JPH07271048A - Exposure device - Google Patents

Exposure device

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JPH07271048A
JPH07271048A JP6063057A JP6305794A JPH07271048A JP H07271048 A JPH07271048 A JP H07271048A JP 6063057 A JP6063057 A JP 6063057A JP 6305794 A JP6305794 A JP 6305794A JP H07271048 A JPH07271048 A JP H07271048A
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JP
Japan
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substrate
clean
original film
exposure
films
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Tsutomu Saito
努 斎藤
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Seikosha KK
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

PURPOSE:To automatically clean an original film in an exposure device without depending on manual work. CONSTITUTION:In this exposure device, an unexposed base plate supplied to a base plate feeding part is carried to an exposure part by a carrying means 6 and both sides of the base plate are simultaneously exposed through a pair of original films 1 and 2. A cleaning roller unit 40 is attached to the sucking plate 30 of the carrying means 6. When a pinion 44 is rotated by the driving of a motor which is not shown in figure, racks 46 and 47 meshing with the pinion 44 are moved, so that cleaning rollers 56 and 57 coupled with the racks 46 and 47 abut on the upper original film 1 and the lower original film 2, respectively, because the roller 56 ascends and the roller 57 descends. At such a time, both rollers press-contact with the films 1 and 2 by the action of spring members 52 and 53. By moving a slider 36 to the right in such a state, the rollers 56 and 57 rotate in a state where they press-contact with the films 1 and 2 and remove the dust of the films 1 and 2 by attaching the dust to the adhesive parts of their outer peripheries.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、1対の原版フィルムの
パターンを基板の両面に露光する露光装置に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure apparatus which exposes a pair of original film patterns on both sides of a substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】通常、プリント基板を製造する際には、
まず、表裏両面に全面的に銅箔が形成された樹脂基板に
対し、所望のパターンを形成した原版フィルムを介して
紫外線を露光し、その後でエッチングを行い、紫外線の
当たった部分の銅を基板から剥離させることによって、
原版フィルムと白黒反転した状態に銅箔パターンを有す
るプリント基板が完成する。または、エッチング時に露
光部以外の部分の銅が基板から剥離し原版フィルム通り
の銅箔パターンを有するプリント基板が完成する。
2. Description of the Related Art Normally, when manufacturing a printed circuit board,
First, a resin substrate on which copper foils are formed on both front and back surfaces is exposed to ultraviolet rays through an original film on which a desired pattern is formed, and then etching is performed to expose the copper in the portion exposed to ultraviolet rays to the substrate. By peeling from
A printed board having a copper foil pattern is completed in a black-and-white inverted state with respect to the original film. Alternatively, during etching, copper in a portion other than the exposed portion is peeled off from the substrate, and a printed board having a copper foil pattern as the original film is completed.

【0003】上記製造方法のうちの露光工程を行なう場
合、露光部内に塵埃(ゴミやほこりなど)が存在すると
この塵埃が基板や原版フィルムに付着して、所望のパタ
ーンが露光できなくなり、その結果製造したプリント基
板の配線パターン中に導通不良の箇所が生じたりして品
質の低下をもたらすおそれがある。そこで従来は、原版
フィルムを取り替えるときに、または長時間連続運転し
た場合は定期的に、作業者が手作業で上下枠や原版フィ
ルムの清掃を行っている。
When performing the exposure step of the above-mentioned manufacturing method, if dust (dust, dust, etc.) exists in the exposed portion, the dust adheres to the substrate or the original film and the desired pattern cannot be exposed. There is a possibility that a defective connection may occur in the wiring pattern of the manufactured printed circuit board, resulting in deterioration of quality. Therefore, conventionally, an operator manually cleans the upper and lower frames and the original film when exchanging the original film or periodically when the original film is continuously operated for a long time.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記の通り、従来は露
光装置の運転を停止して手作業にて上下枠や原版フィル
ムを清掃しているため、作業は面倒で完全に塵埃を取り
除くためには作業時間が長くかかる。特に、大型の基板
を露光するために大型化したり、構成が複雑化した露光
装置においては、機械内部の上下枠や原版フィルムを手
作業で清掃するのは容易ではなく、十分な清掃が行えな
いおそれがある。また、原版フィルムを交換する度に清
掃する必要があるため、特に多種小量生産の場合には作
業効率が悪くなる。
As described above, conventionally, the operation of the exposure apparatus is stopped and the upper and lower frames and the original film are manually cleaned, so that the work is troublesome and the dust is completely removed. Takes a long time to work. In particular, in an exposure apparatus that is large in size to expose a large substrate or has a complicated configuration, it is not easy to manually clean the upper and lower frames and the original film inside the machine, and sufficient cleaning cannot be performed. There is a risk. Further, since it is necessary to clean the original film every time the original film is replaced, the working efficiency is deteriorated particularly in the case of producing a large amount of small quantities.

【0005】そこで本発明の目的は、手作業によらず自
動的に原版フィルムの清掃が可能な露光装置を提供する
ことにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide an exposure apparatus capable of automatically cleaning an original film without manual work.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、1対の原版フィルムを基板の上下に配設
した状態で基板の両面に同時露光可能な露光部と、露光
部に隣接して設けられ未露光の基板が供給される基板投
入部と、露光部と基板投入部との間で基板を搬送可能な
搬送手段とを含む露光装置において、露光部には、下原
版フィルムを保持する下枠と、下枠と対向して設けられ
上原版フィルムを保持する上枠と、両枠間に配設された
基板の両面に両原版フィルムを介して露光可能な1対の
露光用光源と、両枠の相対位置関係を調整可能な枠位置
合わせ手段が設けられており、搬送手段には、両枠間を
進退し両原版フィルムを清掃可能なクリーンローラユニ
ットが設けられている。
In order to achieve the above object, the present invention provides an exposure section capable of simultaneous exposure on both sides of a substrate with a pair of original films arranged above and below the substrate, and an exposure section. In an exposure apparatus including a substrate loading unit that is provided adjacent to the substrate feeding unit and supplies an unexposed substrate, and a transport unit that can transport the substrate between the exposure unit and the substrate loading unit, the exposure unit includes a lower master plate. A lower frame that holds the film, an upper frame that faces the lower frame and holds the upper original film, and a pair of substrates that can be exposed through both original films on both sides of the substrate that is arranged between the two frames. An exposure light source and a frame alignment means capable of adjusting the relative positional relationship between the two frames are provided, and the transport means is provided with a clean roller unit capable of advancing and retracting between the two frames and cleaning both original films. There is.

【0007】クリーンローラユニットは、外周部に塵埃
を付着可能な粘着部を有し回転自在に保持されている1
対のクリーンローラと、一方のクリーンローラを上方
へ、他方のクリーンローラを下方へそれぞれ移動させる
駆動機構とを有するものである。
The clean roller unit has an adhesive portion on the outer periphery to which dust can be attached and is rotatably held.
It has a pair of clean rollers and a drive mechanism for moving one clean roller upward and the other clean roller downward.

【0008】さらに、クリーンローラと当接して粘着部
に付着した塵埃を除去可能な粘着テープロールを有して
いる。
Further, it has an adhesive tape roll capable of removing dust adhering to the adhesive portion by coming into contact with the clean roller.

【0009】[0009]

【実施例】以下、図面に基づいて本発明の一実施例を説
明する。図1は本発明の一実施例に係る露光装置を示し
ている。この露光装置は、図1及び図2に示すように、
1対の原版フィルム1,2を基板3の両面に配設した状
態で両フィルム1,2上のパターンを基板3の両面に同
時露光する露光部4と、この露光部4に隣接して配置さ
れ、未露光の基板が供給される基板投入部5と、露光部
4と基板投入部5との間で基板3を搬送する搬送手段6
と、この搬送手段6に取り付けられたクリーンローラユ
ニット40とを備えている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention. This exposure apparatus, as shown in FIGS. 1 and 2,
An exposure section 4 for simultaneously exposing the patterns on both films 1 and 2 on both sides of the substrate 3 with a pair of original films 1 and 2 arranged on both sides of the substrate 3, and arranged adjacent to the exposure section 4. The substrate loading unit 5 to which the unexposed substrate is supplied, and the transport unit 6 that transports the substrate 3 between the exposure unit 4 and the substrate loading unit 5.
And a clean roller unit 40 attached to the conveying means 6.

【0010】露光部4には、基台7と、基台7上に配置
され下原版フィルム1を保持する下枠8と、下枠8の上
方にこれと対向して設けられ、上原版フィルム2を保持
する上枠9と、上枠9に対する下枠8の位置を調整して
両フィルム1,2を位置合わせする第1のアライメント
手段(枠位置合わせ手段)10と、上枠9を上下動させ
るZ軸シリンダ11と、1対の露光用光源12,13と
が設けられている。
The exposure unit 4 is provided with a base 7, a lower frame 8 arranged on the base 7 for holding the lower original film 1, and above the lower frame 8 so as to face the upper original film. 2, an upper frame 9 that holds the second frame 1, a first alignment unit (frame alignment unit) 10 that aligns the films 1 and 2 by adjusting the position of the lower frame 8 with respect to the upper frame 9, and moves the upper frame 9 up and down. A Z-axis cylinder 11 to be moved and a pair of exposure light sources 12 and 13 are provided.

【0011】基台7上にはXYθテーブル16が固定的
に配設されており、その上面に下枠8が載置されてい
る。このXYθテーブル16は、モータ16a,16
b,16c(図2参照)の作動により下枠8をX,Y,
θ方向に位置調節可能なものである。下枠8内には、ガ
ラスでできた透明板14が保持されており、透明板14
が前記基台7の開口部7aと対向するように配置されて
いる。図3,4に拡大して示すように、透明板14の上
面にITO(インジウム・ティン・オキサイド)からな
る透明電極15が形成されており、透明電極15には一
部に切欠部15aが設けてあるとともに図示しない外部
電源の一方の電極と接続される引出部15bが設けてあ
る。透明電極15上には下原版フィルム1が配設されて
おり、さらに下原版フィルム1上において、切欠部15
aと対向する位置に電極板22が配設される。電極板2
2は、下原版フィルム1上に設けてある接続板22a上
に一部が重なっており、この接続板22aが図示しない
外部電源の他方の電極と接続される。従って、電極板2
2と透明電極15との間に電位差が生じ、静電気が発生
する。この透明電極15および電極板22が、発生する
静電気により下原版フィルム1を介して基板3を透明板
14の上面に吸着保持するための吸着保持手段として作
用するものである。
An XYθ table 16 is fixedly arranged on the base 7, and a lower frame 8 is placed on the upper surface thereof. This XYθ table 16 includes motors 16a, 16
b, 16c (see FIG. 2), the lower frame 8 is moved to X, Y,
The position can be adjusted in the θ direction. A transparent plate 14 made of glass is held in the lower frame 8 and
Are arranged so as to face the opening 7 a of the base 7. As shown enlarged in FIGS. 3 and 4, a transparent electrode 15 made of ITO (Indium Tin Oxide) is formed on the upper surface of the transparent plate 14, and the transparent electrode 15 is partially provided with a cutout 15a. A lead-out portion 15b is provided which is connected to one electrode of an external power source (not shown). The lower original film 1 is disposed on the transparent electrode 15, and the cutout portion 15 is formed on the lower original film 1.
The electrode plate 22 is arranged at a position facing a. Electrode plate 2
The reference numeral 2 partially overlaps a connection plate 22a provided on the lower original film 1, and the connection plate 22a is connected to the other electrode of an external power source (not shown). Therefore, the electrode plate 2
A potential difference is generated between the transparent electrode 15 and the transparent electrode 15, and static electricity is generated. The transparent electrode 15 and the electrode plate 22 act as a suction holding means for holding the substrate 3 on the upper surface of the transparent plate 14 through the lower original film 1 by the generated static electricity.

【0012】上枠9内には、アクリル樹脂でできた透明
板9aが保持されており、透明板9aに上原版フィルム
2が貼着されている(図1参照)。上枠9の一端(図面
左側)には、後述するクリーンローラ56,57の外周
の塵埃を取り除くための粘着テープロール58が、取付
部材59を介して取り付けられ、図示しないモータによ
り回転可能になっている。
A transparent plate 9a made of acrylic resin is held in the upper frame 9, and the upper original film 2 is attached to the transparent plate 9a (see FIG. 1). An adhesive tape roll 58 for removing dust on the outer peripheries of clean rollers 56 and 57, which will be described later, is attached to one end of the upper frame 9 (on the left side in the drawing) via an attachment member 59 and can be rotated by a motor (not shown). ing.

【0013】第1のアライメント手段10は、XYθテ
ーブル16と、1対のCCDカメラ17と、アライメン
ト用光源18とから構成されている。CCDカメラ17
は、基台7内において、図1に示すアライメント位置と
この位置から左右に退避した退避位置との間で移動可能
に配置されている。そして、アライメント用光源18か
らの照明光をCCDカメラ17で受光して得られる画像
信号に基づいて、XYθテーブル16を作動することに
より、下原版フィルム1のアライメントマークが上原版
フィルム2のアライメントマークと合致するように、上
枠9に対する下枠8の位置を調節可能になっている。
The first alignment means 10 comprises an XYθ table 16, a pair of CCD cameras 17, and an alignment light source 18. CCD camera 17
Is arranged in the base 7 so as to be movable between the alignment position shown in FIG. 1 and a retracted position retracted to the left and right from this position. Then, by operating the XYθ table 16 based on the image signal obtained by receiving the illumination light from the alignment light source 18 by the CCD camera 17, the alignment mark of the lower original film 1 becomes the alignment mark of the upper original film 2. The position of the lower frame 8 with respect to the upper frame 9 can be adjusted so as to match with.

【0014】露光用光源12は上枠9の上方に、露光用
光源13は下枠8の下方にそれぞれ配置されている。
The exposure light source 12 is arranged above the upper frame 9, and the exposure light source 13 is arranged below the lower frame 8.

【0015】前記基板投入部5には、未露光の基板3が
投入された際におおまかな位置決めを行なうための基板
外形位置合わせ手段20が設けられている。この基板外
形位置合わせ手段20は、基板3を後述する搬送手段6
の吸着板30により確実に保持可能とし、搬送手段6に
設けられたXYθテーブル31による微調整によって露
光部における正確なアライメントが可能になる程度に位
置合わせしておくためのものである。本実施例では、基
準位置(下原版フィルム1に対応する基準の位置で、こ
の位置から基板を一定量平行移動したときに基板が下原
版フィルム1に対して正確に位置決めされるような位
置)から誤差が±1mm程度になるように調節される。
The substrate loading unit 5 is provided with a substrate outer shape alignment means 20 for performing rough positioning when an unexposed substrate 3 is loaded. The board outer shape alignment means 20 is a means for carrying the board 3 which will be described later.
The suction plate 30 can be surely held, and the XYθ table 31 provided on the conveying means 6 can be used for fine alignment so that accurate alignment can be performed in the exposure unit. In the present embodiment, a reference position (a reference position corresponding to the lower original film 1 and a position at which the substrate is accurately positioned with respect to the lower original film 1 when the substrate is translated from this position by a certain amount). Is adjusted so that the error is about ± 1 mm.

【0016】この基板外形位置合わせ手段20は、基台
7上に配置されたX方向の度当たりピン23と、Y方向
の幅寄せピン24およびローラコンベア25とから構成
されている。予め判明している基板3の寸法に応じて先
端部(図1,2の右方)の基準位置を決定し、その位置
に度当たりピン23を位置させる。そこで基板3が投入
されると、ローラコンベア25が回転することにより基
板3を前進させ、度当たりピン23に接触した時点で基
板3を停止させ、X方向の位置決めをする。次に、Y方
向の幅寄せピン24を同時に基板3に向けて移動させ、
基板3の両端部(図2の上端または下端)のどちらか一
方が幅寄せピン24に接触した時点から、その幅寄せピ
ン24により基板を押進し、基板3の他方の端部が幅寄
せピン24に接触した時点で停止する。すなわち、基板
の両端部(図2の上端と下端)がいずれも幅寄せピン2
4に接触する位置で停止し、Y方向の位置決めを行な
う。
The board outer shape aligning means 20 is composed of a pin 23 in the X direction, a width adjusting pin 24 in the Y direction, and a roller conveyor 25, which are arranged on the base 7. The reference position of the tip (right side of FIGS. 1 and 2) is determined according to the dimension of the substrate 3 which is known in advance, and the pin 23 is positioned at that position. Then, when the substrate 3 is loaded, the roller conveyor 25 is rotated to move the substrate 3 forward, and when the substrate 3 comes into contact with the pin 23, the substrate 3 is stopped and positioned in the X direction. Next, the width adjustment pins 24 in the Y direction are simultaneously moved toward the substrate 3,
When either one of the both ends (the upper end or the lower end in FIG. 2) of the substrate 3 comes into contact with the width-adjusting pin 24, the substrate is pushed by the width-adjusting pin 24, and the other end of the substrate 3 is width-adjusted. It stops when it contacts the pin 24. That is, both ends (the upper end and the lower end in FIG. 2) of the substrate are the width-adjusting pins 2
It stops at the position where it comes into contact with 4, and performs positioning in the Y direction.

【0017】次に、基板を搬送する搬送手段6につい
て、図1及び図2を参照して説明する。図示しないモー
タにより回転駆動されるプーリ28ともう1つのプーリ
29にタイミングベルト39が掛け回されている。この
タイミングベルト39の一部にスライダ36が固着され
ている。スライダ36にはガイド部36aが設けられて
おり、このガイド部36aはレール38を摺動可能であ
る。プーリ28,29,レール38は本体フレームに固
定的に支持されている。スライダ36にはシリンダ37
が固着してあり、このシリンダ37の駆動軸に小型のX
Yθテーブル31が取付けられている。XYθテーブル
31には、基板3の上面を吸着するための多数の吸引孔
(図示せず。)を有する吸着板30が取付けられてい
る。また、吸着板30の下面には、EL(エレクトロル
ミネセンス)素子26が基板吸着をさまたげないように
固定されている。
Next, the transfer means 6 for transferring the substrate will be described with reference to FIGS. 1 and 2. A timing belt 39 is wound around a pulley 28 and another pulley 29 which are driven to rotate by a motor (not shown). The slider 36 is fixed to a part of the timing belt 39. The slider 36 is provided with a guide portion 36a, and the guide portion 36a can slide on a rail 38. The pulleys 28, 29 and the rail 38 are fixedly supported by the body frame. A cylinder 37 is attached to the slider 36.
Is fixed, and a small X is attached to the drive shaft of this cylinder 37.
A Yθ table 31 is attached. A suction plate 30 having a large number of suction holes (not shown) for sucking the upper surface of the substrate 3 is attached to the XYθ table 31. An EL (electroluminescence) element 26 is fixed to the lower surface of the suction plate 30 so as not to interfere with substrate suction.

【0018】このような構成であるため、プーリ28を
回転駆動することによってスライダ36は図1左右方向
に移動可能であり、シリンダ37の作動によりスライダ
36に対しXYθテーブル31を上下動可能であり、X
Yθテーブル31の作動により吸着板30をX,Y,θ
方向に位置調節可能である。
With such a structure, the slider 36 can be moved in the left-right direction in FIG. 1 by rotationally driving the pulley 28, and the XYθ table 31 can be moved up and down with respect to the slider 36 by the operation of the cylinder 37. , X
By operating the Yθ table 31, the suction plate 30 is moved to X, Y, θ
The position can be adjusted in the direction.

【0019】EL素子26,XYθテーブル31,1対
のCCDカメラ17が、基板3を下枠8に対して位置合
わせする第2のアライメント手段(基板位置合わせ手
段)19を構成している。
The EL element 26, the XYθ table 31, and the pair of CCD cameras 17 constitute second alignment means (substrate alignment means) 19 for aligning the substrate 3 with respect to the lower frame 8.

【0020】搬送手段6の吸着板30には、取付板4
1,42を介してクリーンローラユニット40が取り付
けられている。クリーンローラユニット40の構成につ
いて以下に説明する。すなわち、ガイド板43と、この
ガイド板43に回転自在に取り付けられたピニオン44
と、ピニオン44を回転駆動する正逆転可能なモータ
(図示せず。)と、ピニオン44と噛合しガイド板43
に沿って上下に摺動する1対のラック46,47とを有
している。そして、このラック46,47に連結軸4
8,49が連結され、連結軸48,49には保持部材5
0,51が嵌合されるとともに、連結軸48,49の外
周において保持部材50,51とラック46,47との
間にバネ部材52,53が配設されている。保持部材5
0,51は、連結軸48,49との摩擦力およびバネ部
材52,53の抗力と、ストッパ48a,49aの作用
とによって保持されている。さらに、ガイド板43に沿
って上下に摺動可能な支持軸54,55が保持部材5
0,51に固着され、支持軸54,55にはクリーンロ
ーラ56,57が回転自在に保持されている。このクリ
ーンローラ56,57の外周は塵埃を付着可能な粘着部
となっている。ピニオン44,ラック46,47が、ク
リーンローラ56,57の駆動機構を構成している。こ
のような構成であるため、スライダ36の移動に伴って
クリーンローラユニット40は左右に移動し、図示しな
いモータの駆動によってピニオン44が回転すると、ラ
ック46と一体的に連結軸48,保持部材50,支持軸
54およびクリーンローラ56が上昇する。同時に、ラ
ック47と一体的に連結軸49,保持部材51,支持軸
55およびクリーンローラ57は下降する。この状態か
らモータが逆回転すると、クリーンローラ56は下降
し、クリーンローラ57は上昇して初期位置に復帰す
る。
The suction plate 30 of the conveying means 6 is attached to the mounting plate 4
A clean roller unit 40 is attached via 1, 42. The structure of the clean roller unit 40 will be described below. That is, the guide plate 43 and the pinion 44 rotatably attached to the guide plate 43.
And a motor (not shown) capable of rotating the pinion 44 forward and backward, and a guide plate 43 that meshes with the pinion 44.
And a pair of racks 46 and 47 that slide up and down along. The connecting shaft 4 is attached to the racks 46 and 47.
8, 49 are connected, and the holding member 5 is connected to the connecting shafts 48, 49.
0, 51 are fitted, and spring members 52, 53 are arranged between the holding members 50, 51 and the racks 46, 47 on the outer circumferences of the connecting shafts 48, 49. Holding member 5
0 and 51 are held by the frictional force between the connecting shafts 48 and 49, the drag force of the spring members 52 and 53, and the action of the stoppers 48a and 49a. Further, the support shafts 54 and 55, which are vertically slidable along the guide plate 43, are attached to the holding member 5.
Clean rollers 56 and 57 are rotatably held on support shafts 54 and 55, respectively. The outer periphery of the clean rollers 56, 57 is an adhesive portion to which dust can be attached. The pinion 44 and the racks 46 and 47 form a drive mechanism for the clean rollers 56 and 57. With such a configuration, the clean roller unit 40 moves to the left and right as the slider 36 moves, and when the pinion 44 rotates by the driving of a motor (not shown), the rack 46 and the connecting shaft 48 and the holding member 50 are integrated. The support shaft 54 and the clean roller 56 are raised. At the same time, the connecting shaft 49, the holding member 51, the support shaft 55, and the clean roller 57 are lowered integrally with the rack 47. When the motor reversely rotates from this state, the clean roller 56 descends and the clean roller 57 rises to return to the initial position.

【0021】上記構成の露光装置の露光対象となる基板
3の一般的な構成について説明する。この基板3は、エ
ポキシ樹脂などからなる基板本体(図1,2を参照)の
表裏両面に全面的に銅箔が形成されており、この銅箔を
覆う薄い樹脂製のドライフィルムが貼着され、さらにこ
の両面にポリエステルなどからなる保護フィルム34が
貼着されている。保護フィルム34は基板3全体を覆う
のではなく、基板3の外周各辺からそれぞれ5mm程度
間隔をおいて貼着されている。なお、図面では基板本体
と銅箔とドライフィルムとを一体的に示しているが、こ
のドライフィルムが感光性を有するフォトレジストとし
ての作用を果たす。
A general structure of the substrate 3 to be exposed by the exposure apparatus having the above structure will be described. In this substrate 3, copper foil is formed on both front and back surfaces of a substrate body (see FIGS. 1 and 2) made of epoxy resin or the like, and a thin dry film made of resin is attached to cover the copper foil. Further, a protective film 34 made of polyester or the like is attached to both sides of the protective film 34. The protective film 34 does not cover the entire substrate 3, but is adhered at intervals of about 5 mm from each side of the outer periphery of the substrate 3. Although the substrate body, the copper foil, and the dry film are integrally shown in the drawings, this dry film functions as a photoresist having photosensitivity.

【0022】次に、上記構成を有する実施例の作動を説
明する。まず、上下枠8,9を露光装置に取り付ける前
に、下原版フィルム1を下枠8の透明板14上に、上原
版フィルム2を上枠9の透明板9a上にそれぞれ粘着テ
ープ等で貼り付ける。次に下原版フィルム1の上に電極
板22を貼付する。この貼付位置は、基板3の1つの外
縁部に対して2〜3mm程度内側に入り込むようにセッ
トする。すなわち、前述の通り、基板3の外周部には5
mm程度ドライフィルム面が露出しているので、そこに
電極板22が接触するようにするためである。
Next, the operation of the embodiment having the above construction will be described. First, before attaching the upper and lower frames 8 and 9 to the exposure apparatus, the lower original film 1 is attached to the transparent plate 14 of the lower frame 8 and the upper original film 2 is attached to the transparent plate 9a of the upper frame 9 with an adhesive tape or the like. wear. Next, the electrode plate 22 is attached onto the lower original film 1. The sticking position is set so as to enter the outer edge of the substrate 3 by about 2 to 3 mm. That is, as described above, the outer peripheral portion of the substrate 3 has 5
This is for the electrode plate 22 to come into contact therewith because the dry film surface is exposed by about mm.

【0023】次に、下枠8をXYθテーブル16上に取
り付けて固定すると共に、上枠9を上枠保持手段27に
取り付ける。この時、上下の原版フィルム1,2間にク
リーンローラユニット40,吸着板30,スライダ3
6,シリンダ37が通過可能なスペースを確保するよう
に、Z軸シリンダ11により上枠9の高さを調整してお
く。
Next, the lower frame 8 is attached and fixed on the XYθ table 16, and the upper frame 9 is attached to the upper frame holding means 27. At this time, the clean roller unit 40, the suction plate 30, the slider 3 are provided between the upper and lower original films 1 and 2.
6. The height of the upper frame 9 is adjusted by the Z-axis cylinder 11 so as to secure a space through which the cylinder 37 can pass.

【0024】ここで両原版フィルム1,2の清掃を行
う。搬送手段6の吸着板30に基板を吸着しない状態
で、図示しないモータを駆動してスライダ36を図面右
方へ移動する。そして、クリーンローラユニット40が
両枠8,9の間に到達した時点で図示しないセンサ(リ
ミットスイッチなど)が作動して図示しないもう一つの
モータが駆動される。これによって前述の通り、クリー
ンローラ56は上昇して上原版フィルム2に、クリーン
ローラ57は下降して下原版フィルム1に、それぞれ当
接する(図5参照)。保持部材50,51はバネ部材5
2,53によって支持されているので、クリーンローラ
56,57は両原版フィルム1,2に対し圧接する。こ
の状態でスライダ36をさらに右方へ移動させることに
より、クリーンローラ56,57は原版フィルム1,2
に圧接した状態で回転しながら、原版フィルム1,2全
域の塵埃を外周の粘着部に付着させて取り除く。
Here, the two original films 1 and 2 are cleaned. A motor (not shown) is driven to move the slider 36 to the right in the drawing while the substrate is not attracted to the attraction plate 30 of the transport means 6. Then, when the clean roller unit 40 reaches between the frames 8 and 9, a sensor (not shown) such as a limit switch operates to drive another motor not shown. As a result, as described above, the clean roller 56 moves up to come into contact with the upper original film 2, and the clean roller 57 goes down to come into contact with the lower original film 1 (see FIG. 5). The holding members 50 and 51 are spring members 5.
The clean rollers 56 and 57 are pressed against the original films 1 and 2 because they are supported by the films 2 and 53. By moving the slider 36 further to the right in this state, the clean rollers 56 and 57 are moved to the original films 1 and 2.
While rotating in pressure contact with, dust on the entire area of the original films 1 and 2 is adhered to and removed from the adhesive portion on the outer periphery.

【0025】こうして、スライダ36が一定距離移動し
たことを図示しないセンサ(リミットスイッチなど)に
より検知したら、原版フィルム1,2の清掃が完了した
と判断し、図示しないモータを逆回転させ、クリーンロ
ーラ56を下降させるとともにクリーンローラ57を上
昇させて、両原版フィルム1,2から離す。そして、ス
ライダ36を左方へ移動させ、上枠9の左側に位置させ
る(図6参照)。この状態で上枠9のZ軸シリンダ11
を作動させて上枠9を下降させるとともに、搬送手段6
のシリンダ37を作動させてクリーンローラユニット4
0を上昇させ、クリーンローラ56,57を粘着テープ
ロール58に同時に接触させる(図7参照)。そこで、
図示しないモータを作動させて粘着テープロール58を
回転させることにより、クリーンローラ56,57の外
周に付着した塵埃を転写して取り除く。このようにして
塵埃の除去が完了すると、上枠9を上昇させ、スライダ
36を下降させる。
In this way, when the sensor (not shown) (limit switch or the like) detects that the slider 36 has moved a certain distance, it is determined that the cleaning of the original films 1 and 2 is completed, and the motor (not shown) is reversely rotated to clean the rollers. 56 is lowered and the clean roller 57 is raised to be separated from both the original films 1 and 2. Then, the slider 36 is moved to the left and positioned on the left side of the upper frame 9 (see FIG. 6). In this state, the Z-axis cylinder 11 of the upper frame 9
Is operated to lower the upper frame 9, and the conveying means 6
Actuating the cylinder 37 of the clean roller unit 4
0 is raised to bring the clean rollers 56 and 57 into contact with the adhesive tape roll 58 at the same time (see FIG. 7). Therefore,
By operating a motor (not shown) to rotate the adhesive tape roll 58, the dust adhering to the outer periphery of the clean rollers 56 and 57 is transferred and removed. When the removal of dust is completed in this way, the upper frame 9 is raised and the slider 36 is lowered.

【0026】以上のようにして、原版フィルム1,2の
清掃と、クリーンローラ56,57の清掃が完了した
ら、第1のアライメント手段10により上枠9と下枠8
の位置合わせを行なう。すなわち、CCDカメラ17を
図1に示すアライメント位置に位置させた状態でアライ
メント用光源18を点灯させ、アライメント用光源18
からの照明光をCCDカメラ17で受光して得られる画
像信号に基づいて、下原版フィルム1のアライメントマ
ークが上原版フィルム2のアライメントマークと合致す
るようにXYθテーブル16を駆動することにより、上
枠9に対する下枠8の位置を調節する。
After the cleaning of the original films 1 and 2 and the cleaning of the clean rollers 56 and 57 are completed as described above, the first alignment means 10 causes the upper frame 9 and the lower frame 8 to be removed.
Align the. That is, the alignment light source 18 is turned on while the CCD camera 17 is positioned at the alignment position shown in FIG.
By driving the XYθ table 16 so that the alignment mark of the lower original film 1 matches the alignment mark of the upper original film 2 based on the image signal obtained by receiving the illumination light from the CCD camera 17, The position of the lower frame 8 with respect to the frame 9 is adjusted.

【0027】この後、透明電極15および電極板22に
通電し静電気を発生させる。この静電気により、下原版
フィルム1を下枠8の透明板14上に吸着保持する。
After that, the transparent electrode 15 and the electrode plate 22 are energized to generate static electricity. Due to this static electricity, the lower original film 1 is adsorbed and held on the transparent plate 14 of the lower frame 8.

【0028】一方、基板投入部5に供給された未露光の
基板3を基板外形位置合わせ手段20によりおおまかな
位置合わせを行なう。前述の通り、基板3を度当たりピ
ン23に接触するまで前進させてX方向の位置決めをす
るとともに、基板3の両端部に接触するように幅寄せピ
ン24を移動させてY方向の位置決めを行なう。
On the other hand, the unexposed substrate 3 supplied to the substrate loading unit 5 is roughly aligned by the substrate outer shape aligning means 20. As described above, the substrate 3 is moved forward until it comes into contact with the pin 23 for positioning in the X direction, and the width-adjusting pins 24 are moved so as to contact both ends of the substrate 3 for positioning in the Y direction. .

【0029】こうして基板3のおおまかな位置合わせが
完了したら、吸着板30により基板3を真空吸着し、そ
の状態で図示しないモータを駆動してスライダ36を所
定量平行移動して両原版フィルム1,2間に位置させ
る。そして、シリンダ37を作動させてXYθテーブル
31を下降させ、基板3と下原版フィルム1とのクリア
ランスを1mm以下にする。この状態で、第2のアライ
メント手段19を用いて基板3と下原版フィルム1を位
置合わせする。すなわち、EL素子26を発光させ、基
板3のマークと下原版フィルム1のマークとをCCDカ
メラ17で認識し、それらが合致するようにXYθテー
ブル31により基板3の位置を調節する。
After the rough alignment of the substrate 3 is completed in this way, the substrate 3 is vacuum-sucked by the suction plate 30, and in that state, a motor (not shown) is driven to move the slider 36 in parallel by a predetermined amount so that the two original films 1, 2. Position between two. Then, the cylinder 37 is operated to lower the XYθ table 31, and the clearance between the substrate 3 and the lower original film 1 is set to 1 mm or less. In this state, the substrate 3 and the lower original film 1 are aligned by using the second alignment means 19. That is, the EL element 26 is caused to emit light, the mark of the substrate 3 and the mark of the lower original film 1 are recognized by the CCD camera 17, and the position of the substrate 3 is adjusted by the XYθ table 31 so that they match each other.

【0030】第2のアライメント手段19により基板3
と下原版フィルム1との位置合わせを行なった後、さら
に基板3を下降させ下原版フィルム1に密着させる。前
記の通り、透明電極15と電極板22との間に電位差が
生じているので静電気が発生する。具体的には、電極板
22は基板3のドライフィルム面と接しており、このド
ライフィルムは極めて薄いもので絶縁性が比較的弱いた
め、電極板22から銅箔に導通される。そこでこの電極
板に導通された銅箔から、保護フィルム34、下原版フ
ィルム1を介して透明電極15へ至る経路の静電気が発
生する。この静電気によって、基板3および下原版フィ
ルム1は透明電極15、すなわち下枠8に吸着保持され
る。従って、基板3が位置ずれする恐れはなくなる。
The substrate 3 by the second alignment means 19
After the alignment between the lower original film 1 and the lower original film 1, the substrate 3 is further lowered and brought into close contact with the lower original film 1. As described above, since the potential difference is generated between the transparent electrode 15 and the electrode plate 22, static electricity is generated. Specifically, the electrode plate 22 is in contact with the dry film surface of the substrate 3. Since the dry film is extremely thin and has relatively weak insulation, the electrode plate 22 is electrically connected to the copper foil. Therefore, static electricity is generated in a path from the copper foil conducted to the electrode plate to the transparent electrode 15 through the protective film 34 and the lower original film 1. Due to this static electricity, the substrate 3 and the lower original film 1 are adsorbed and held on the transparent electrode 15, that is, the lower frame 8. Therefore, there is no possibility that the substrate 3 is displaced.

【0031】そこで、図示しないモータを駆動して吸着
板30を基板投入部5に戻し、その後にZ軸シリンダ1
1により上枠9を下降させて、上原版フィルム2を基板
3の上面に密着させる。こうして、下原版フィルム1を
基板3の下面に、上原版フィルム2を基板3の上面にそ
れぞれ密着させた状態で、露光部4のCCDカメラ17
を図1に示すアライメント位置から左右に退避させる。
Then, a motor (not shown) is driven to return the suction plate 30 to the substrate loading section 5, and thereafter the Z-axis cylinder 1
The upper frame 9 is lowered by 1 to bring the upper original film 2 into close contact with the upper surface of the substrate 3. In this way, with the lower original film 1 and the upper original film 2 in close contact with the lower surface of the substrate 3 and the upper surface of the substrate 3, respectively, the CCD camera 17 of the exposure unit 4
Is retracted from the alignment position shown in FIG. 1 to the left and right.

【0032】この状態で、上下の露光用光源12,13
を点灯することにより、両原版フィルム1,2のパター
ンを基板3の両面に同時に露光する。
In this state, the upper and lower exposure light sources 12, 13
By turning on, the patterns of both original films 1 and 2 are simultaneously exposed on both sides of the substrate 3.

【0033】この後、露光装置から基板3を取り外し、
熱を加えて乾燥した後、保護フィルム34を剥離してエ
ッチング液に浸すと、露光部のドライフィルムおよび銅
箔が除去される。なお、ドライフィルムの種類によって
は、露光部以外の部分のドライフィルムおよび銅箔が除
去される場合もある。このようにして銅箔パターンを形
成する。その後、ドライフィルムを完全に剥離してか
ら、銅箔パターンのうち電気部品がマウントされたり、
端子として利用される部分を除いて、保護膜(図示せ
ず。)が被覆されプリント基板が完成する。多層基板を
製造する場合は、銅箔パターン形成後ドライフィルムを
剥離した基板を複数枚重ねて固着してから、上下両面に
保護膜を貼着することになる。
After that, the substrate 3 is removed from the exposure apparatus,
After applying heat and drying, the protective film 34 is peeled off and immersed in an etching solution to remove the dry film and the copper foil in the exposed portion. Depending on the type of dry film, the dry film and the copper foil in the portion other than the exposed portion may be removed. In this way, a copper foil pattern is formed. After that, after peeling off the dry film completely, electrical parts of the copper foil pattern are mounted,
A printed circuit board is completed by covering a protective film (not shown) except the portions used as terminals. In the case of manufacturing a multi-layered substrate, a plurality of substrates from which a dry film has been peeled off after forming a copper foil pattern are stacked and fixed, and then protective films are adhered to both upper and lower surfaces.

【0034】なお、詳述しないが、基板3を露光部4に
搬送した時点で、次に露光すべき基板3が基板投入部5
に供給されるように設定し、大量の基板を次々に露光す
る構成としている。
Although not described in detail, when the substrate 3 is conveyed to the exposure unit 4, the substrate 3 to be exposed next is the substrate loading unit 5.
Is set so that a large number of substrates are exposed one after another.

【0035】本発明によると、基板3を基板投入部5か
ら露光部4へ搬送するための搬送手段6にクリーンロー
ラユニット40を設け、スライダ36の移動により自動
的に原版フィルム1,2の清掃が行えるようにしたた
め、従来のように手作業で清掃する必要がなく、きわめ
て効率よく清掃が行えるようになり、作業時間も短縮さ
れる。また、ピニオン44およびラック46,47から
なる駆動機構により1対のクリーンローラ56,57を
上下動可能にしたため、通常は両クリーンローラ56,
57をコンパクトにまとめて基板搬送時に邪魔にならな
いようにしておき、清掃時にのみ両クリーンローラ5
6,57を広げて原版フィルム1,2と当接可能にする
ことにより、装置の大型化が防げる。センサと連動させ
て、自動的に駆動機構を作動させることにより、さらに
作業が簡単になる。
According to the present invention, the clean roller unit 40 is provided in the transport means 6 for transporting the substrate 3 from the substrate loading portion 5 to the exposure portion 4, and the original films 1 and 2 are automatically cleaned by the movement of the slider 36. Since it is possible to perform the cleaning, it is not necessary to manually clean it as in the conventional case, the cleaning can be performed very efficiently, and the working time can be shortened. Further, since the pair of clean rollers 56, 57 can be moved up and down by the drive mechanism composed of the pinion 44 and the racks 46, 47, normally both clean rollers 56, 57 are
57 are compactly packed so that they do not get in the way when the substrate is transferred.
By expanding 6 and 57 so that they can contact the original films 1 and 2, it is possible to prevent the apparatus from becoming large. The work is further simplified by automatically operating the drive mechanism in conjunction with the sensor.

【0036】クリーンローラ56,57と当接可能な粘
着テープロール58を設けることにより、クリーンロー
ラ56,57の清掃も行えるため、常に清浄な状態のク
リーンローラ56,57で原版フィルム1,2を清掃で
きる。
Since the clean rollers 56, 57 can be cleaned by providing the adhesive tape roll 58 which can come into contact with the clean rollers 56, 57, the original films 1, 2 can be always cleaned with the clean rollers 56, 57. Can be cleaned.

【0037】上記実施例では、原版フィルム1,2を交
換した時点で清掃を行うようにしているが、多数の基板
露光を行う場合、定期的に所定のタイミングで原版フィ
ルム1,2の清掃を行うようにプログラムしておくこと
もできる。この場合、露光装置の自動運転を停止するこ
となく、原版フィルムの清掃が行える。また、本発明に
かかる露光装置では、原版フィルムを貼り付けていない
状態で、クリーンローラユニット40を作動させて上枠
9および下枠8を清掃することもできる。
In the above embodiment, the cleaning is performed when the original films 1 and 2 are exchanged. However, when a large number of substrates are exposed, the original films 1 and 2 are periodically cleaned at a predetermined timing. It can be programmed to do so. In this case, the original film can be cleaned without stopping the automatic operation of the exposure device. Further, in the exposure apparatus according to the present invention, the clean roller unit 40 can be operated to clean the upper frame 9 and the lower frame 8 without the original film being attached.

【0038】従来、下原版フィルム1上に基板3を載置
する際に、両者の間隙に介在する空気の影響などによ
り、基板3は下原版フィルム1上で滑り易く位置ずれを
生じていたが、本実施例においては静電気によって基板
3を吸着する力が働くため基板3が滑ることはなく位置
ずれを生じない。特に、基板3のドライフィルム面に接
する電極板22と下原版フィルム1を介して基板3の下
方に位置する透明電極15とに電界が加わり、基板3の
銅箔および下原版フィルム1を透過する経路で静電気が
生じる構成としているので、基板3および下原版フィル
ム1に対し十分な静電吸着力を及ぼすことができる。こ
のように、静電気を利用しているため、メカ的に保持す
るのが難しい極めて薄い基板(例えば厚さ0.4mm程
度の基板など)も容易に保持できる。さらに、透明電極
15および電極板22への通電のオン・オフによって基
板3の吸着,離脱が容易に行なえるため、露光後の基板
の搬送等も容易である。
Conventionally, when the substrate 3 is placed on the lower original film 1, the substrate 3 is slippery on the lower original film 1 and is displaced due to the influence of air present in the gap between them. In this embodiment, since the electrostatic force acts on the substrate 3 to attract the substrate 3, the substrate 3 does not slip and no positional displacement occurs. In particular, an electric field is applied to the electrode plate 22 in contact with the dry film surface of the substrate 3 and the transparent electrode 15 located below the substrate 3 via the lower original film 1, and the copper foil of the substrate 3 and the lower original film 1 are transmitted. Since static electricity is generated in the path, a sufficient electrostatic attraction force can be exerted on the substrate 3 and the lower original film 1. As described above, since static electricity is used, it is possible to easily hold an extremely thin substrate (for example, a substrate having a thickness of about 0.4 mm) that is difficult to mechanically hold. Further, the substrate 3 can be easily adsorbed and detached by turning on / off the power supply to the transparent electrode 15 and the electrode plate 22, so that the substrate can be easily transported after exposure.

【0039】また、両原版フィルム1,2と基板3との
密着性を高めるために露光時にこれらを真空に吸引する
構成とした場合にも位置ずれを生じる恐れはない。
Further, even if the two original films 1 and 2 and the substrate 3 are adhered to each other in a vacuum at the time of exposure in order to enhance the adhesion between them, there is no possibility of misalignment.

【0040】図8には本発明の第2の実施例を示してい
る。なお、第1の実施例と共通の部分については、説明
を省略する。
FIG. 8 shows a second embodiment of the present invention. The description of the same parts as those in the first embodiment will be omitted.

【0041】第2の実施例においては、透明板14上に
ITOからなる透明電極15が形成され、さらにその上
にSiO2 のスパッタリングにより保護膜35が形成さ
れている。SiO2 からなる保護膜35は、透明電極1
5が設けられた透明板14上全面を覆っている。
In the second embodiment, the transparent electrode 15 made of ITO is formed on the transparent plate 14, and the protective film 35 is further formed on the transparent electrode 15 by sputtering SiO 2. The protective film 35 made of SiO2 is the transparent electrode 1
5 covers the entire surface of the transparent plate 14 provided with 5.

【0042】この実施例によると、下原版フィルム1を
介して基板3を静電吸着するために透明電極15に高電
圧(500〜2000V)を印加しても、保護膜35に
遮られて使用者に高電圧が伝わることはなく、安全に作
業が行なえる。
According to this embodiment, even if a high voltage (500 to 2000 V) is applied to the transparent electrode 15 to electrostatically adsorb the substrate 3 through the lower original film 1, it is shielded by the protective film 35 and used. High voltage is not transmitted to the person, and work can be performed safely.

【0043】保護膜35は、露光用光源13からの光を
透過可能であって、透明電極15へ電圧を印加した際
に、基板3を吸着可能なように下原版フィルム1上に静
電気を発生し得るとともに人体に影響を与えない程度に
絶縁作用を持つものであり、SiO2 膜以外にも、IT
Oを蒸着した透明な樹脂フィルムなどが使用可能であ
る。
The protective film 35 is capable of transmitting light from the exposure light source 13 and generates static electricity on the lower original film 1 so that the substrate 3 can be adsorbed when a voltage is applied to the transparent electrode 15. In addition to the SiO2 film, it has an insulating function to the extent that it does not affect the human body.
For example, a transparent resin film having O vapor deposited thereon can be used.

【0044】[0044]

【発明の効果】以上説明した通り、基板を基板投入部か
ら露光部へ搬送するために設けられている搬送手段にク
リーンローラユニットを取り付け、自動的に原版フィル
ムの清掃が行えるようにしたため、従来のように手作業
で清掃する必要がなく、きわめて効率よく容易に清掃が
行えるようになる。
As described above, since the clean roller unit is attached to the transporting means provided for transporting the substrate from the substrate loading portion to the exposure portion, the original film can be automatically cleaned. Unlike the above, there is no need for manual cleaning, and cleaning can be performed extremely efficiently and easily.

【0045】また、駆動機構により1対のクリーンロー
ラを上下動可能にすると、清掃時にのみ両クリーンロー
ラを広げて原版フィルムと当接可能にするようにして、
通常は両クリーンローラをコンパクトにまとめて基板搬
送時に邪魔にならないようにすることができる。
When a pair of clean rollers can be moved up and down by a driving mechanism, both clean rollers are opened only during cleaning so that they can contact the original film.
Normally, both clean rollers can be compactly arranged so that they do not get in the way when the substrate is transported.

【0046】さらに、クリーンローラと当接可能な粘着
テープロールを設けた構成とすると、常に清浄な状態の
クリーンローラで原版フィルムを清掃できる。
Further, when the adhesive tape roll which can contact the clean roller is provided, the original film can be cleaned with the clean roller which is always clean.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る露光装置の一実施例を示す概略構
成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of an exposure apparatus according to the present invention.

【図2】図1に示す露光装置の要部を示す平面図であ
る。
FIG. 2 is a plan view showing a main part of the exposure apparatus shown in FIG.

【図3】図1に示す露光装置の下枠および基板を示す拡
大断面図である。
3 is an enlarged cross-sectional view showing a lower frame and a substrate of the exposure apparatus shown in FIG.

【図4】図3の一部切欠平面図である。FIG. 4 is a partially cutaway plan view of FIG.

【図5】本発明に係る露光装置の原版フィルム清掃状態
を示す説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing a cleaning state of the original film of the exposure apparatus according to the present invention.

【図6】本発明に係る露光装置の原版フィルム清掃後の
状態を示す説明図である。
FIG. 6 is an explanatory view showing a state after cleaning the original film of the exposure apparatus according to the present invention.

【図7】本発明に係る露光装置のクリーンローラ清掃状
態を示す説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a clean roller cleaning state of the exposure apparatus according to the present invention.

【図8】本発明の第2の実施例の下枠および基板を示す
拡大断面図である。
FIG. 8 is an enlarged sectional view showing a lower frame and a substrate of a second embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 下原版フィルム 2 上原版フィルム 3 基板 4 露光部 5 基板投入部 6 搬送手段 8 下枠 9 上枠 10 第1のアライメント手段(枠位置合わせ手
段) 12,13 露光用光源 40 クリーンローラユニット 44 ピニオン(駆動手段) 46,47 ラック(駆動手段) 56,57 クリーンローラ 58 粘着テープロール
1 Lower original film 2 Upper original film 3 Substrate 4 Exposure part 5 Substrate input part 6 Conveying means 8 Lower frame 9 Upper frame 10 First alignment means (frame position adjusting means) 12, 13 Light source for exposure 40 Clean roller unit 44 Pinion (Driving means) 46, 47 Rack (driving means) 56, 57 Clean roller 58 Adhesive tape roll

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 1対の原版フィルムを基板の上下に配設
した状態で上記基板の両面に同時露光可能な露光部と、
上記露光部に隣接して設けられ未露光の基板が供給され
る基板投入部と、上記露光部と上記基板投入部との間で
上記基板を搬送可能な搬送手段とを含み、 上記露光部には、下原版フィルムを保持する下枠と、上
記下枠と対向して設けられ上原版フィルムを保持する上
枠と、上記両枠間に配設された上記基板の両面に上記両
原版フィルムを介して露光可能な1対の露光用光源と、
上記両枠の相対位置関係を調整可能な枠位置合わせ手段
が設けられており、 上記搬送手段には、上記両枠間を進退し上記両原版フィ
ルムを清掃可能なクリーンローラユニットが設けられて
いることを特徴とする露光装置。
1. An exposure unit capable of simultaneously exposing both sides of the substrate in a state where a pair of original films are arranged above and below the substrate,
The exposure unit includes a substrate loading unit provided adjacent to the exposure unit and supplied with an unexposed substrate, and a transporting unit capable of transporting the substrate between the exposure unit and the substrate loading unit. Is a lower frame that holds the lower original film, an upper frame that is provided to face the lower frame and that holds the upper original film, and the both original films on both sides of the substrate arranged between the two frames. A pair of exposure light sources that can be exposed via
A frame aligning means capable of adjusting the relative positional relationship between the two frames is provided, and the conveying means is provided with a clean roller unit capable of advancing and retracting between the both frames and cleaning the both original films. An exposure apparatus characterized by the above.
【請求項2】 上記クリーンローラユニットは、外周部
に塵埃を付着可能な粘着部を有し回転自在に保持されて
いる1対のクリーンローラと、一方の上記クリーンロー
ラを上方へ、他方の上記クリーンローラを下方へそれぞ
れ移動させる駆動機構とを有することを特徴とする請求
項1に記載の露光装置。
2. The clean roller unit includes a pair of clean rollers rotatably held by an outer peripheral portion thereof having an adhesive portion capable of adhering dust, and one of the clean rollers upward and the other of the clean rollers. The exposure apparatus according to claim 1, further comprising a drive mechanism that moves the clean rollers downward.
【請求項3】 上記クリーンローラと当接して上記粘着
部に付着した塵埃を除去可能な粘着テープロールを有す
ることを特徴とする請求項2に記載の露光装置。
3. The exposure apparatus according to claim 2, further comprising an adhesive tape roll capable of removing dust adhering to the adhesive portion by contacting with the clean roller.
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