JP2586583Y2 - パルス電子ビーム照射装置 - Google Patents
パルス電子ビーム照射装置Info
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- JP2586583Y2 JP2586583Y2 JP5995193U JP5995193U JP2586583Y2 JP 2586583 Y2 JP2586583 Y2 JP 2586583Y2 JP 5995193 U JP5995193 U JP 5995193U JP 5995193 U JP5995193 U JP 5995193U JP 2586583 Y2 JP2586583 Y2 JP 2586583Y2
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- JP
- Japan
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- electron beam
- anode
- pulsed electron
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- beam irradiation
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本考案はパルス電子ビーム照射装
置に関する。
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】パルス電子ビーム照射装置において、真
空中に配置したカソードとアノードとの間に高電圧パル
スを印加させて大電流のパルス電子ビームを発生させ、
これを多孔、メッシュ或は薄膜のアノードを透過させ
て、被照射物に照射するようにした構成は、既によく知
られている。
空中に配置したカソードとアノードとの間に高電圧パル
スを印加させて大電流のパルス電子ビームを発生させ、
これを多孔、メッシュ或は薄膜のアノードを透過させ
て、被照射物に照射するようにした構成は、既によく知
られている。
【０００３】このようなパルス電子ビーム照射装置の利
用目的の一つとして、たとえば気体レーザ励起のため
に、被照射物であるガス中にパルス電子ビームを打ち込
んでガスを励起し、あるいは電離させることがあげられ
る。その構成を示したのが図３である。同図において１
は内部が真空の容器、２は絶縁スペーサ３により支持さ
れているカソード、４はアノードで、多孔、メッシュ状
あるいは薄膜状に形成されている。５はカソード２とア
ノード４との間に高電圧パルスを印加するパルス電源、
６は電子ビーム、７は被照射物であるであるガスが封入
されてある照射領域である。
用目的の一つとして、たとえば気体レーザ励起のため
に、被照射物であるガス中にパルス電子ビームを打ち込
んでガスを励起し、あるいは電離させることがあげられ
る。その構成を示したのが図３である。同図において１
は内部が真空の容器、２は絶縁スペーサ３により支持さ
れているカソード、４はアノードで、多孔、メッシュ状
あるいは薄膜状に形成されている。５はカソード２とア
ノード４との間に高電圧パルスを印加するパルス電源、
６は電子ビーム、７は被照射物であるであるガスが封入
されてある照射領域である。
【０００４】照射領域７にはガスがたとえば１気圧乃至
３気圧程度に封入されてあり、このガスに電子ビームが
打ち込まれる。この場合、アノード４がカソード２側の
真空領域と照射領域７との圧力の差に耐えることができ
るように、ヒバチ構造と呼ばれている金属製の支持体８
を利用し、これによりアノード４を支持するようにして
いる。
３気圧程度に封入されてあり、このガスに電子ビームが
打ち込まれる。この場合、アノード４がカソード２側の
真空領域と照射領域７との圧力の差に耐えることができ
るように、ヒバチ構造と呼ばれている金属製の支持体８
を利用し、これによりアノード４を支持するようにして
いる。
【０００５】すなわち、支持体８は前記した圧力差に耐
えられるように、その厚みを厚くとも１ｍｍ程度の厚さ
のアノード４に対して、これよりも充分に厚いもの、た
とえば１ｃｍ以上の厚さのものが使用される。そしてこ
れにはたとえば複数の長孔９が形成されてあり（図２を
参照）、その前面（カソード２側）にアノード４が支持
されてあり、また後面側には、金属膜あるいは導電性薄
膜をコートした絶縁フィルムなどからなる電子透過膜１
０が支持されてある。
えられるように、その厚みを厚くとも１ｍｍ程度の厚さ
のアノード４に対して、これよりも充分に厚いもの、た
とえば１ｃｍ以上の厚さのものが使用される。そしてこ
れにはたとえば複数の長孔９が形成されてあり（図２を
参照）、その前面（カソード２側）にアノード４が支持
されてあり、また後面側には、金属膜あるいは導電性薄
膜をコートした絶縁フィルムなどからなる電子透過膜１
０が支持されてある。
【０００６】アノード４を通過した電子ビームは長孔９
内を通り、および電子透過膜１０を透過して照射領域７
のガス中に打ち込まれる。また照射領域７内のガスは、
電子透過膜１０によって真空領域には侵入し得ない。な
お支持体８は容器１に支持されている。
内を通り、および電子透過膜１０を透過して照射領域７
のガス中に打ち込まれる。また照射領域７内のガスは、
電子透過膜１０によって真空領域には侵入し得ない。な
お支持体８は容器１に支持されている。
【０００７】しかしこのような構成によると、支持体８
はアース電位とされているため、発生した電子ビームの
一部が、支持体８の長孔９の内壁に引き寄せられて捕捉
されることがある。また電子ビーム自身の大量の電荷の
ために、長孔９内に仮想アノードと呼ばれる空間電荷層
が形成され、ビームは反発したり、あるいはアノード側
に逆戻りすることがある。そのため電子ビームの出力が
減少するという問題が生じる。
はアース電位とされているため、発生した電子ビームの
一部が、支持体８の長孔９の内壁に引き寄せられて捕捉
されることがある。また電子ビーム自身の大量の電荷の
ために、長孔９内に仮想アノードと呼ばれる空間電荷層
が形成され、ビームは反発したり、あるいはアノード側
に逆戻りすることがある。そのため電子ビームの出力が
減少するという問題が生じる。
【０００８】
【考案が解決しようとする課題】本考案は、アノードを
分厚いヒバチ構造の支持体により支持した場合でも、電
子ビーム出力の減少を回避することを目的とする。
分厚いヒバチ構造の支持体により支持した場合でも、電
子ビーム出力の減少を回避することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本考案は、ヒバチ構造の
支持体に設けられている長孔の内壁を、絶縁物によって
覆ってなることを特徴とする。
支持体に設けられている長孔の内壁を、絶縁物によって
覆ってなることを特徴とする。
【００１０】
【作用】アノードを通過した電子ビームが支持体の長孔
内を通過する際、この長孔の内壁を絶縁物が覆っている
ことにより、電子ビームが長孔の内壁に捕捉されること
はない。また電子ビームがこの絶縁物に衝突しても、こ
の衝突によって絶縁物自身、絶縁物の表層に吸着、吸蔵
しているガスをプラズマ化させる。
内を通過する際、この長孔の内壁を絶縁物が覆っている
ことにより、電子ビームが長孔の内壁に捕捉されること
はない。また電子ビームがこの絶縁物に衝突しても、こ
の衝突によって絶縁物自身、絶縁物の表層に吸着、吸蔵
しているガスをプラズマ化させる。
【００１２】このプラズマ中のイオンにより電子ビーム
の電荷は中和され、仮想アノードの生成を阻止する。こ
れにより電子ビームは支持体中をその出力の減少をみる
ことなく通過していくようになる。
の電荷は中和され、仮想アノードの生成を阻止する。こ
れにより電子ビームは支持体中をその出力の減少をみる
ことなく通過していくようになる。
【００１３】
【実施例】本考案の実施例を図１によって説明する。な
お図３と同じ符号を付した部分は同一または対応する部
分を示す。本考案にしたがい、支持体８に形成されてあ
る長孔９の内面を絶縁物１１により覆ってある。絶縁物
１１としては、アルミナセラミックなどのセラミック、
或はアクリル、ナイロン、エポキシなどのプラスチック
が利用できる。これらを内壁に取り付けるなり、コーテ
ィングするなどして長孔の内壁を覆う。
お図３と同じ符号を付した部分は同一または対応する部
分を示す。本考案にしたがい、支持体８に形成されてあ
る長孔９の内面を絶縁物１１により覆ってある。絶縁物
１１としては、アルミナセラミックなどのセラミック、
或はアクリル、ナイロン、エポキシなどのプラスチック
が利用できる。これらを内壁に取り付けるなり、コーテ
ィングするなどして長孔の内壁を覆う。
【００１４】以上の構成において、カソード２からのパ
ルス電子ビーム６は、アノード４を通過して支持体８の
長孔９に入っても、その内壁が絶縁物１１により覆われ
ているため、その内壁に捕捉されることなく通過する。
また絶縁物１１に電子ビームが衝突することにより、そ
の絶縁物自身、絶縁物の表層に吸着、吸蔵しているガス
をプラズマ化させる。このプラズマ中のイオンにより電
子ビームの電荷は中和され、仮想アノードの生成を阻止
する。以上のようにして電子ビーム６は支持体８中をそ
の出力の減少をみることなく通過していくようになる。
ルス電子ビーム６は、アノード４を通過して支持体８の
長孔９に入っても、その内壁が絶縁物１１により覆われ
ているため、その内壁に捕捉されることなく通過する。
また絶縁物１１に電子ビームが衝突することにより、そ
の絶縁物自身、絶縁物の表層に吸着、吸蔵しているガス
をプラズマ化させる。このプラズマ中のイオンにより電
子ビームの電荷は中和され、仮想アノードの生成を阻止
する。以上のようにして電子ビーム６は支持体８中をそ
の出力の減少をみることなく通過していくようになる。
【００１５】なお前述した実施例は、パルス電子ビーム
を気体レーザの励起に使用した場合の例であったが、こ
れに限られるものではなく、たとえば被照射物が排ガス
であって、その脱硫、脱硝に使用する場合にも、また被
照射物が金属、プラスチック成形物であって、その表面
などの加工に使用する場合でも、本考案は適用可能であ
る。
を気体レーザの励起に使用した場合の例であったが、こ
れに限られるものではなく、たとえば被照射物が排ガス
であって、その脱硫、脱硝に使用する場合にも、また被
照射物が金属、プラスチック成形物であって、その表面
などの加工に使用する場合でも、本考案は適用可能であ
る。
【００１６】
【考案の効果】以上説明したように本考案によれば、大
気圧あるいは高気圧雰囲気中にある被照射物に電子ビー
ムを打ち込むための電子線照射装置において、分厚い支
持体によりアノードと電子透過膜を支持する場合でも、
この支持体による電子ビームの出力の減少を阻止するこ
とができる効果を奏する。
気圧あるいは高気圧雰囲気中にある被照射物に電子ビー
ムを打ち込むための電子線照射装置において、分厚い支
持体によりアノードと電子透過膜を支持する場合でも、
この支持体による電子ビームの出力の減少を阻止するこ
とができる効果を奏する。
【図１】本考案の実施例を示す断面図である。
【図２】図１のヒバチ構造の支持体の正面図である。
【図３】従来例の構成を示す断面図である。
１ 真空の容器 ２ カソード ４ アノード ５ パルス電源 ６ パルス電子ビーム ７ 照射領域 ８ 支持体 ９ 長孔 １１ 絶縁物
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01S 3/0959 G21K 5/04
Claims (1)
- 【請求項１】 真空中に配置してあるカソードからのパ
ルス電子ビームを、アノードを透過して被照射体に照射
するパルス電子ビーム照射装置において、前記アノード
を、前記パルス電子ビームが通過する複数の長孔が形成
されてある金属製の支持体の、前記カソード側の面に支
持するとともに、前記支持体の前記被照射体側の面に、
電子透過膜を支持し、かつ前記長孔の内壁を絶縁物で覆
ってなるパルス電子ビーム照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5995193U JP2586583Y2 (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | パルス電子ビーム照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5995193U JP2586583Y2 (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | パルス電子ビーム照射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0727176U JPH0727176U (ja) | 1995-05-19 |
| JP2586583Y2 true JP2586583Y2 (ja) | 1998-12-09 |
Family
ID=13127969
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5995193U Expired - Lifetime JP2586583Y2 (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | パルス電子ビーム照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2586583Y2 (ja) |
-
1993
- 1993-09-30 JP JP5995193U patent/JP2586583Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0727176U (ja) | 1995-05-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081002 Year of fee payment: 10 |
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| EXPY | Cancellation because of completion of term |