JP2594982Y2 - ガス処理装置とそれを用いたガス処理システム - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この考案は、プラスチック成形材
料の乾燥工程や成形工程等のプラスチック成形加工分野
やその作業場、その他の生産加工業や家庭などのあらゆ
る分野で発生する有機物等の不要なガスを処理するガス
処理装置とそれを用いたガス処理システムに関する。

【０００２】

【考案の背景】例えば、プラスチック成形加工分野を一
例に挙げて説明すれば、近年、高機能化しているプラス
チックには、難燃剤、可塑剤、安定剤等の種々の添加剤
等が添加されており、プラスチック成形材料の乾燥工程
などの成形加工中にその添加剤等がガス化し、除湿乾燥
機等の吸着剤に吸着され、除湿乾燥機能を低下させた
り、除湿乾燥機等のトラブルの原因となる現象が増加し
つつある。また、前記添加剤等が乾燥工程等の成形加工
時に系外に排出されて環境汚染の原因となったりする。

【０００３】

【従来の技術】上記問題点を解決するガス処理装置とし
て、本願出願人は、（イ） 実開平２−６８１０９号公
報に記載されたものを出願した。すなわち、排気ガス入
口に接続され、かつ排気ガス中の少なくとも粉塵と固化
されたガスとを遠心力により分離捕集するサイクロンホ
ッパーと、サイクロンホッパーの下流側に接続され、か
つ排気ガス中のガス成分に応じて任意選択し、少なくと
も固化または液化したガス物質を除去するフィルターを
有する１つ以上の吸着手段と、吸着手段の上流側に接続
され、かつ排気ガス中のガス成分に応じてガス成分を固
化または液化させるため適温に冷却するための１つ以上
の冷却手段とを備え、前記吸着手段と冷却手段とは交互
に設けてなるものである。

【０００４】また、（ロ） 特開昭５５−９４６２８号
公報に示す如く、汚染空気を加熱する加熱手段と、汚染
空気を浄化するための触媒と、該触媒の下流側に設けら
れた熱交換手段とを備えた空気浄化装置も、知られてい
る。

【０００５】

【考案が解決しようとする課題】しかるに、上記従来例
（イ）のものでは、サイクロンホッパーと１つ以上の吸
着手段と１つ以上の冷却手段を備えるとともに、前記吸
着手段と冷却手段とを交互に配置しなければならないた
め、これら各構成要素の組付作業が面倒であるばかり
か、上記吸着手段や冷却手段等の清掃時期や交換時期等
に留意する必要があり、保守管理が面倒であるなどの問
題点があった。吸着剤により不要なガスを吸着除去した
としても、その吸着剤に吸着された有機物等が燃焼し火
災の原因になるなどの新たな問題点が発生した。

【０００６】従来例（ロ）の空気浄化装置のものでは、
上記（イ）の問題点は解消できようが、加熱手段と触媒
と熱交換手段とを通された熱エネルギーの全部を循環し
て使用するものではないので、省エネルギーが完全なも
のではない。そればかりか、汚染空気を浄化した後には
空気排出口から一過式に室内等に供給するものであるた
め、上記浄化空気中に残存する有機物等が系外に排出さ
れて環境汚染の原因ともなる問題があった。

【０００７】この考案は、従来のような吸着剤を用いる
ことなく、低温活性用触媒の作用により、処理ガスを反
応させて、ガス中の有機物等を高分子化合物から低分子
化合物に分解し、処理ガス中の有機物等を浄化させるよ
うにしたものであって、構造及び保守管理も簡単で、吸
湿能力を低下させず、当該有機物などに起因する火災等
を心配する必要がなく、有機物等の不要なガスを系外に
排出させないため、環境を汚染することもない、ガス処
理装置とそれを用いたガス処理システムを提供しようと
するものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、この考案に係るガス処理装置は、処理すべきガス中
に含有している有機物等の不要なガスを浄化する、耐熱
性ペロブスカイトを含む低温活性用触媒と、この低温活
性用触媒の下流側に設けられ該低温活性用触媒よりの排
熱を回収する排熱回収用熱交換器とを備えたガス処理装
置において、前記低温活性用触媒と排熱回収用熱交換器
とは処理ガス導管で接続するとともに、排熱回収用熱交
換器の排熱出口とヒータと前記低温活性用触媒と空気源
と同排熱回収用熱交換器の排熱入口とを順次に第１排熱
循環管で接続してあることを特徴とする。この場合、同
低温活性用触媒で処理ガスを浄化してから排出される高
温のガスに対して、上記第１排熱循環管の一部から導入
した外気により、前記排熱回収用熱交換器において冷却
して、該排熱回収用熱交換器からの出口温度を低くする
ようにしてある。

【０００９】上記の場合において、低温活性用触媒自体
が所要温度に上昇しないときには、低温活性用触媒の上
流側には、同低温活性用触媒に熱を授受する処理ガス加
熱用熱交換器を設ける。例えば、処理すべぎガス中に含
有している有機物等の不要なガスを浄化する、耐熱性ペ
ロブスカイトを含む低温活性用触媒と、この低温活性用
触媒の下流側に設けられ該低温活性用触媒よりの排熱を
回収する排熱回収用熱交換器と、低温活性用触媒の上流
側に設けた処理ガス加熱用熱交換器とを備えたガス処理
装置において、前記処理ガス加熱用熱交換器と低温活性
用触媒と排熱回収用熱交換器とは、処理ガス導管で接続
するとともに、排熱回収用熱交換器の排熱出口とヒータ
と前記低温活性用触媒と空気源と同排熱回収用熱交換器
の排熱入口とを順次に第１排熱循環管で接続し、さらに
処理ガス加熱用熱交換器の排熱入口と排熱出口とには前
記第１排熱循環管の一部を共用する第２排熱循環管で接
続してなることを特徴とする構成を採ることができる。
この場合にも、上述の如く排熱回収用熱交換器からの出
口温度を低くすることができる。

【００１０】ここで、低温活性用触媒は、耐熱性に優れ
たものが良く、またハニカム状の構造体であって、その
ベース素材はセラミックスや金属などで形成するととも
に、図３の如くガスを通す目が直交型の方が好ましい。
低温活性用触媒は、使い捨てできるもの又は取り替えで
きるものでもよい。

【００１１】上記構成からなるガス処理装置は、ガス処
理装置を乾燥ユニットの後部と除湿ユニットの前部との
間に設け、このガス処理装置と乾燥ユニットと除湿ユニ
ットとは循環管で接続して排気ガスの循環回路を形成し
てなるガス処理装置を用いたガス処理システムを採用す
ることができる。

【００１２】この構成からなるガス処理装置は、前記と
同様に、ガス処理装置を乾燥ユニットの後部と除湿ユニ
ットの前部との間に設け、このガス処理装置と乾燥ユニ
ットと除湿ユニットとは循環管で接続して排気ガスの循
環回路を形成してなるガス処理装置を用いたガス処理シ
ステムを採用することができる。

【００１３】上記ガス処理システムにおいて、排熱回収
用熱交換器の下流には、少なくとも、フィルター、冷却
器、空気源、除湿ユニット及び乾燥ユニットを順次接続
するとともに、前記除湿ユニットには再生ラインを接続
して処理ガスの循環回路を構成することもできる。

【００１４】処理ガス加熱用熱交換器と低温活性用触媒
と排熱回収用熱交換器とは、処理ガス導管で接続すると
ともに、排熱回収用熱交換器の排熱出口とヒータと前記
低温活性用触媒と空気源と同排熱回収用熱交換器の排熱
入口とを順次に第１排熱循環管で接続し、さらに処理ガ
ス加熱用熱交換器の排熱入口と排熱出口とには前記第１
排熱循環管の一部を共用する第２排熱循環管で接続して
なるガス処理装置の場合には、このガス処理装置は除湿
ユニットの下流側に設け、このガス処理装置と除湿ユニ
ットとは循環管で接続して排気ガスの循環回路を形成し
てなるガス処理装置を用いたガス処理システムを採用す
ることができる。

【００１５】上記ガス処理システムにおいて、排熱回収
用熱交換器の下流には、少なくとも、フィルター、冷却
器、空気源、除湿ユニットを順次接続するとともに、前
記除湿ユニットには再生ラインを接続して処理ガスの循
環回路を構成することもできる。

【００１６】本考案は、処理すべきガス中に含有してい
る有機物等の不要なガスを浄化する、耐熱性ペロブスカ
イトを含む低温活性用触媒と、この低温活性用触媒の下
流側に設けられ該低温活性用触媒よりの排熱を回収する
排熱回収用熱交換器と、低温活性用触媒の上流側に設け
た処理ガス加熱用熱交換器とを備えたガス処理装置にお
いて、前記処理ガス加熱用熱交換器と低温活性用触媒と
排熱回収用熱交換器とは、処理ガス導管で接続するとと
もに、外気を取り入れる空気源と熱交換器とヒータと低
温活性用触媒とを順次に第１排熱循環管で接続し、さら
に処理ガス加熱用熱交換器の排熱入口と排熱出口とには
前記第１排熱循環管の一部を共用する第２排熱循環管で
接続してなることを特徴とするガス処理装置を採用する
こともできる。

【００１７】前記ガス処理装置は、乾燥ユニットの後部
と除湿ユニットの前部との間に設け、このガス処理装置
と乾燥ユニットと除湿ユニットとは循環管で接続して排
気ガスの循環回路を形成してなるガス処理装置を採用す
ることができる。

【００１８】上記ガス処理システムにおいて、排熱回収
用熱交換器の下流には、少なくとも、フィルター、冷却
器、空気源、除湿ユニット及び乾燥ユニットを順次接続
して、処理ガスの循環回路を構成することができる。

【００１９】前記循環回路を構成した場合に、排熱回収
用熱交換器は外気を取り入れるとともに出口は再生ライ
ン管の一端と接続し、この再生ライン管には再生用空気
源、排熱回収用熱交換器、再生ヒータ、前記除湿ユニッ
ト及び熱交換器を順次に接続すると好適である。

【００２０】

【第１実施例】図１は、本考案のガス処理装置の第１実
施例のフロー図を示す。このガス処理装置１は、処理す
べきガス中に含有している有機物等の不要なガスを浄化
する耐熱性ペロブスカイトを含む低温活性用触媒２と、
この低温活性用触媒２の下流側に設けられ該低温活性用
触媒２よりの排熱を回収する排熱回収用熱交換器３とを
備えている。前記低温活性用触媒２と排熱回収用熱交換
器３とは、処理ガス導管４で接続するとともに、排熱回
収用熱交換器３の排熱出口３ｂとヒータ５と前記低温活
性用触媒２と空気源６と同排熱回収用熱交換器３の排熱
入口３ａとを順次に第１排熱循環管７で接続してある。

【００２１】前記空気源６の吸込側には第１排熱循環管
７の一部をなす配管の先端にフィルター８を取り付け、
このフィルター８から第１排熱循環管７の一部に外気を
取り入れて、前記排熱回収用熱交換器３の排出出口３ｄ
から排出される処理済ガスの温度を低くするようにして
あり、所望温度に低くなった処理済ガスはフィルター９
を経て系外に排出するようになっている。３ｃは処理済
ガスを通す排熱回収用熱交換器３の入口である。

【００２２】

【第２実施例】図２は、本考案のガス処理装置の第２実
施例のフロー図を示す。このガス処理装置１は、図１で
示した低温活性用触媒２と排熱回収用熱交換器３のほか
に、前記低温活性用触媒２の上流側に処理ガスを加熱す
る処理ガス加熱用熱交換器１０を設けている。

【００２３】前記処理ガス加熱用熱交換器１０と低温活
性用触媒２と排熱回収用熱交換器３とは、処理ガス導管
４で接続するとともに、排熱回収用熱交換器３の排熱出
口３ｂとヒータ５と前記低温活性用触媒２と空気源６と
同排熱回収用熱交換器３の排熱入口３ａとを順次に第１
排熱循環管７で接続し、さらに処理ガス加熱用熱交換器
１０の排熱入口１０ａと排熱出口１０ｂとには前記第１
排熱循環管７の一部を共用する第２排熱循環管１１で接
続してなるものである。図１と同一符号は同様な構成を
示す。

【００２４】上記各実施例で示した低温活性用触媒２
は、例えば耐熱性のペロブスカイト（ＣａＴｉｏ_３）の
ほか数種類の非貴金属酸化物を含むペロクリーン（商標
名）などを用いるとよく、これによれば脱臭脱煙でき、
処理ガス中の炭化水素（ＨＣ）を１２０゜Ｃ以上〜４０
０゜Ｃ以下で酸化し浄化する。

【００２５】この低温活性用触媒２の形状は、図４の如
く処理ガスの通路１２をハニカム（蜂の巣）に形成した
もの、その他任意に設計できるが、図３の如くハニカム
構造体であって直交流型に形成する方が好ましい。すな
わち、図３に示す如く、不要なガスを含む処理ガスの流
れイを図において前後方向に形成したハニカム状の処理
ガス通路１２・・・１２と、この処理ガス通路１２の流
れイに対し交差する左右方向において、前記処理ガス通
路１２と段違い状態位置に形成したハニカム状のエア通
路１３・・・１３（これはエアの流れロともなる）とを
有し、このエア通路１３・・・１３の入口２ｃから前記
排熱回収用熱交換器３で熱交換されヒータ５で加熱され
たエアを導入して、出口２ｄを経て前記排熱回収用熱交
換器３に戻る循環回路を構成してある。このような直交
流型とすると、処理ガス通路１２から通される処理ガス
の加熱温度と、エア通路１３から通されるエアの加熱温
度との差により、該低温活性用触媒２自身が適正温度に
加熱され、処理ガスも間接的に加熱され該処理ガス中に
含有している有機物等が効率良く浄化される。つまり、
処理ガスをそのまま昇温するのではなく間接的に加熱す
るために、該処理ガスの表面温度が上昇することなく上
記利点が確認された。

【００２６】なお、処理ガス用熱交換器１０で処理ガス
導管４からの処理ガスを充分に加熱できる場合には、前
述した第１排熱循環導管７中の入口２ｃから処理ガス出
口２ｄのラインはなくてもよい。

【００２７】図２で示された処理ガス加熱用熱交換器１
０は、既述したように、低温活性用触媒２が所望温度に
上昇しないときに、同低温活性用触媒２を補完的に昇温
する役割を担うものである限り任意構成を採り得るが、
前記第２実施例では図５〜図８に示す構成を採用してい
る。

【００２８】すなわち、この場合の処理ガス加熱用熱交
換器１０は、セラミックヒータと称されるもので、空気
を通過させるだけで簡単に温風が得られ、ある程度の温
度域になると自己抵抗によってそれ以上の温度には上昇
せず、過熱の恐れがなく、ヒーター表面温度が高温とは
ならない（通常のヒーター表面温度４００゜Ｃ以上のも
のがセラミックヒーターでは最大で２６０゜Ｃ）と安定
した温度が得られるものである。このセラミックヒータ
ーを用いると、処理ガス中の有機物等の表面温度を過度
に上昇させることがなく焼損したり、火災の発生を心配
することがない。 図５〜図８において、処理ガス加熱
用熱交換器１０は、所定の温度以上になると抵抗値が急
激に上昇する性質をもつチタン酸バリウムを主成分とす
る半導体セラミックスからなる発熱体１４に、放熱効率
の優れたハニカム状のフィン１５を接着剤などで接合し
たヒータ本体１６と、このヒータ本体１６を被覆する枠
体１７とからなっている。１８はハニカム状のフィン１
５、１５同士間の仕切板、１９はフィン１５の一端側に
突設した端子である。

【００２９】そこで、端子１９に電圧を印加すると、フ
ィン１５を通じて発熱体１４に電流が流れ該発熱体１４
が発熱する。フアンを用いて直接空気を通過させると、
フィン１５の熱が空気に伝わって一定温度の温風が得ら
れる。なお、上記図５〜図８ではヒータ本体１６は２個
並列しているが、１個でもよいし３個以上配列してもよ
い。

【００３０】図９〜図１１は、ケース本体２０内に処理
ガスの流れイから見て上流側には前記図５〜図８に示し
た構造の処理ガス加熱用熱交換器１０を、その下流側に
は図３に示した構造の低温活性用触媒２を内装し、該ケ
ース本体２０の一端側には処理ガス導管４でもある短管
２１を、他端側には処理ガス導管４でもある接続管２２
を接続したガス処理装置を示しており、このユニット化
されたガス処理装置を既設のガス処理システムに組み込
んで使用することができる。この場合の処理ガス加熱用
熱交換器１０及び低温活性用触媒２はそれぞれ取り替え
できるようになっている。このユニット構造のほかに、
図９〜図１１のケース本体２０の他端側に排熱回収用熱
交換器３を組み込んだものをユニット化できるし、図１
の低温活性用触媒２と排熱回収用熱交換器３を組み込ん
だものもユニット化でき、また図２のものや後述する図
１２中のガス処理装置１部分をユニット化することもで
き、種々の構成要素を組み込むことができる。

【００３１】

【第３実施例】図１３に示されているガス処理装置１
は、これ単独でも実施できる。このガス処理装置１は、
処理ガス加熱用熱交換器１０と低温活性用触媒２と排熱
回収用熱交換器３とは、処理ガス導管４で接続するとと
もに、外気を取り入れる空気源６と熱交換器２６とヒー
タ１４と低温活性用触媒２とを順次に第１排熱循環管７
で接続し、さらに処理ガス加熱用熱交換器１０の排熱入
口１０ａと排熱出口１０ｂとには前記第１排熱循環管７
の一部を共用する第２排熱循環管１１で接続してある。
ごの場合も、このガス処理装置１のユニット化部分だけ
を既設のガス処理装置システムに組み込んで使用するこ
とができる。なお、２８はフィルターであり、その他前
記各実施例と同一符号は同様な構成を示す。

【００３２】前述のように構成されたガス処理装置１を
用いたガス処理システムについて、図１２と図１３に基
づいて以下に説明する。

【００３３】図１２は第１のガス処理システムを示して
いる。このガス処理システム４０は、図２に示されたガ
ス処理装置１が、乾燥ヒーター４２とホッパー４３から
なるいわゆるホッパードライヤー式の乾燥ユニット４１
の後部と、ハニカム式回転除湿機等からなる除湿ユニッ
ト４４の前部との間に設けられ、上記ガス処理装置１と
乾燥ユニット４１と除湿ユニット４４とは循環管４５で
接続して排気ガスの循環回路ａを形成している。前述し
た処理ガス導管４は循環管４５としても共用してある。
排熱回収用熱交換器３の下流には、少なくともフィルタ
ー９、冷却器４６、空気源４７、除湿ユニット４４及び
乾燥ユニット４１を順次接続するとともに、前記除湿ユ
ニット４４には再生ラインｃが配管４８、４９、５０で
接続してある。５１は再生フィルター、５２は再生ブロ
ワ（空気源）、５３は再生用熱交換器、５４は再生ヒー
タであって、除湿ユニット４４の吸着剤を再生するよう
にしてある。なお、３０はフィルターであって必須なも
のではない。

【００３４】上記構成において、乾燥ユニット４１をな
くして、循環回路ｂを図１２の点線の如く構成すること
ができる。すなわち、ガス処理装置１を除湿ユニット４
４の下流側に設け、このガス処理装置１と除湿ユニット
４４とは循環管４５ａで接続して排気ガスの循環回路ｂ
を形成するとともに、排熱回収用熱交換器３の下流に
は、少なくとも、フィルター９、冷却器４６、空気源４
７、除湿ユニット４４を順次接続してなるものである。

【００３５】なお、図１で示したガス処理装置１を、図
１２におけるガス処理装置１と置き変えたシステムも採
用することができる。また、この場合も上述の如く循環
回路ｂのラインを構成することもできる。

【００３６】図１３は第２のガス処理システムを示して
いる。このガス処理システム６０は、ガス処理装置１を
乾燥ユニット４１の後部と除湿ユニット４４の前部との
間に設け、このガス処理装置１と乾燥ユニット４１と除
湿ユニット４４とは循環管４５で接続して排気ガスの循
環回路ａを形成するとともに、排熱回収用熱交換器３の
下流には、少なくとも、フィルター９、冷却器４６、空
気源４７、除湿ユニット４４及び乾燥ユニット４１を順
次接続するとともに、上記除湿ユニット４４には再生ラ
インｃが接続してある。また、排熱回収用熱交換器３の
排熱入口３ａからはフィルター８を介して一部外気を取
り入れるとともに、排熱出口３ｂは再生ラインｃを形成
する再生ライン管６１の一端と接続し、この再生ライン
管６１には再生用空気源５２、排熱回収用熱交換器３、
再生ヒータ５４、前記除湿ユニット４４及び排熱回収用
熱交換器２６を順次に接続して、熱交換器２６から排気
する構成を採用しているものである。

【００３７】なお、図中の６２は除湿ユニット４４の吸
着剤を冷却する冷却ライン管である。また再生ライン管
６１の他端を前記熱交換器２６に接続することなく、除
湿ユニット４４を通過した再生用ガスは系外に排出する
こともできる。

【００３８】図１２のガス処理システムのフローに沿っ
て、本考案の一実施例の作用について以下に説明する。
乾燥ユニット４１のホッパー４３に供給されたプラ
スチック原料等の粉粒体を、乾燥ヒータ４２で加熱し乾
燥する場合を例示すると、先ず、除湿ユニット４４で水
分を減少されたエアを前記乾燥ヒータ４２で加熱して、
所望含水率まで除湿された除湿エアがホッパー４３内の
粉粒体を乾燥しホッパー４３の排出口から粉粒体を排出
する。一方、ホッパー４３内で粉粒体を除湿した後の有
機物を含有する排気ガス（つまり処理ガス）は、該ホッ
パー４３上部に接続した循環管４５により、フィルター
３０を経てガス処理装置１に通される。

【００３９】 次に、ガス処理装置１に通された処理
ガスは、低温活性用触媒２で浄化できる温度域に達して
いないときには、処理ガス加熱用熱交換器１０が周りか
ら受けた熱により該低温活性用触媒２を所望温度以上で
加熱し活性化して、処理ガス中の有機物等を浄化する。
例えば、有機物等の高分子化合物を低分子化合物とす
る。浄化後の高温となっている処理ガスは、排熱回収用
熱交換器３に通されて、ここでフィルター８を介して供
給された外気の一部と熱交換されながら、下流のフィル
ター９を経て冷却器４６で冷却され前記除湿ユニット４
４を経て乾燥ユニット４１に循環される。

【００４０】 一方、前記排熱回収用熱交換器３の排
熱出口３ｂからの徘熱はヒータ５で所定温度まで再加熱
され第１排熱循環管７により前記低温活性用触媒２を加
熱する。その加熱後の熱は出口２ｄより第１排熱循環管
７の下流を通り空気源６を経て排熱回収用熱交換器３へ
通される。また、排熱回収用熱交換器３の排熱は、前記
第２排熱循環管１１により処理ガス加熱用熱交換器１０
にも通され、ここでも排熱の再利用を図るようにしてい
る。

【００４１】除湿ユニット４４の吸着剤は、再生ライン
ｃから供給される再生用の加熱エネルギーにより再生さ
れるようになっている。

【００４２】

【考案の効果】（１） 請求項１の考案によれば、処理
すべきガス中に含有している有機物等の不要なガスを浄
化する、耐熱性ペロブスカイトを含む低温活性用触媒
と、この低温活性用触媒の下流側に設けられ該低温活性
用触媒よりの排熱を回収する排熱回収用熱交換器とを備
え、前記低温活性用触媒と排熱回収用熱交換器とは処理
ガス導管で接続するとともに、排熱回収用熱交換器の排
熱出口とヒータと前記低温活性用触媒と空気源と同排熱
回収用熱交換器の排熱入口とを順次に第１徘熱循環管で
接続してあるから、従来のような吸着剤を用いることな
く、低温活性用触媒の作用により、従来より低温で処理
ガスを反応させて、ガス中の有機物等を高分子化合物か
ら低分子化合物に分解し、処理ガス中の有機物等を浄化
することができる。しかも、低温活性用触媒の作用と、
第１排熱循環管における空気源からの外気の導入とによ
り、処理すべきガス中の有機物質が低温で処理できると
ともに、当該有機物などに起因する火災等を心配する必
要がない。また、第１排熱循環管を設けているため、有
機物等の不要なガスを系外に排出させないため環境を汚
染することもない。

【００４３】（２） 請求項２の考案によれば、上記低
温活性用触媒と排熱回収用熱交換器のほかに、低温活性
用触媒の上流側には処理ガス加熱用熱交換器を設けると
ともに、上記第１排熱循環管のほかに、前述した如き第
２排熱循環管を設けているから、上記（１）と同様の効
果があるとともに、処理ガス加熱用熱交換器で処理ガス
を適温で加熱することができる。

【００４４】（３） 請求項１、２及び８記載のよう
に、第１排熱循環管および／または第２排熱循環管、ヒ
ータ、空気源を備えたことにより、排熱回収用熱交換器
からの排熱を再利用することができ、熱エネルギーの大
幅な節減ができる。

【００４５】（４） 請求項３、４、５、６、７、９、
１０、１１のように構成したガス処理システムによれ
ば、乾燥工程等の処理ガスの処理中において、該有機物
等が系外に排出されて環境汚染の原因となることもな
い。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案のガス処理装置の第１実施例のフロー図
である。

【図２】本考案のガス処理装置の第２実施例のフロー図
である。

【図３】低温活性用触媒の直交流型の概略斜視図であ
る。

【図４】低温活性用触媒の他の概略斜視図である。

【図５】処理ガス加熱用熱交換器の一部を断面で示した
正面図である。

【図６】図５の平面図である。

【図７】図５の右側面図である。

【図８】図５の底面図である。

【図９】ユニット化されたガス処理装置の一例の正面図
である。

【図１０】図９の平面図である。

【図１１】図９の右側面図である。

【図１２】第１のガス処理システムのフロー図である。

【図１３】第２のガス処理システムのフロー図である。

【符号の説明】

１ ガス処理装置 ２ 低温活性用触媒 ３ 排熱回収用熱交換器 ４ 処理ガス導管 ５ ヒータ ６ 空気源 ７ 第１排熱循環管 １０ 処理ガス加熱用熱交換器 １１ 第２排熱循環管 １２ 処理ガス通路 １４ 発熱体 １５ フィン １６ ヒータ本体 ２６ 熱交換器 ２７ ヒータ ４０ 第１ガス処理システム ４１ 乾燥ユニット ４２ 乾燥ヒータ ４３ ホッパー ４４ 除湿ユニット ４５、４５ａ 循環管 ４６ 冷却器 ４７ 空気源 ４８、４９ 配管 ５０ 配管 ５１ 再生フィルター ５３ 再生用熱交換器 ５４ 再生ヒータ ６０ 第２ガス処理システム ６１ 再生ライン管 ａ 循環回路 ｂ 循環回路 ｃ 再生ライン

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) B01D 53/86

Claims (11)

(57)【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理すべきガス中に含有している有機物
   等の不要なガスを浄化する、耐熱性ペロブスカイトを含
   む低温活性用触媒と、この低温活性用触媒の下流側に設
   けられ該低温活性用触媒よりの排熱を回収する排熱回収
   用熱交換器とを備えたガス処理装置において、 前記低温活性用触媒と排熱回収用熱交換器とは処理ガス
   導管で接続するとともに、排熱回収用熱交換器の排熱出
   口とヒータと前記低温活性用触媒と空気源と同排熱回収
   用熱交換器の排熱入口とを順次に第１排熱循環管で接続
   してあることを特徴とするガス処理装置。
2. 【請求項２】 処理すべきガス中に含有している有機物
   等の不要なガスを浄化する、耐熱性ペロブスカイトを含
   む低温活性用触媒と、この低温活性用触媒の下流側に設
   けられ該低温活性用触媒よりの排熱を回収する排熱回収
   用熱交換器と、低温活性用触媒の上流側に設けた処理ガ
   ス加熱用熱交換器とを備えたガス処理装置において、 前記処理ガス加熱用熱交換器と低温活性用触媒と排熱回
   収用熱交換器とは、処理ガス導管で接続するとともに、
   排熱回収用熱交換器の排熱出口とヒータと前記低温活性
   用触媒と空気源と同排熱回収用熱交換器の排熱入口とを
   順次に第１排熱循環管で接続し、さらに処理ガス加熱用
   熱交換器の排熱入口と排熱出口とには前記第１排熱循環
   管の一部を共用する第２排熱循環管で接続してなること
   を特徴とするガス処理装置。
3. 【請求項３】 請求項１に記載されたガス処理装置を乾
   燥ユニットの後部と除湿ユニットの前部との間に設け、
   このガス処理装置と乾燥ユニットと除湿ユニットとは循
   環管で接続して排気ガスの循環回路を形成してなるガス
   処理装置を用いたガス処理システム。
4. 【請求項４】 請求項２に記載されたガス処理装置を乾
   燥ユニットの後部と除湿ユニットの前部との間に設け、
   このガス処理装置と乾燥ユニットと除湿ユニットとは循
   環管で接続して排気ガスの循環回路を形成してなるガス
   処理装置を用いたガス処理システム。
5. 【請求項５】 排熱回収用熱交換器の下流には、少なく
   とも、フィルター、冷却器、空気源、除湿ユニット及び
   乾燥ユニットを順次接続するとともに、前記除湿ユニッ
   トには再生ラインを接続してある請求項４記載のガス処
   理装置を用いたガス処理システッム。
6. 【請求項６】 請求項２に記載されたガス処理装置を除
   湿ユニットの下流側に設け、このガス処理装置と除湿ユ
   ニットとは循環管で接続して排気ガスの循環回路を形成
   してなるガス処理装置を用いたガス処理システム。
7. 【請求項７】 排熱回収用熱交換器の下流には、少なく
   とも、フィルター、冷却器、空気源、除湿ユニットを順
   次接続するとともに、前記除湿ユニットには再生ライン
   を接続してある請求項６記載のガス処理装置を用いたガ
   ス処理システム。
8. 【請求項８】 処理すべきガス中に含有している有機物
   等の不要なガスを浄化する、耐熱性ペロブスカイトを含
   む低温活性用触媒と、この低温活性用触媒の下流側に設
   けられ該低温活性用触媒よりの排熱を回収する排熱回収
   用熱交換器と、低温活性用触媒の上流側に設けた処理ガ
   ス加熱用熱交換器とを備えたガス処理装置において、 前記処理ガス加熱用熱交換器と低温活性用触媒と排熱回
   収用熱交換器とは、処理ガス導管で接続するとともに、
   外気を取り入れる空気源と熱交換器とヒータと低温活性
   用触媒とを順次に第１排熱循環管で接続し、さらに処理
   ガス加熱用熱交換器の排熱入口と排熱出口とには前記第
   １排熱循環管の一部を共用する第２排熱循環管で接続し
   てなることを特徴とするガス処理装置。
9. 【請求項９】 請求項８に記載されたガス処理装置を乾
   燥ユニットの後部と除湿ユニットの前部との間に設け、
   このガス処理装置と乾燥ユニットと除湿ユニットとは循
   環管で接続して排気ガスの循環回路を形成してなるガス
   処理装置を用いたガス処理システム。
10. 【請求項１０】 排熱回収用熱交換器の下流には、少な
    くとも、フィルター、冷却器、空気源、除湿ユニット及
    び乾燥ユニットを順次接続するとともに、前記除湿ユニ
    ットには再生ラインが接続してある請求項９記載のガス
    処理装置を用いたガス処理システム。
11. 【請求項１１】 排熱回収用熱交換器は外気を取り入れ
    るとともに出口は再生ライン管の一端と接続し、この再
    生ライン管には再生用空気源、排熱回収用熱交換器、再
    生ヒータ、前記除湿ユニット及び熱交換器を順次に接続
    してなる請求項１０記載のガス処理装置を用いたガス処
    理システム。