
ースを自動搬送するときのハンドリングのために設けら
れている。尚、第2図(A)、(B)に示すように、ケ
ース内のフレーム16の左右には所定の空間がとられる
が、これはケース16を搬送するためのアーム等が進入す
る際のにげである。
Further, on the lower surface of the tray section 14, FIGS.
2, two parallel ribs 14b are provided.
In the present embodiment, the interval between the two ribs 14b is set to be larger than the outer width of the frame 16 with a pellicle. The rib 14b is provided for handling when the frame case is automatically conveyed into the bonding apparatus main body 1. As shown in FIGS. 2 (A) and 2 (B), a predetermined space is provided on the left and right sides of the frame 16 in the case, and this space is used when an arm or the like for transporting the case 16 enters. Nake.

第3図は、自動搬送に適したペリクル付フレーム16の
具体的な構造の一例を示したもので、第3図(A)は正
面図、第3図(B)は側面図である。ペリクル付フレー
ム16はほぼ矩形の枠部16aで構成され、枠部16aの互いに
平行な2辺の角部分(4ケ所)には、第3図(A)のよ
うに円すい形の凹部16bが設けられる。この4隅の凹部1
6bは、搬送用のアーム等によって挾持する際の位置決
め、及びすべり止めの機能をもたせるためのものであ
る。またペリクル付フレーム16のレチクルとの貼付け面
には、第3図(B)に示すように、粘着性の接着層30が
形成され、さらに接着層30を保護するために、枠部16a
の外形と同一形状の保護シート材17が密着されている。
この保護シート材17は、フレーム16をレチクルに貼付け
る直前に、第3図(A)に示すようにシート材17の一部
の枠16aの外形よりも突出させた部分17aをつかんではが
される。
FIG. 3 shows an example of a specific structure of the frame 16 with a pellicle suitable for automatic conveyance. FIG. 3 (A) is a front view, and FIG. 3 (B) is a side view. The frame 16 with a pellicle is constituted by a substantially rectangular frame portion 16a, and conical concave portions 16b are provided at two corners (four places) of the frame portion 16a parallel to each other as shown in FIG. 3 (A). Can be These four corner recesses 1
The reference numeral 6b is used to provide a function of positioning when holding by a transfer arm or the like and a function of preventing slipping. As shown in FIG. 3 (B), an adhesive adhesive layer 30 is formed on the surface of the frame 16 with a pellicle to be attached to the reticle, and the frame 16a is further protected by the adhesive layer 30.
A protective sheet material 17 having the same shape as that of the outer shape is adhered.
Immediately before attaching the frame 16 to the reticle, the protective sheet material 17 is peeled off by gripping a portion 17a of the sheet material 17 that protrudes beyond the outer shape of a part of the frame 16a as shown in FIG. You.

さて、このようなペリクル付フレーム16を収納したフ
レームケース(14、15)は、第1図中のケースストック
部3に、第4図に示すように、ほぼ水平状態で積み重ね
るような配置でセットされる。第4図はケースストック
部3を装置本体1の正面側からみた図で、ストック部3
にはフレームケース(14、15)のトレイ部14の下面両脇
を保持する段部3aが設けられる。各フレームケース間に
は、搬送アーム進入のために所定の空間ができるように
各段部3aで支えられる。
Now, the frame cases (14, 15) accommodating such a frame 16 with a pellicle are set on the case stock portion 3 in FIG. 1 in such a manner as to be stacked substantially horizontally as shown in FIG. Is done. FIG. 4 is a view of the case stock unit 3 as viewed from the front side of the apparatus main body 1.
Is provided with a step portion 3a for holding both sides of the lower surface of the tray portion 14 of the frame cases (14, 15). Each step is supported by each step 3a so that a predetermined space is formed between the frame cases so as to enter the transfer arm.

ところで第1図において、上記フレームケース(14、
15)は、スライダー5aに沿ってy方向に移動する搬送ア
ーム5bにより、ケースストック部3から取り出され、組
立テーブル9に運ばれる。組立テーブル9は上段テーブ
ルと下段テーブルとの2段構造になっており、第1図中
の位置AからA′までの間をy方向に直進移動可能に設
けられている。搬送アーム5bによって運ばれたフレーム
ケース(14、15)は位置Aで組立テーブル9の下段テー
ブルに載置される。組立テーブル9が位置A′まで移動
すると、フレームケース(14、15)は蓋開閉手段10の吸
着パッド下方に位置する。蓋開閉手段10はフレームケー
ス(14、15)の蓋部15を吸着パッドで真空吸着し、蓋部
15を上方に持ち上げる。これによりフレームケースが開
かれることになる。
By the way, in FIG. 1, the frame case (14,
15) is taken out of the case stock unit 3 by the transfer arm 5b that moves in the y direction along the slider 5a, and is carried to the assembly table 9. The assembling table 9 has a two-stage structure of an upper table and a lower table, and is provided so as to be able to linearly move in the y direction between positions A to A 'in FIG. The frame cases (14, 15) carried by the transfer arm 5b are mounted on the lower table of the assembly table 9 at the position A. When the assembly table 9 moves to the position A ', the frame cases (14, 15) are located below the suction pad of the lid opening / closing means 10. The lid opening / closing means 10 vacuum-adsorbs the lid 15 of the frame case (14, 15) with a suction pad, and
Lift 15 up. This will open the frame case.

また搬送アーム5bの位置Aとケースストック部3の間
の搬送路の途中には、ペリクル付フレーム16の保護シー
ト材17の突出部分17aをつかむ機構12が設けられる。
In the middle of the transport path between the position A of the transport arm 5b and the case stock unit 3, a mechanism 12 for holding the protruding portion 17a of the protective sheet material 17 of the frame 16 with a pellicle is provided.

一方、基板ストック部4には、レチクルを収納したケ
ースが装着され、スライダー6aに沿ってy方向に移動す
る搬送アーム6bにより、ケース内のレチクルが取り出さ
れ、水平状態で装置の奥の方へ運ばれる。搬送アーム7b
はスライダー7aに沿ってx方向に移動し、搬送アーム6b
との間でのレチクルの受渡し位置と位置Aとの間で往復
できるように構成される。
On the other hand, a case containing a reticle is mounted on the substrate stock unit 4, and the reticle in the case is taken out by the transfer arm 6b moving in the y-direction along the slider 6a. Carried. Transfer arm 7b
Moves in the x direction along the slider 7a, and the transfer arm 6b
Is configured to be able to reciprocate between a position A and a reticle delivery position between the reticle and the position A.

従って搬送アーム7bは、搬送アーム6bからレチクルを
受け取り、組立テーブル9の上段テーブルまで運ぶこと
ができる。
Therefore, the transfer arm 7b can receive the reticle from the transfer arm 6b and can transfer it to the upper table of the assembly table 9.

組立テーブル9が位置Aにあるとき、ペリクル付フレ
ーム16がレチクルに貼付けられ、その後組立テーブル9
は位置A′をへて位置A″に移動する。位置A″でペリ
クルフレーム16の貼られたレチクルの上方(又は下方)
には、ペリクルフレーム16とレチクルとを均等に圧着さ
せるための加圧機構11が設けられている。加圧機構11の
加圧部材はペリクル付フレーム16の枠部16aの上端面
(又は下端面)のみに当接するように設けられている。
When the assembling table 9 is at the position A, the frame 16 with a pellicle is attached to a reticle.
Moves from position A 'to position A ". At position A" above (or below) the reticle to which the pellicle frame 16 is attached.
Is provided with a pressing mechanism 11 for evenly pressing the pellicle frame 16 and the reticle. The pressing member of the pressing mechanism 11 is provided so as to contact only the upper end surface (or lower end surface) of the frame portion 16a of the frame 16 with a pellicle.

以上、第1図において3つの搬送アーム5b、6b、7bは
ともに上下方向(Z方向)に移動可能に設けられてい
る。また搬送アーム6b、7bはレチクルの周辺を保持する
コの字状の簡単なアームでよいが、搬送アーム5bはペリ
クル付フレーム16の搬送とフレームケース(14、15)の
搬送とを兼ねるため特別な構造になっている。そこで以
下に搬送アーム5bの詳細な構造とその他主要部分の詳細
な構造を順次説明する。
As described above, in FIG. 1, the three transfer arms 5b, 6b, and 7b are all provided so as to be movable in the vertical direction (Z direction). The transfer arms 6b and 7b may be simple U-shaped arms that hold the periphery of the reticle, but the transfer arm 5b is special because it transfers the frame 16 with pellicle and the frame cases (14 and 15). It has a simple structure. Therefore, a detailed structure of the transfer arm 5b and a detailed structure of other main parts will be sequentially described below.

第5図は搬送アーム5bの構造を示す平面図であり、ア
ーム部全体はスライダー5aに沿ってy方向に移動するア
ーム支持体50aに設けられる。そしてアーム部全体は、
アーム支持体50aに固定されたDCモータ22とベルト駆動
とにより、y方向に伸びた中心軸lの回りを矢印Cの如
く180゜以上に渡って回転可能に構成される。2本のL
字状のアーム指24は互いに対向するように設けられ、ス
ライドガイド1に沿って図中の矢印B方向(x方向)に
中心軸lに関する対称性を保って直進移動可能である。
2本の平行なアーム指24の開閉運動はDCモータ23とカム
機構18とによって行なわれる。両アーム指24の中心軸l
に向う側には、ペリクル付フレーム16の凹部16bに係合
する円すい状の凸部21が、凹部16bの各位置に対応して
形成されている。さらに両アーム指24の外側にはフレー
ムケース(14、15)の下面のリブ14bの係合し得るよう
に突出した部材20が2ケ所に設けられている。この部材
20によってフレームケースのハンドリングを確実なもの
にする。このように搬送アーム部5bは、フレームケース
(14、15)の搬送とフレーム16の搬送とを兼用するもの
であり、さらにアーム指24が180゜以上回転することか
ら、挾持したペリクル付フレーム16の接着層30を下向き
又は上向きの任意の向きにすることができ、ペリクルフ
レーム16の片面貼り、両面貼りのいずれの場合にも対応
できる。尚、搬送アーム5bは、アーム支持体50aを含め
て第5図に示した全体が上下動する。
FIG. 5 is a plan view showing the structure of the transfer arm 5b. The entire arm portion is provided on an arm support 50a that moves in the y direction along the slider 5a. And the whole arm part,
The DC motor 22 fixed to the arm support 50a and the belt drive are configured to be rotatable over a central axis l extending in the y direction over 180 ° or more as shown by an arrow C. Two L
The arm-shaped arms 24 are provided so as to face each other, and can move straight along the slide guide 1 in the direction of arrow B (x direction) in the figure while maintaining symmetry with respect to the center axis l.
The opening and closing movement of the two parallel arm fingers 24 is performed by the DC motor 23 and the cam mechanism 18. Center axis l of both arm fingers 24
On the side facing the side, a conical convex portion 21 engaging with the concave portion 16b of the frame 16 with a pellicle is formed corresponding to each position of the concave portion 16b. Further, outside the both arm fingers 24, there are provided two members 20 protruding so that the ribs 14b on the lower surface of the frame case (14, 15) can be engaged. This member
20 ensures the handling of the frame case. As described above, the transfer arm portion 5b is used for both the transfer of the frame cases (14, 15) and the transfer of the frame 16, and since the arm fingers 24 are rotated by 180 ° or more, the held frame 16 with the pellicle is held. The adhesive layer 30 can be oriented downward or upward in any direction, and can be applied to either single-sided or double-sided attachment of the pellicle frame 16. The transfer arm 5b, including the arm support 50a, moves up and down as shown in FIG.

第6図は組立テーブル9の全体的な形状を示す斜視図
であり、レチクルが載置される上段テーブル9a、フレー
ムケース(14、15)が載置される下段テーブル9b、及び
移動のためのレールに全体を載せるための底部9cとが所
定の空間をもって上下に配置されている。ただし上段テ
ーブル9a、下段テーブル9bの中央部は想像線で示すよう
に切り取られており、搬送アーム5b(アーム指24)が自
由に上下動できるようなスペースが確保されている。
FIG. 6 is a perspective view showing the overall shape of the assembling table 9, and includes an upper table 9a on which a reticle is mounted, a lower table 9b on which frame cases (14, 15) are mounted, and a moving table for movement. A bottom portion 9c for mounting the entirety on the rail is vertically arranged with a predetermined space. However, the central portions of the upper table 9a and the lower table 9b are cut off as indicated by imaginary lines, and a space is secured so that the transfer arm 5b (arm finger 24) can freely move up and down.

第7図は機構12の付近を装置正面側からみた図であ
り、搬送アーム5bのアーム指24はペリクル付フレーム16
を水平に挾持している。この際アーム指24の下面はフレ
ーム16の下面(シート材17)よりも上下に位置するよう
に定められている。搬送アーム5bがy方向の所定位置に
くると、つかみ機構12のトグル回転部12aが直立し、回
転部12aの先端に設けられたつかみ部12bが保護シート材
17の突出部17aを上下にはさみ込む。この後、第5図に
示したDCモータ22が駆動され、アーム指24の全体が第7
図の矢印Eのように回転し、保護シート材17が接着層30
からひきはがされる。はがされたシート材17は不図示の
廃棄箱に落下される。
FIG. 7 is a view of the vicinity of the mechanism 12 as seen from the front side of the apparatus.
Is held horizontally. At this time, the lower surface of the arm finger 24 is determined to be located above and below the lower surface of the frame 16 (the sheet material 17). When the transfer arm 5b comes to a predetermined position in the y direction, the toggle rotating part 12a of the gripping mechanism 12 stands upright, and the gripping part 12b provided at the tip of the rotating part 12a is used as a protective sheet material.
The protrusions 17a of the 17 are inserted vertically. Thereafter, the DC motor 22 shown in FIG. 5 is driven, and the entire arm finger 24 is moved to the seventh position.
The protective sheet material 17 is rotated as shown by arrow E in the figure, and
Is torn off. The peeled sheet material 17 is dropped into a waste box (not shown).

第8図は加圧機構11の構造の一例を示す斜視図であ
り、上下に配置された2枚の加圧プレート11a、11bは互
いに近づく方向と離れる方向とに可動し、加圧パット部
11cがペリクル付レチクルのフレーム16に上下から当接
し、レチクルの上下面に仮りに貼り付けられたフレーム
16を所定の圧力で密着させる。2枚の加圧プレート11
a、11bは、その間の空間に、上段テーブル9aに載置され
たペリクル付レチクルが運ばれてくるように配置されて
いる。
FIG. 8 is a perspective view showing an example of the structure of the pressurizing mechanism 11, in which two pressurizing plates 11a and 11b arranged vertically move in a direction approaching and away from each other, and
11c abuts reticle frame 16 with pellicle from above and below, and temporarily attaches to upper and lower surfaces of reticle
16 is brought into close contact with a predetermined pressure. Two pressure plates 11
The a and 11b are arranged so that the reticle with a pellicle mounted on the upper table 9a is carried into the space therebetween.

尚、組立テーブル9を第1図中の位置A″において上
下動するようにすれば、上側の加圧プレート11aは固定
したままでもよい。
Incidentally, if the assembly table 9 is moved up and down at the position A "in FIG. 1, the upper pressing plate 11a may be kept fixed.

ところで第1図において、貼付装置本体1の左側に
は、レチクルのガラス面やパターン面に付着した異物等
の欠陥を光学的に検査する異物検査装置本体2が接続さ
れている。基板ストック部4から搬送アーム6bでy方向
に運び出されたレチクル、又はフレーム16の貼付けが終
って搬送アーム7bでx方向に運ばれてくるペリクル付レ
チクルは、装置本体2のアーム8bに受け渡される。アー
ム8bはスライダー8aに沿ってx方向に水平移動し、検査
時の副走査を兼用して行なう。主走査はレーザビームの
スポットをレチクル表面上でy方向にスキャンすること
で行なわれる。尚、本実施例では、アーム8bと搬送アー
ム6bとの間ではレチクルの受け渡しが可能であるが、ア
ーム8bの搬送アーム7bとの間では受け渡しができない。
そのため搬送アーム7bで運ばれてくるペリクル付レチク
ルは一度搬送アーム6bに受け渡され、その後アーム7bに
受け渡されるように動作する。またアーム8bはレチクル
を装置本体2内に搬入する動作と検査時の副走査を兼ね
るため、上下動はしないような構成となっている。
In FIG. 1, a foreign matter inspection device main body 2 for optically inspecting a defect such as a foreign material attached to a glass surface or a pattern surface of a reticle is connected to the left side of the attaching device main body 1. The reticle carried out in the y-direction by the transfer arm 6b from the substrate stock unit 4 or the reticle with a pellicle carried in the x-direction by the transfer arm 7b after the attachment of the frame 16 is delivered to the arm 8b of the apparatus body 2. It is. The arm 8b moves horizontally in the x direction along the slider 8a, and performs the sub-scanning at the time of inspection. The main scanning is performed by scanning the spot of the laser beam on the reticle surface in the y direction. In this embodiment, the reticle can be transferred between the arm 8b and the transfer arm 6b, but cannot be transferred between the arm 8b and the transfer arm 7b.
For this reason, the reticle with a pellicle carried by the transfer arm 7b is once transferred to the transfer arm 6b, and then operated to be transferred to the arm 7b. The arm 8b does not move up and down because it performs both the operation of loading the reticle into the apparatus main body 2 and the sub-scanning during inspection.

次に本装置の全体的な動作を説明する。 Next, the overall operation of the present apparatus will be described.

まず、ペリクル付フレーム16の製造メーカーからは、
第2図に示すように、フレーム16をフレームケース(1
4、15)に収納した状態で供給される。オペレータはそ
の状態のフレームケース(14、15)を装置本体1のケー
スストック部3に第4図のようにセットする。ペリクル
を貼付けるべきレチクルは、公知のレチクルケースに収
納されたまま、基板ストック部4に装着される。
First, from the manufacturer of the frame 16 with pellicle,
As shown in FIG. 2, the frame 16 is
Supplied in 4 and 15). The operator sets the frame case (14, 15) in that state in the case stock unit 3 of the apparatus main body 1 as shown in FIG. The reticle to which the pellicle is to be attached is mounted on the substrate stock unit 4 while being housed in a known reticle case.

次に、搬送アーム5b(第5図)は2本のアーム指24を
所定の間隔に調整し、ケースストック部3内のフレーム
ケース(14、15)の下方空間に進入する。そして搬送ア
ーム5bをわずかに上方に移動させると、フレームケース
(14、15)はストック部3の段部3aからアーム指24の突
出部材20の上に受け渡される。さらに2本のアーム指24
がわずかに開かれ、突出部材20はフレームケース(14、
15)のトレイ部14の下面のリブ14bを内側からつかむ。
Next, the transfer arm 5b (FIG. 5) adjusts the two arm fingers 24 to a predetermined interval, and enters the space below the frame cases (14, 15) in the case stock unit 3. When the transfer arm 5b is moved slightly upward, the frame case (14, 15) is transferred from the step 3a of the stock portion 3 onto the projecting member 20 of the arm finger 24. Two more arm fingers 24
Is slightly opened, and the projecting member 20 is attached to the frame case (14,
15) Grab the rib 14b on the lower surface of the tray section 14 from inside.

次に搬送アーム5bはフレームケース(14、15)をスト
ック部3から引き出し、位置Aで待機している組立テー
ブル9(第6図)の下段テーブル9b上にフレームケース
を受け渡す。下段テーブル9bはフレームケースの下面を
真空吸着し、ずれないように固定する。その後、組立テ
ーブル9は位置A′に移動し、開閉機構10の吸着パッド
が組立テーブル9の上段テーブル9aの下方で、フレーム
ケースの上方の空間に進入する。吸着パッドはフレーム
ケースの蓋部15の上面を真空吸着し、そのままわずかに
上方に持ち上げる。これにより蓋部15とトレイ部14とが
分離され、吸着パッドに蓋部15を残したまま、組立テー
ブル9は位置A′から位置Aに戻る。
Next, the transfer arm 5b pulls out the frame case (14, 15) from the stock unit 3 and delivers the frame case to the lower table 9b of the assembly table 9 (FIG. 6) waiting at the position A. The lower table 9b vacuum-adsorbs the lower surface of the frame case and fixes it so as not to shift. Thereafter, the assembly table 9 moves to the position A ', and the suction pad of the opening / closing mechanism 10 enters the space above the frame case below the upper table 9a of the assembly table 9. The suction pad sucks the upper surface of the lid 15 of the frame case by vacuum and lifts it slightly upward. As a result, the lid 15 and the tray 14 are separated from each other, and the assembly table 9 returns from the position A 'to the position A while leaving the lid 15 on the suction pad.

次に、再び搬送アーム5bのアーム指24が位置Aにおい
てトレイ部14上のペリクル付フレーム16を、第7図のよ
うに挾持し、トレイ部14からわずかに持ち上げた後、つ
かみ機構12のところまで水平に移動する。そして、第7
図に示したようにつかみ部12bによってシート材17の突
出部分17aをつかみ、アーム指24はDCモータ22によって
回転する。これにより保護シート材17がはがされ、アー
ム指24は水平に戻される。
Next, the arm 16 of the transfer arm 5b again clamps the pellicle-equipped frame 16 on the tray portion 14 at the position A as shown in FIG. Move horizontally until: And the seventh
As shown in the figure, the projecting portion 17a of the sheet material 17 is grasped by the grasping portion 12b, and the arm finger 24 is rotated by the DC motor 22. As a result, the protective sheet material 17 is peeled off, and the arm finger 24 is returned to the horizontal position.

一方、基板ストック部4にセットされたレチクルケー
スからは、搬送アーム6bによってレチクルが取り出され
る。アーム6b上に真空吸着されたレチクルは、検査装置
本体2の搬送アーム8bに受け渡され、異物の付着の有
無、付着位置、異物の大きさ等が検査され、検査結果が
記憶される。この際、露光に障害となる異物が発見され
た場合は、そのレチクルを基板ストック部4の空のレチ
クルケースに戻し、洗浄等のメンテナンスが必要である
ことをオペレータに知らせ、他のレチクルケースから別
のレチクルを取り出す。
On the other hand, the reticle is taken out of the reticle case set in the substrate stock unit 4 by the transfer arm 6b. The reticle vacuum-adsorbed on the arm 6b is transferred to the transfer arm 8b of the inspection apparatus main body 2, where the presence or absence of foreign matter, the position of the foreign matter, the size of the foreign matter, and the like are inspected, and the inspection result is stored. At this time, if a foreign substance that interferes with the exposure is found, the reticle is returned to the empty reticle case of the substrate stock unit 4 and the operator is informed that maintenance such as cleaning is necessary, and the reticle is returned from another reticle case. Remove another reticle.

検査の結果問題がないときは、レチクルを搬送アーム
8bからアーム6bで受渡した後、搬送アーム7bに受け渡
す。アーム7bはレチクルを位置Aまで運び、組立テーブ
ル9の上段テーブル9aに受渡す。上段テーブル9aはレチ
クルを真空吸着により固定し、フレーム16を挾持したア
ーム5bは組立テーブル9の上方空間まで移動する。その
後、搬送アーム5bは所定量降下して、ペリクル付フレー
ム16の接着層30をレチクル上面に当接させる。
If there is no problem as a result of inspection, transfer the reticle to the transfer arm.
After the delivery from 8b by the arm 6b, it is delivered to the transfer arm 7b. The arm 7b carries the reticle to the position A and delivers it to the upper table 9a of the assembly table 9. The upper table 9a fixes the reticle by vacuum suction, and the arm 5b holding the frame 16 moves to the space above the assembly table 9. Thereafter, the transfer arm 5b is lowered by a predetermined amount to bring the adhesive layer 30 of the frame 16 with a pellicle into contact with the upper surface of the reticle.

このときレチクルに不要な応力を加えないように、上
段テーブル9aはレチクルを弾性体(板バネ等)を介して
保持している。従ってアーム5bが降下して、フレーム16
がレチクルに当接した後は、レチクルがわずかに下方に
逃げられるような構造となっている。
At this time, the upper table 9a holds the reticle via an elastic body (such as a leaf spring) so as not to apply unnecessary stress to the reticle. Therefore, the arm 5b descends and the frame 16
After contacting the reticle, the reticle can escape slightly downward.

次に組立テーブル9は位置Aから位置A′まで移動
し、開閉機構10の吸着パッドに保持されている蓋部15
を、空になったトレイ部14に重ね合わせる。そして再び
組立テーブル9は位置Aに戻され、搬送アーム5bが空に
なったフレームケース(14、15)の下方空間に進入さ
れ、空のフレームケースを受け取り、ケースストック部
3に戻す。
Next, the assembly table 9 moves from the position A to the position A ', and the lid 15 held by the suction pad of the opening / closing mechanism 10 is moved.
On the empty tray section 14. Then, the assembly table 9 is returned to the position A again, and the transport arm 5b enters the space below the empty frame cases (14, 15), receives the empty frame case, and returns it to the case stock unit 3.

次に搬送アーム5bはレチクル下面用のペリクル付フレ
ーム16を、別のフレームケース(14、15)から取り出
す。このシーケンスは、先の蓋部15の開放、シート材17
のはがしと全く同様に行なわれ、異なる点は、このシー
ケンスの間、上段テーブル9a上には上面にペリクル付フ
レーム16が貼られたレチクルが載置されていることであ
る。こうして2つ目のフレーム16が搬送アーム5bに挾持
されたら、アーム指24はモータ22により回転され、フレ
ーム16の接着層30が上方に向くように反転される。その
後、このフレーム16は位置Aにある上段テーブル9aの下
方空間に進入され、搬送アーム5bはわずかに上方にフレ
ーム16を上昇させ、接着層30をレチクル下面に当接させ
る。これによりレチクルの上下面の両方にペリクル付フ
レーム16が貼られたことになる。通常、上下面のフレー
ムは、寸法が同じものを上下に重ね合わせるように貼付
けられ、フレームの外形はレチクル外周よりも小さくな
るように決められている。
Next, the transfer arm 5b takes out the frame 16 with a pellicle for the lower surface of the reticle from another frame case (14, 15). In this sequence, the lid 15 is opened, the sheet material 17 is opened.
The peeling is performed in exactly the same way as the peeling, except that during this sequence, a reticle having a frame 16 with a pellicle mounted thereon is placed on the upper table 9a. When the second frame 16 is clamped by the transfer arm 5b in this manner, the arm fingers 24 are rotated by the motor 22, and the arm fingers 24 are inverted so that the adhesive layer 30 of the frame 16 faces upward. Thereafter, the frame 16 enters the space below the upper table 9a at the position A, and the transfer arm 5b raises the frame 16 slightly upward to bring the adhesive layer 30 into contact with the lower surface of the reticle. This means that the pellicle-equipped frame 16 has been attached to both the upper and lower surfaces of the reticle. Normally, the upper and lower frames are stuck so as to overlap one another with the same dimensions, and the outer shape of the frame is determined to be smaller than the outer periphery of the reticle.

さて、次に組立テーブル9は位置Aから位置A′をへ
て位置A″に移動し、加圧機構11(第8図)により上下
面のペリクル付フレーム16を所定の圧力で上下に京挾み
込む。そして、加圧が終ると組立テーブル9は位置A′
をへて位置Aにもどる。このとき位置A′において、開
閉機構10の吸着パッドに保持されている蓋部15を、下段
テーブル9bに載置されているトレイ部14の上に重ね合わ
せるように、吸着パッドを降下させる。従って、位置A
に戻った組立テーブル2の上段テーブル9aには、ペリク
ル付フレームの両面貼付けが完了したレチクルが載置さ
れ、下段テーブル9bには空のフレームケース(14、15)
が載置されている。こうして下段の空のフレームケース
(14、15)は搬送アーム5bによりケースストック部3に
戻され、上段のペリクル付レチクルは搬送アーム7b、搬
送アーム6bを介して搬送アーム8bに受け渡され、異物の
検査が行なわれる。異物検査は、この場合、上下面のペ
リクルを介して行なうことになるので、裸のレチクルの
検査の場合に対して検出感度(特に異物の大きさ)を補
正しておくとよい。
Next, the assembling table 9 is moved from position A to position A "from position A ', and the pellicle-equipped frame 16 on the upper and lower surfaces is vertically held by the pressing mechanism 11 (FIG. 8) at a predetermined pressure. When the pressing is completed, the assembly table 9 is moved to the position A '.
And return to position A. At this time, at the position A ', the suction pad is lowered so that the lid 15 held by the suction pad of the opening / closing mechanism 10 is overlapped on the tray section 14 placed on the lower table 9b. Therefore, position A
The reticle on which both sides of the frame with the pellicle are completed is placed on the upper table 9a of the assembling table 2 and the empty frame case (14, 15) is placed on the lower table 9b.
Is placed. In this way, the lower empty frame cases (14, 15) are returned to the case stock unit 3 by the transfer arm 5b, and the reticle with a pellicle at the upper stage is transferred to the transfer arm 8b via the transfer arm 7b and the transfer arm 6b. Inspection is performed. In this case, the foreign substance inspection is performed through the pellicles on the upper and lower surfaces, so that the detection sensitivity (particularly, the size of the foreign substance) should be corrected in the case of the inspection of the naked reticle.

また必要に応じて、先に記憶した裸のレチクルの検査
結果と照合して、適切にペリクル付フレームが貼付けら
れたか否かを判定する。
Further, if necessary, it is compared with the previously stored inspection result of the naked reticle to determine whether or not the frame with the pellicle is properly attached.

こうして検査の終ったペリクル付レチクルは搬送アー
ム6bにより空のレチクルケースに戻され、貼付けの良、
不良がオペレータに表示される。
The reticle with pellicle that has been inspected in this way is returned to the empty reticle case by the transfer arm 6b,
The fault is displayed to the operator.

以上、本実施例ではペリクルの両面貼付けを説明した
が、もちろん片面だけでも同様のシーケンスで実行でき
る。
As described above, the pellicle is attached on both sides in the present embodiment, but it is needless to say that the same sequence can be executed on only one side.

本実施例で搬送アーム5bは、フレームケース(14、1
5)の搬送、ペリクル付フレーム16の搬送、フレーム16
のレチクルへの接着動作、及び保護シート材17のはがし
動作に兼用して使われるため、装置全体が非常にコンパ
クトになるといった利点がある。
In this embodiment, the transfer arm 5b is connected to the frame case (14, 1
5) Transfer, transfer of frame 16 with pellicle, frame 16
Since it is also used for the bonding operation to the reticle and the peeling operation of the protective sheet material 17, there is an advantage that the whole apparatus becomes very compact.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上のように本発明によれば人手によりペリクル(防
塵膜)付フレームを扱うことなく自動的にレチクルやマ
スク等に貼付けられ、またケースからケースへ自動搬送
されるため、異物等の混入付着が最小限に押えられると
いった効果が得られる。
As described above, according to the present invention, the pellicle (dust-proof film) is automatically attached to a reticle or a mask without manually handling the frame with the pellicle (dustproof film), and is automatically transported from case to case. The effect of being held down to a minimum can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の実施例による自動ペリクル貼付装置の
全体的な構成を概略的に示す図、第2図(A)、
(B)、(C)はペリクル付フレーム用の防塵ケースの
構成を示す図、 第3図(A)、(B)は自動搬送に好適なペリクル付フ
レームの構造を示す図、 第4図はフレームケースのストック部の構造を示す正面
図、第5図はフレームケースとペリクル付フレームの搬
送アームの構造を示す図、第6図は組立テーブルの構造
を概略的に示す斜視図、第7図はペリクル付フレームの
保護シート材をはがす機構を概略的に示す図、第8図は
加圧機構の概略的な構造を示す斜視図である。 〔主要部分の符号の説明〕 1……ペリクル貼付装置本体、 2……異物検査装置本体、 3……フレームケースのストック部、 4……レチクルケースのストック部、 5b、6b、7b、8b……搬送アーム、 9……組立テーブル、10……開閉機構、 11……加圧機構、12……つかみ機構、 14……フレームのトレイ部、15……蓋部、 16……ペリクル付フレーム、 24……搬送アーム5bのアーム指。
FIG. 1 is a diagram schematically showing an overall configuration of an automatic pellicle sticking apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG.
(B) and (C) are views showing the configuration of a dustproof case for a frame with a pellicle, FIGS. 3 (A) and (B) are views showing the structure of a frame with a pellicle suitable for automatic conveyance, and FIG. FIG. 5 is a front view showing the structure of the stock portion of the frame case, FIG. 5 is a diagram showing the structure of the frame case and the transfer arm of the frame with a pellicle, FIG. 6 is a perspective view schematically showing the structure of an assembly table, and FIG. Is a diagram schematically showing a mechanism for peeling a protective sheet material of a frame with a pellicle, and FIG. 8 is a perspective view showing a schematic structure of a pressing mechanism. [Description of Signs of Main Parts] 1... Pellicle Pasting Apparatus Main Body 2... Foreign Material Inspection Apparatus Main Body 3... Frame Case Stock Section 4... Reticle Case Stock Section 5 b, 6 b, 7 b, 8 b. ... Transfer arm, 9 ... Assembly table, 10 ... Open / close mechanism, 11 ... Pressure mechanism, 12 ... Grasp mechanism, 14 ... Tray part of frame, 15 ... Lid part, 16 ... Frame with pellicle, 24 Arm finger of the transfer arm 5b.

Claims (9)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】フォトマスク又はレチクル等のマスクに防
塵のためのペリクル付フレームを貼付けて、露光用原板
を作成する露光用原板の作成装置において、 前記ペリクル付フレームをほぼ密閉状態に収納するとと
もに、一部が開閉可能な防塵ケースを保持するケース保
持部と; 前記防塵ケースを開き、前記ペリクル付フレームを前記
防塵ケースから取り出すフレーム取り出し機構と: 取り出された前記ペリクル付フレームを、前記マスクの
所定位置に位置決めして貼り付ける貼付け機構とを備え
たことを特徴とする露光用原板作成装置
1. An apparatus for manufacturing an original plate for exposure, wherein a frame with a pellicle for dust prevention is attached to a mask such as a photomask or a reticle, and the frame with a pellicle is housed in a substantially sealed state. A case holding portion that holds a dustproof case that can be partially opened and closed; a frame takeout mechanism that opens the dustproof case and takes out the frame with a pellicle from the dustproof case; An exposure original plate producing apparatus, comprising: a pasting mechanism for positioning and pasting at a predetermined position.
【請求項2】前記ペリクル付フレームは接着層と該接着
層を保護する保護シートを有し、前記フレーム取り出し
機構は、取り出された前記ペリクル付フレームの保護シ
ートを剥離する剥離機構を有することを特徴とする特許
請求の範囲第1項に記載の装置
2. The frame with a pellicle has an adhesive layer and a protective sheet for protecting the adhesive layer, and the frame take-out mechanism has a peeling mechanism for peeling off the protective sheet of the frame with a pellicle taken out. Apparatus according to claim 1, characterized in that:
【請求項3】前記フレーム貼り出し機構はアーム指と突
起部とを備えた搬送アームを有し、該搬送アームは前記
フレームと前記防塵ケースとの両方を個別に搬送可能で
あることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の装
3. The frame sticking mechanism has a transfer arm having an arm finger and a projection, and the transfer arm can individually transfer both the frame and the dustproof case. Apparatus as claimed in claim 1
【請求項4】前記貼付け機構は、前記マスクに貼り付け
られた前記ペリクル付フレームをさらに圧着させる圧着
機構を有することを特徴とする特許請求の範囲第1項に
記載の装置
4. The apparatus according to claim 1, wherein said sticking mechanism has a crimping mechanism for further crimping said frame with a pellicle stuck to said mask.
【請求項5】前記貼り付け機構は、前記マスクを保持す
る基板保持部から前記マスクを取り出す基板取り出し機
構を有することを特徴とする特許請求の範囲第1項に記
載の装置
5. The apparatus according to claim 1, wherein said attaching mechanism has a substrate take-out mechanism for taking out the mask from a substrate holding portion holding the mask.
【請求項6】フォトマスク又はレチクル等のマスクに防
塵のためのペリクル付フレームを貼付けて、露光用原板
を作成する露光用原板の作成装置において、 前記ペリクル付フレームをほぼ密閉状態に収納するとと
もに、一部が開閉可能な防塵ケースを保持するケース保
持部と: 前記防塵ケースを開き、前記ペリクル付フレームを前記
防塵ケースから取り出すフレーム取り出し機構と; 取り出された前記ペリクル付フレームを、前記マスクの
所定位置に位置決めして貼り付ける貼付け機構と; 前記マスク上の異物の有無を光学的に検査する異物検査
装置とを備え、 前記異物検査装置は、前記ペリクル付フレームが貼り付
けされる前と後との少なくとも一方で前記マスクを検査
することを特徴とする露光用原板作成装置
6. An apparatus for producing an original plate for exposure, wherein a frame with a pellicle for dust prevention is attached to a mask such as a photomask or a reticle, and said frame with a pellicle is housed in a substantially sealed state. A case holding portion that holds a dustproof case that can be partially opened and closed: a frame takeout mechanism that opens the dustproof case and takes out the pellicle-equipped frame from the dustproof case; An attachment mechanism for positioning and attaching at a predetermined position; and a foreign matter inspection device for optically inspecting for the presence or absence of foreign matter on the mask, wherein the foreign matter inspection device is before and after the frame with a pellicle is attached. An exposure original plate producing apparatus, wherein the mask is inspected at least on one side.
【請求項7】前記貼付け機構は、前記マスクに貼り付け
られた前記ペリクル付フレームをさらに圧着させる圧着
機構を有することを特徴とする特許請求の範囲第6項に
記載の装置
7. The apparatus according to claim 6, wherein said sticking mechanism has a crimping mechanism for further crimping said pellicle-equipped frame stuck to said mask.
【請求項8】前記貼り付け機構は、前記マスクを保持す
る基板保持部から前記マスクを取り出す基板取り出し機
構を有することを特徴とする特許請求の範囲第6項に記
載の装置
8. The apparatus according to claim 6, wherein said attaching mechanism has a substrate taking-out mechanism for taking out the mask from a substrate holding portion holding the mask.
【請求項9】フォトマスク又はレチクル等のマスクに防
塵のためのペリクル付フレームを貼付けて、露光用の原
板を作成する露光用原板作成方法において、 前記ペリクル付フレームを前記マスクに貼り付ける前に
前記マスク上の異物の有無を光学的に検査する工程と; 前記検査する工程で検査した結果、露光に障害となる異
物が無いとなった前記マスクに前記ペリクル付フレーム
を貼り付ける行程とを有することを特徴とする露光用原
板作成方法
9. A method for producing an original plate for exposure, wherein a frame with a pellicle for dust prevention is attached to a mask such as a photomask or a reticle, and an original plate for exposure is created. Optically inspecting the presence or absence of foreign matter on the mask; and attaching the pellicle-equipped frame to the mask having no foreign matter obstructing exposure as a result of the inspection in the inspecting step. A method for producing an original plate for exposure characterized by the following:
JP25580287A 1987-10-09 1987-10-09 Apparatus and method for producing original plate for exposure Expired - Fee Related JP2595993B2 (en)

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