JP2572928B2 - 二重の中間層を有する感光性ラミネート - Google Patents
二重の中間層を有する感光性ラミネートInfo
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/3452—Solder masks
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばプリント回路板
工業に使用される感光性ラミネートまたはドライフィル
ムに関する。ドライフィルムは一次レジスト層を提供す
るフィルム、あるいは例えばソルダマスクのような硬い
恒久層を形成するためのフィルムのいずれかであること
ができる。特に本発明は、ネガ作用性であり、アルカリ
性水溶液で現像できる光像映性の(photoimageable)組成
物層を保護するための高分子材料の層を含むドライフィ
ルムに関する。
工業に使用される感光性ラミネートまたはドライフィル
ムに関する。ドライフィルムは一次レジスト層を提供す
るフィルム、あるいは例えばソルダマスクのような硬い
恒久層を形成するためのフィルムのいずれかであること
ができる。特に本発明は、ネガ作用性であり、アルカリ
性水溶液で現像できる光像映性の(photoimageable)組成
物層を保護するための高分子材料の層を含むドライフィ
ルムに関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】基材に
光像映性の層を提供するための原ドライフィルムは、例
えばプリント回路板を形成するためのブランクへの一次
レジストの場合、またはプリント回路板にソルダマスク
を形成する組成物の場合、サポートまたはカバーシー
ト、光像映性の組成物層、及び保護シートよりなる。サ
ポートシートはドライフィルムをロール巻きするに十分
な柔軟性があり、また広げた場合に概ね平らな形状を保
持するために十分な剛性を有する必要があり、これは通
常ポリエチレンテレフタレートのようなポリエステルシ
ートである。保護シートは光像映性の組成物層の向かい
側に広がり、光像映性の組成物層がサポートシートの下
側に粘着せずにドライフィルムをロール巻きすることを
可能にする。本発明は特に、ネガ作用性の、アルカリ性
水溶液で現像できる光像映性の組成物に関する。このタ
イプの一次イメージング用の光像映性の組成物は、例え
ば米国特許第 4239849号に記載されており、この教示は
ここで参照して含まれる。このタイプのソルダマスク形
成用組成物は、例えば米国特許第 4789629号に記載され
ており、この教示はここで参照して含まれる。ここでソ
ルダマスクは、IPC-SM-840A, Table 12, Summary of Cr
iteria for Qualification/Conformance (Institute fo
r Interconnecting and Packaging Electronic Circuit
s)で定められた磨耗試験を満たす硬く恒久的な層を意味
する。アルカリ性水溶液で現像できる光像映性の組成物
は、アルカリ性水溶液に可溶であるために十分なカルボ
ン酸官能価を有する高分子バインダー、光重合性モノマ
ー及び光開始剤に加え、熱安定剤、フィラー、顔料、着
色剤等のような付加的成分を含んでなる。化学線に曝露
された場合、光開始剤はフリーラジカルを発生し、モノ
マーが重合する。この重合は暴露された部分をアルカリ
性水溶液に不溶性にし、一方暴露されない部分は可溶性
のままであり、アルカリ性水溶液中での現像の際に洗い
流される。また、ソルダマスク形成用組成物は特定の付
加的な化学系を含むことがあり、それによって現像後の
硬化の際に硬質化、恒久化することができる。
光像映性の層を提供するための原ドライフィルムは、例
えばプリント回路板を形成するためのブランクへの一次
レジストの場合、またはプリント回路板にソルダマスク
を形成する組成物の場合、サポートまたはカバーシー
ト、光像映性の組成物層、及び保護シートよりなる。サ
ポートシートはドライフィルムをロール巻きするに十分
な柔軟性があり、また広げた場合に概ね平らな形状を保
持するために十分な剛性を有する必要があり、これは通
常ポリエチレンテレフタレートのようなポリエステルシ
ートである。保護シートは光像映性の組成物層の向かい
側に広がり、光像映性の組成物層がサポートシートの下
側に粘着せずにドライフィルムをロール巻きすることを
可能にする。本発明は特に、ネガ作用性の、アルカリ性
水溶液で現像できる光像映性の組成物に関する。このタ
イプの一次イメージング用の光像映性の組成物は、例え
ば米国特許第 4239849号に記載されており、この教示は
ここで参照して含まれる。このタイプのソルダマスク形
成用組成物は、例えば米国特許第 4789629号に記載され
ており、この教示はここで参照して含まれる。ここでソ
ルダマスクは、IPC-SM-840A, Table 12, Summary of Cr
iteria for Qualification/Conformance (Institute fo
r Interconnecting and Packaging Electronic Circuit
s)で定められた磨耗試験を満たす硬く恒久的な層を意味
する。アルカリ性水溶液で現像できる光像映性の組成物
は、アルカリ性水溶液に可溶であるために十分なカルボ
ン酸官能価を有する高分子バインダー、光重合性モノマ
ー及び光開始剤に加え、熱安定剤、フィラー、顔料、着
色剤等のような付加的成分を含んでなる。化学線に曝露
された場合、光開始剤はフリーラジカルを発生し、モノ
マーが重合する。この重合は暴露された部分をアルカリ
性水溶液に不溶性にし、一方暴露されない部分は可溶性
のままであり、アルカリ性水溶液中での現像の際に洗い
流される。また、ソルダマスク形成用組成物は特定の付
加的な化学系を含むことがあり、それによって現像後の
硬化の際に硬質化、恒久化することができる。
【０００３】使用においてドライフィルムを広げ、保護
シートを除去し、粘着性の光像映性の組成物層を基材に
適用する。基本的な３層ドライフィルムラミネートにお
いて、一般的な手順はアートワークをサポートシートの
上に置き、サポートシートを通して光像映性の組成物層
を露光する。次にサポートシートを除去し、光像映性の
組成物層を現像する。
シートを除去し、粘着性の光像映性の組成物層を基材に
適用する。基本的な３層ドライフィルムラミネートにお
いて、一般的な手順はアートワークをサポートシートの
上に置き、サポートシートを通して光像映性の組成物層
を露光する。次にサポートシートを除去し、光像映性の
組成物層を現像する。
【０００４】Christensen らの米国特許第 4530896号、
Kuznetsov らの同第 4318975号はサポートシートと光像
映性の組成物層の中間に一つの層を含む一次イメージン
グ用ドライフィルムを記載している。この中間層は、サ
ポートシートへの接着性に比較して光像映性の組成物層
に選択的に接着性である。この中間層は露光の前にサポ
ートシートを除去することを可能にする。一般的にかな
り粘着性の光像映性の層とは相違し、この中間層は比較
的非粘着性の物質より形成することができる。したがっ
て、アートワークを中間層の上に直接広げることができ
る。中間層はサポートシートの必要な厚さに比較してか
なり薄くできるため、良好な分解能を得ることができ
る。また、中間層はサポートシートを除去した後に、酸
素の妨害から光像映性の層を保護する。
Kuznetsov らの同第 4318975号はサポートシートと光像
映性の組成物層の中間に一つの層を含む一次イメージン
グ用ドライフィルムを記載している。この中間層は、サ
ポートシートへの接着性に比較して光像映性の組成物層
に選択的に接着性である。この中間層は露光の前にサポ
ートシートを除去することを可能にする。一般的にかな
り粘着性の光像映性の層とは相違し、この中間層は比較
的非粘着性の物質より形成することができる。したがっ
て、アートワークを中間層の上に直接広げることができ
る。中間層はサポートシートの必要な厚さに比較してか
なり薄くできるため、良好な分解能を得ることができ
る。また、中間層はサポートシートを除去した後に、酸
素の妨害から光像映性の層を保護する。
【０００５】Roosらの米国特許第 4889790号、Axonらの
同第 4992354号の教示はここで参照して含まれ、このよ
うな中間層を含むソルダマスク形成用ドライフィルムの
長所を教える。重要には、真空ラミネーションの前にサ
ポートシートの除去を可能にすることによって、プリン
ト回路板の表面形状への光像映性の層の良好な適合が得
られることを、これらの特許は教示する。
同第 4992354号の教示はここで参照して含まれ、このよ
うな中間層を含むソルダマスク形成用ドライフィルムの
長所を教える。重要には、真空ラミネーションの前にサ
ポートシートの除去を可能にすることによって、プリン
ト回路板の表面形状への光像映性の層の良好な適合が得
られることを、これらの特許は教示する。
【０００６】中間層を形成するための多数の材料が提案
されている。中間層を形成するための一般的に使用され
るタイプの材料の一つは、改質ポリビニルアルコールと
ポリビニルアルコールコポリマーを含む、ポリビニルア
ルコールである。上記の参照米国特許第 4992354号は、
ポリビニルアルコールまたはポリビニルアルコールコポ
リマーとヒドロキシエチルの混合物である中間層を記載
している。この中間層は、容易にかつ完全に除去され
て、下にある光像映性の組成物層の速い現像を可能とす
るように、水に可溶であるものが一般に選択される。
されている。中間層を形成するための一般的に使用され
るタイプの材料の一つは、改質ポリビニルアルコールと
ポリビニルアルコールコポリマーを含む、ポリビニルア
ルコールである。上記の参照米国特許第 4992354号は、
ポリビニルアルコールまたはポリビニルアルコールコポ
リマーとヒドロキシエチルの混合物である中間層を記載
している。この中間層は、容易にかつ完全に除去され
て、下にある光像映性の組成物層の速い現像を可能とす
るように、水に可溶であるものが一般に選択される。
【０００７】このような中間層について認識されている
問題は、空気中の水蒸気の吸収に起因するヘイジングで
ある。ヘイジングは光透過率を減少し、かつ透過する光
を分散させ、光速度(photospeed)の多少の低下と分解能
の低下に帰結する。ソルダマスク形成用ドライフィルム
の場合、ヘイジングは得られる製品の光沢の減少に帰結
する。ソルダマスクの光沢の不足は、乏しいフラックス
除去特性の主な原因である。本発明はヘイジングの問題
に取り組むものであり、また以降に明らかにするような
この他の長所を達成する。
問題は、空気中の水蒸気の吸収に起因するヘイジングで
ある。ヘイジングは光透過率を減少し、かつ透過する光
を分散させ、光速度(photospeed)の多少の低下と分解能
の低下に帰結する。ソルダマスク形成用ドライフィルム
の場合、ヘイジングは得られる製品の光沢の減少に帰結
する。ソルダマスクの光沢の不足は、乏しいフラックス
除去特性の主な原因である。本発明はヘイジングの問題
に取り組むものであり、また以降に明らかにするような
この他の長所を達成する。
【０００８】
【課題を解決するための手段及び作用効果】サポートシ
ート、光像映性の層、保護シートを含んでなるドライフ
ィルムにおいて、二重の中間層(dual intermediate lay
er) をサポートシートと光像映性の組成物層の間に挿入
する。この中間層は、サポートシートに隣接したトップ
コートと、サポートシートと光像映性の組成物層の間の
タイコートを含む。トップコートは中性または酸性pHの
水中では不溶であるが、希薄なアルカリ性水溶液には可
溶であり、水の吸収によってヘイジングしない高分子材
料より選択される。タイコートは水に可溶な（pHによら
ず）材料より形成され、アクリルモノマー、光開始剤、
またはこの他の溶媒に可溶な光像映性の組成物層の成分
の、トップコートへの移行を防ぐために役立つ。
ート、光像映性の層、保護シートを含んでなるドライフ
ィルムにおいて、二重の中間層(dual intermediate lay
er) をサポートシートと光像映性の組成物層の間に挿入
する。この中間層は、サポートシートに隣接したトップ
コートと、サポートシートと光像映性の組成物層の間の
タイコートを含む。トップコートは中性または酸性pHの
水中では不溶であるが、希薄なアルカリ性水溶液には可
溶であり、水の吸収によってヘイジングしない高分子材
料より選択される。タイコートは水に可溶な（pHによら
ず）材料より形成され、アクリルモノマー、光開始剤、
またはこの他の溶媒に可溶な光像映性の組成物層の成分
の、トップコートへの移行を防ぐために役立つ。
【０００９】
【実施例】図１に本発明にしたがったドライフィルムラ
ミネートを示す。中間層１は、光像映性の層４とサポー
トシート５の間に、タイコート２とトップコート３を含
んでなる。保護シート６は、光像映性の組成物層４のも
う一つの側を覆う。トップコート３は、保護シート６を
除去し、光像映性の組成物層４を基材の表面に接着し、
サポートシート５を除去したときに最も上の層となるた
め、そのように名称される。
ミネートを示す。中間層１は、光像映性の層４とサポー
トシート５の間に、タイコート２とトップコート３を含
んでなる。保護シート６は、光像映性の組成物層４のも
う一つの側を覆う。トップコート３は、保護シート６を
除去し、光像映性の組成物層４を基材の表面に接着し、
サポートシート５を除去したときに最も上の層となるた
め、そのように名称される。
【００１０】サポートシート５は、一般的な材料、通常
例えばポリエチレンテレフタレートのようなポリエステ
ルで形成され、典型的に約20〜約100 μm の厚さであ
る。そのトップコート３に接触する表面は、そのトップ
コートへの接着性を調節するために改質することができ
る。保護シート６は、同様に、光像映性の組成物層４へ
の最小限の接着性を有する、例えばポリエチレンのよう
な一般的な材料で形成される。
例えばポリエチレンテレフタレートのようなポリエステ
ルで形成され、典型的に約20〜約100 μm の厚さであ
る。そのトップコート３に接触する表面は、そのトップ
コートへの接着性を調節するために改質することができ
る。保護シート６は、同様に、光像映性の組成物層４へ
の最小限の接着性を有する、例えばポリエチレンのよう
な一般的な材料で形成される。
【００１１】保護シート６は、光像映性の組成物層４を
基材に接着することができるために除去される最初の層
である。保護シート６は、残存層を分離せず、いずれの
残存層も乱すことなく除去できるように、光像映性の組
成物層４への十分に低い接着性を有する必要がある。保
護シート６を除去し、光像映性の組成物層４を基材（例
えば、銅で被覆したエポキシ板、プリント回路板等場合
による）にしっかりと固定した後、次いでサポートシー
ト５を除去する。したがって、サポートシート５のトッ
プコート３との接着性は保護シート６と光像映性の組成
物層４との接着性よりも大きいけれども、サポートシー
ト５のトップコート３との接着性は、光像映性の組成物
層４と基材との接着性、光像映性の層とタイコート２と
の接着性、タイコートとトップコート３との接着性より
も低い必要がある。同様に、サポートシート５はいずれ
の残存層も乱すことなくトップコート３より除去できる
必要がある。また、光像映性の組成物層４とその後の基
材との接着性はサポートシート５とトップコート３との
接着性よりも大きい必要がある。
基材に接着することができるために除去される最初の層
である。保護シート６は、残存層を分離せず、いずれの
残存層も乱すことなく除去できるように、光像映性の組
成物層４への十分に低い接着性を有する必要がある。保
護シート６を除去し、光像映性の組成物層４を基材（例
えば、銅で被覆したエポキシ板、プリント回路板等場合
による）にしっかりと固定した後、次いでサポートシー
ト５を除去する。したがって、サポートシート５のトッ
プコート３との接着性は保護シート６と光像映性の組成
物層４との接着性よりも大きいけれども、サポートシー
ト５のトップコート３との接着性は、光像映性の組成物
層４と基材との接着性、光像映性の層とタイコート２と
の接着性、タイコートとトップコート３との接着性より
も低い必要がある。同様に、サポートシート５はいずれ
の残存層も乱すことなくトップコート３より除去できる
必要がある。また、光像映性の組成物層４とその後の基
材との接着性はサポートシート５とトップコート３との
接着性よりも大きい必要がある。
【００１２】光像映性の組成物層４は、プリント回路板
を形成するための一次イメージング用レジスト、または
ソルダマスク等として有用な硬質で恒久的にすることが
できる組成物のいずれかであることができる。典型的
に、光像映性の層は約40〜約 200μm の厚さである。本
発明は具体的には、上記の参照特許に記載されたよう
な、例えばネガ作用性の、アルカリ性水溶液で現像でき
る光像映性の組成物層に関係する。このような組成物は
従来技術においてよく知られており、ここでは詳細には
述べないものとするが、このような組成物の基本成分は
上記の通りである。
を形成するための一次イメージング用レジスト、または
ソルダマスク等として有用な硬質で恒久的にすることが
できる組成物のいずれかであることができる。典型的
に、光像映性の層は約40〜約 200μm の厚さである。本
発明は具体的には、上記の参照特許に記載されたよう
な、例えばネガ作用性の、アルカリ性水溶液で現像でき
る光像映性の組成物層に関係する。このような組成物は
従来技術においてよく知られており、ここでは詳細には
述べないものとするが、このような組成物の基本成分は
上記の通りである。
【００１３】従来技術によって示されたヘイジング問題
への取組において、水溶性の中間層のトップコート３は
水を吸収しない高分子材料で形成される。したがって、
中性のpHの水に不溶な材料が選択される。一方で、現像
液が光像映性の組成物層の非露光部分を洗い流すことを
可能にするために、トップコート３は現像の際に除去さ
れる必要がある。したがって、トップコートは例えば１
％の炭酸ナトリウム溶液のような希薄なアルカリ性水溶
液に溶ける必要がある。現在のところ、トップコート
は、アルカリ性の水で現像できる光像映性の組成物のバ
インダーとして使用される高分子材料と類似の高分子材
料より形成される。特に、例えばアクリル酸エステル、
アクリル酸、スチレン、置換スチレンのようなα-,β-
エチレン的不飽和モノマーから形成されるポリマーが適
切である。このようなポリマーを形成するに役立つ適切
な特定のモノマーは、上記の参照米国特許第 4239849号
に記載されている。現在のところ、トップコートポリマ
ーを形成するための好ましいモノマーは、Ｃ1 〜Ｃ4 の
アルキルアクリレートのメタクリレート、エタクリレー
トや、アクリル酸、メタクリル酸、エタクリル酸、スチ
レン、メチルスチレンを含む。アルカリ性水溶液中での
溶解性を提供するために、ポリマーは少なくとも約50の
酸価を与えるに十分なカルボン酸官能価数を有するべき
である。典型的に、酸価は約50〜約200 の範囲にある
が、トップコート材料は更に高い酸価を有することがで
きる。トップコートポリマーの分子量（重量平均）は通
常約 20000〜約200000の範囲にある。
への取組において、水溶性の中間層のトップコート３は
水を吸収しない高分子材料で形成される。したがって、
中性のpHの水に不溶な材料が選択される。一方で、現像
液が光像映性の組成物層の非露光部分を洗い流すことを
可能にするために、トップコート３は現像の際に除去さ
れる必要がある。したがって、トップコートは例えば１
％の炭酸ナトリウム溶液のような希薄なアルカリ性水溶
液に溶ける必要がある。現在のところ、トップコート
は、アルカリ性の水で現像できる光像映性の組成物のバ
インダーとして使用される高分子材料と類似の高分子材
料より形成される。特に、例えばアクリル酸エステル、
アクリル酸、スチレン、置換スチレンのようなα-,β-
エチレン的不飽和モノマーから形成されるポリマーが適
切である。このようなポリマーを形成するに役立つ適切
な特定のモノマーは、上記の参照米国特許第 4239849号
に記載されている。現在のところ、トップコートポリマ
ーを形成するための好ましいモノマーは、Ｃ1 〜Ｃ4 の
アルキルアクリレートのメタクリレート、エタクリレー
トや、アクリル酸、メタクリル酸、エタクリル酸、スチ
レン、メチルスチレンを含む。アルカリ性水溶液中での
溶解性を提供するために、ポリマーは少なくとも約50の
酸価を与えるに十分なカルボン酸官能価数を有するべき
である。典型的に、酸価は約50〜約200 の範囲にある
が、トップコート材料は更に高い酸価を有することがで
きる。トップコートポリマーの分子量（重量平均）は通
常約 20000〜約200000の範囲にある。
【００１４】トップコート３は組成において光像映性の
組成物層４のバインダーポリマーと類似であるが、トッ
プコートは性質において光像映性の組成物層と実質的に
異なる。モノマー、光開始剤、熱安定剤等を含む光像映
性の組成物層は実質的に保形性のない半固体であるが、
はるかに薄いトップコート３は多少の保形性がある固体
である。
組成物層４のバインダーポリマーと類似であるが、トッ
プコートは性質において光像映性の組成物層と実質的に
異なる。モノマー、光開始剤、熱安定剤等を含む光像映
性の組成物層は実質的に保形性のない半固体であるが、
はるかに薄いトップコート３は多少の保形性がある固体
である。
【００１５】一方、トップコート３のポリマーは光像映
性の組成物層のバインダーポリマーと類似であるため、
モノマー、光開始剤等が、適用の際または貯蔵の際に、
光像映性の組成物層からトップコートに移行しないよう
に、層をタイコート２によって分離する必要がある。タ
イコート２は、好ましくは、ポリビニルアルコール、改
質ポリビニルアルコール（ポリビニルアルコールのコポ
リマーを含む）、またはポリビニルアルコール（少なく
とも約10重量％）と付加的な水溶性ポリマー、例えばヒ
ドロキシエチルセルロース、ポリビニルアセテート、ス
ターチのような水溶性多糖類との混合物より形成され
る。本発明において使用するに一般的に好ましい材料
は、均一なポリビニルアルコールである。ここでポリビ
ニルアルコールは、少なくとも約80％がケン化されたポ
リビニルアルコールエステル（例、ポリ酢酸ビニル）の
重合体を意味する。ポリビニルアルコールコポリマー／
ヒドロキシエチルセルロースの層は上記の参照特許第 4
992354号に記載されている。
性の組成物層のバインダーポリマーと類似であるため、
モノマー、光開始剤等が、適用の際または貯蔵の際に、
光像映性の組成物層からトップコートに移行しないよう
に、層をタイコート２によって分離する必要がある。タ
イコート２は、好ましくは、ポリビニルアルコール、改
質ポリビニルアルコール（ポリビニルアルコールのコポ
リマーを含む）、またはポリビニルアルコール（少なく
とも約10重量％）と付加的な水溶性ポリマー、例えばヒ
ドロキシエチルセルロース、ポリビニルアセテート、ス
ターチのような水溶性多糖類との混合物より形成され
る。本発明において使用するに一般的に好ましい材料
は、均一なポリビニルアルコールである。ここでポリビ
ニルアルコールは、少なくとも約80％がケン化されたポ
リビニルアルコールエステル（例、ポリ酢酸ビニル）の
重合体を意味する。ポリビニルアルコールコポリマー／
ヒドロキシエチルセルロースの層は上記の参照特許第 4
992354号に記載されている。
【００１６】中間層１の合計の厚さは約４〜約12μm で
あり、好ましくは約６〜約８μm である。タイコート２
は約１〜約８μm であり、好ましくは約３〜約６μm の
厚さである。トップコート３は約１〜約８μm であり、
好ましくは約３〜約６μm の厚さである。本発明のドラ
イフィルムの製造において、タイコートは光像映性の層
の上に水溶液として適用する。続いて、タイコートの上
にトップコートを、水分散液または有機溶媒溶液のいず
れかで適用する。その他のドライフィルムラミネートは
通常の方法で形成する。
あり、好ましくは約６〜約８μm である。タイコート２
は約１〜約８μm であり、好ましくは約３〜約６μm の
厚さである。トップコート３は約１〜約８μm であり、
好ましくは約３〜約６μm の厚さである。本発明のドラ
イフィルムの製造において、タイコートは光像映性の層
の上に水溶液として適用する。続いて、タイコートの上
にトップコートを、水分散液または有機溶媒溶液のいず
れかで適用する。その他のドライフィルムラミネートは
通常の方法で形成する。
【００１７】上記のように、二重の中間層１は水に不溶
なトップコート３を提供することによってヘイジングの
問題を解決する。トップコートは光像映性の組成物層４
が基材に適用され、サポートシート５が除去された後に
空気に曝される層である。二重の中間層１は付加的な長
所を有することが見出されている。二重の中間層は従来
技術の中間層よりも酸素に対して不透過性であることが
見出されている。酸素は重合を抑制するため、本発明の
ドライフィルムによって高い光速度を得ることができ
る。光像映性の組成物層４がソルダマスク形成用組成物
の場合、二重の中間層１は貫通孔(thru-hole) を覆う(t
ent)ための材料の能力に寄与する。半固体の光像映性の
組成物層４は殆ど保形性を有さないが、トップコート３
とタイコート２の両者は被覆能力に寄与する保形性を有
する。中間層構造体の強度は二つの非類似なタイプの組
成物が互いに結合したことにより増加する。
なトップコート３を提供することによってヘイジングの
問題を解決する。トップコートは光像映性の組成物層４
が基材に適用され、サポートシート５が除去された後に
空気に曝される層である。二重の中間層１は付加的な長
所を有することが見出されている。二重の中間層は従来
技術の中間層よりも酸素に対して不透過性であることが
見出されている。酸素は重合を抑制するため、本発明の
ドライフィルムによって高い光速度を得ることができ
る。光像映性の組成物層４がソルダマスク形成用組成物
の場合、二重の中間層１は貫通孔(thru-hole) を覆う(t
ent)ための材料の能力に寄与する。半固体の光像映性の
組成物層４は殆ど保形性を有さないが、トップコート３
とタイコート２の両者は被覆能力に寄与する保形性を有
する。中間層構造体の強度は二つの非類似なタイプの組
成物が互いに結合したことにより増加する。
【００１８】次に特定の例によって本発明を詳細に述べ
る。
る。
【００１９】例１ ドライフィルムは、ポリエチレンテレフタレート（厚さ
40μm)のサポートシート、36.5重量％のメチルメタクリ
レートと20.4重量％のブチルアクリレートと14.5重量％
のスチレンと28.6重量％のメタクリル酸とのコポリマー
のトップコート（厚さ1.25μm)、ポリビニルアルコール
のタイコート（厚さ1.25μm)、アルカリ水で現像できる
光像映性の組成物層（厚さ92μm)（商品名HG、Dynachem
販売、Tustin、カリフォルニア州）、及びポリエチレン
カバーシート（厚さ40μm)より形成される。
40μm)のサポートシート、36.5重量％のメチルメタクリ
レートと20.4重量％のブチルアクリレートと14.5重量％
のスチレンと28.6重量％のメタクリル酸とのコポリマー
のトップコート（厚さ1.25μm)、ポリビニルアルコール
のタイコート（厚さ1.25μm)、アルカリ水で現像できる
光像映性の組成物層（厚さ92μm)（商品名HG、Dynachem
販売、Tustin、カリフォルニア州）、及びポリエチレン
カバーシート（厚さ40μm)より形成される。
【００２０】例２ ソルダマスク形成用ドライフィルム（対照標準)(商標CO
NFORMASK、Dynachem販売）はアルカリ水で現像できる光
像映性の組成物を有し、これは後に硬化できてソルダマ
スクを形成する。このフィルムの中間層は 2.5μm の厚
さであり、ヒドロキシエチルセルロース（95重量％）と
ポリビニルアルコール(5重量％）の混合物である。中間
層をポリビニルアルコールのタイコート（厚さ1.25μm)
と例１に記載のトップコート（厚さ1.25μm)で置き換え
た以外はこれと全く同じフィルム（二重層）を調製し
た。光像映性の組成物層をプリント回路板に適用しサポ
ートシートを除去した後、このパネルを63°F 、52％RH
(相対湿度) で２時間（条件Ａ）、及び71°F 、45％RH
で２時間（条件Ｂ）保持した。プロセス条件を次に示
す。
NFORMASK、Dynachem販売）はアルカリ水で現像できる光
像映性の組成物を有し、これは後に硬化できてソルダマ
スクを形成する。このフィルムの中間層は 2.5μm の厚
さであり、ヒドロキシエチルセルロース（95重量％）と
ポリビニルアルコール(5重量％）の混合物である。中間
層をポリビニルアルコールのタイコート（厚さ1.25μm)
と例１に記載のトップコート（厚さ1.25μm)で置き換え
た以外はこれと全く同じフィルム（二重層）を調製し
た。光像映性の組成物層をプリント回路板に適用しサポ
ートシートを除去した後、このパネルを63°F 、52％RH
(相対湿度) で２時間（条件Ａ）、及び71°F 、45％RH
で２時間（条件Ｂ）保持した。プロセス条件を次に示
す。
【００２１】 手順 パネルＮｏ フィルム CFU-III 後保持室 １ 対照標準 条件Ａ ２ 対照標準 条件Ａ ３ 対照標準 条件Ｂ ４ 対照標準 条件Ｂ ５ 二重層 条件Ａ ６ 二重層 条件Ａ ７ 二重層 条件Ｂ ８ 二重層 条件Ｂ
【００２２】 パネル仕様 サイズ − 18インチ×24インチ×0.062 インチ デザイン − 10ミルのライン及び側の二倍のスペース メタライゼーション − Sn/Pb ベース材料 − FR-4 回路高さ − ＜4.0 ミル テンティングしたバイアホール− 30ミルと40ミル
【００２３】 一次処理の環境 条件Ａ 条件Ｂ １．照明 − 黄色ライト 黄色ライト ２．温度 − 63°F 71°F ３．相対湿度 − 52％ 45％ ４．Gns H2O/# 乾燥空気 − 45 51
【００２４】真空ラミネーション 真空ラミネーター − VA 724 サイクル時間 − 60 秒 スラップ時間 − 5 秒 BST トップ − 128 °F(64℃) ボトム − 125 °F(64℃) 真空 − 0.6 ミリバール フリースペース − 0.04インチ
【００２５】ポリエステルの除去 30秒未満、板の面に平行で回路ラインの方向。
【００２６】仕上 CFU-III １．冷却時間 − 80秒 ２．パネル温度 − 約45℃ ３．コンベアー速度 − 500 ４．チャンバー温度 − 43°F ５．H.R.温度 − 利用せず ６．H.R.圧力 − 利用せず ７．保持時間 − 120 分間
【００２７】露光 １．ユニットパワー − Colight 1230 5KW 露光時間 − 35秒（50/50 の積算値） 真空 − 75 mmHg 光装置 − Transpoque G2 Clear Diazo
(像のブランクを露光せず)
(像のブランクを露光せず)
【００２８】現像 １．現像 − Chemcut 547 水平チャン
バー長さ 36 インチ 溶液 − 約1.0 ％Na2CO3 (測定せず) 温度 − 85°F ブレークポイント − 約 50 ％ (測定せず) スピードセットPt. − 2.4 現像時間 − 130 秒 スプレー圧力 − 25psi ２．スプレーリンス チャンバー長さ − 50％現像用チャンバー最小長さ スプレー圧力 − 25psi ３．タービン乾燥
バー長さ 36 インチ 溶液 − 約1.0 ％Na2CO3 (測定せず) 温度 − 85°F ブレークポイント − 約 50 ％ (測定せず) スピードセットPt. − 2.4 現像時間 − 130 秒 スプレー圧力 − 25psi ２．スプレーリンス チャンバー長さ − 50％現像用チャンバー最小長さ スプレー圧力 − 25psi ３．タービン乾燥
【００２９】 結果 パネルNo SST A/W タック 60°光沢 テンティング 曇り (破壊％) １ 13 なし 89 ％ ＜2 ％ なし ２ 13 なし ＜2 ％ なし ３ 13 なし ＜2 ％ なし ４ 13 なし ＜2 ％ なし ５ 10 わずか 74 ％ 15 〜20％ わずか ６ 10 わずか 15 〜20％ わずか ７ 10 わずか 15 〜20％ わずか ８ 10 わずか 15 〜20％ わずか SST＝スタウファーステップ A/W ＝アートワーク
【００３０】観察と議論 １．二重層は対照標準に比較して15％高い光沢を示す。
このことは、フラックス残存物の除去及び低い固体フラ
ックスでソルダボールの形成を防ぐにおいて有益であ
る。 ２．二重層パネルへのアートワークのタックは、再生の
間または露光後のいずれにおいてもない。このことは、
容易な肉眼での位置合わせを可能にし、滑らかで均一な
表面仕上に結びつく。 ３．スターリングは二重層についてかなり低下したが消
失していない。 ４．二重層の光速度は２時間の保持時間の間に３スタウ
ファーステップ高いことが見出された。 ５．二重層の表面損傷性の耐性は対照標準に比較して大
きく向上した。 ６．二重層に曇りは認められなかった。対照標準におい
ては、記録した環境条件下では明白でないはずの望まし
くないレベルの曇りが認められた。 ７．二重層の大きな長所がその向上したテンティング性
能に観られた。
このことは、フラックス残存物の除去及び低い固体フラ
ックスでソルダボールの形成を防ぐにおいて有益であ
る。 ２．二重層パネルへのアートワークのタックは、再生の
間または露光後のいずれにおいてもない。このことは、
容易な肉眼での位置合わせを可能にし、滑らかで均一な
表面仕上に結びつく。 ３．スターリングは二重層についてかなり低下したが消
失していない。 ４．二重層の光速度は２時間の保持時間の間に３スタウ
ファーステップ高いことが見出された。 ５．二重層の表面損傷性の耐性は対照標準に比較して大
きく向上した。 ６．二重層に曇りは認められなかった。対照標準におい
ては、記録した環境条件下では明白でないはずの望まし
くないレベルの曇りが認められた。 ７．二重層の大きな長所がその向上したテンティング性
能に観られた。
【００３１】本発明は特定の好ましい態様に関して記載
しているが、当業者に明白な改良が本発明の範囲から離
れることなく得ることができる。本発明の種々の特徴を
前記の特許請求の範囲に記載した。
しているが、当業者に明白な改良が本発明の範囲から離
れることなく得ることができる。本発明の種々の特徴を
前記の特許請求の範囲に記載した。
【図１】本発明にしたがったドライフィルムの横断面図
である。
である。
１…中間層 ２…タイコート ３…トップコート ４…光像映性の組成物層 ５…サポートシート ６…保護シート
Claims (8)
- 【請求項１】 (a) 保護シート、(b) 希薄なアルカリ性
水溶液中で現像できるネガ作用性の光像映性の組成物
層、(c)(c-1)水溶性のタイコート層、及び(c-2)中性ま
たは酸性水溶液には不溶であるが希薄なアルカリ性水溶
液には可溶であるトップコート層、を含む二重の中間
層、及び(d) サポートシート、を含んでなるドライフィ
ルムラミネートであって、該保護シート(a) は該光像映
性の組成物層(b) に対して、その他の層またはそれらの
間の結合のいずれをも損傷させることなく該保護シート
を該光像映性の組成物層より除去できるような最小限の
接着性を有し、かつ、該サポートシート(d) の該トップ
コート(c-2) への接着性は、残存する層、そのような残
存する層の間の結合、該光像映性の組成物層(b) と基材
の間に形成した結合のいずれをも損傷させることなく該
サポートシート(d) を該トップコート(c-2) より除去で
きる程度であるドライフィルムラミネート。 - 【請求項２】 該トップコート(c-2) はα、β- エチレ
ン的不飽和モノマーより形成された少なくとも約50の酸
価を有するポリマーである請求項１記載のドライフィル
ムラミネート。 - 【請求項３】 該タイコート(c-1) がポリビニルアルコ
ール、改質ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコー
ルコポリマーよりなる群から選択された材料の約10〜 1
00重量％、及び該材料と相溶性であり水溶性である高分
子材料の０〜約90重量％から形成された請求項２記載の
ドライフィルムラミネート。 - 【請求項４】 該タイコート(c-1) がポリビニルアルコ
ール、改質ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコー
ルコポリマーよりなる群から選択された材料の約10〜 1
00重量％、及び該材料と相溶性であり水溶性である高分
子材料の０〜約90重量％から形成された請求項１記載の
ドライフィルムラミネート。 - 【請求項５】 該中間層(c) は約４〜約12μm の厚さで
ある請求項１記載のドライフィルムラミネート。 - 【請求項６】 該タイコート(c-1) は約１〜約８μm の
厚さであり、該トップコート(c-2) は約１〜約８μm の
厚さである請求項５記載のドライフィルムラミネート。 - 【請求項７】 該光像映性の組成物層が一次イメージン
グフォトレジストである請求項１記載のドライフィルム
ラミネート。 - 【請求項８】 該光像映性の組成物層が露光と現像の後
に恒久的な層を形成する硬化性である請求項１記載のド
ライフィルムラミネート。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/864,837 US5270146A (en) | 1992-04-07 | 1992-04-07 | Photosensitive laminate having dual intermediate layers |
| US864837 | 1992-04-07 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0627650A JPH0627650A (ja) | 1994-02-04 |
| JP2572928B2 true JP2572928B2 (ja) | 1997-01-16 |
Family
ID=25344183
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5066346A Expired - Lifetime JP2572928B2 (ja) | 1992-04-07 | 1993-03-25 | 二重の中間層を有する感光性ラミネート |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5270146A (ja) |
| EP (1) | EP0565233B1 (ja) |
| JP (1) | JP2572928B2 (ja) |
| CA (1) | CA2089822C (ja) |
| DE (1) | DE69320517T2 (ja) |
| HK (1) | HK1005154A1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US6462107B1 (en) | 1997-12-23 | 2002-10-08 | The Texas A&M University System | Photoimageable compositions and films for printed wiring board manufacture |
| CN102799070B (zh) * | 2012-08-27 | 2014-03-05 | 珠海市能动科技光学产业有限公司 | 双层涂布的负性光致抗蚀干膜 |
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| NL7800122A (nl) * | 1978-01-05 | 1979-07-09 | Philips Nv | Magnetische registratieband en drager voor een magnetische registratieband. |
| US4239849A (en) * | 1978-06-19 | 1980-12-16 | Dynachem Corporation | Polymers for aqueous processed photoresists |
| US4789620A (en) * | 1986-03-03 | 1988-12-06 | Mitsubishi Rayon Co. Ltd. | Liquid photosensitive resin composition containing carboxylated epoxy acrylates or methacrylates |
| JPH0750329B2 (ja) * | 1986-06-23 | 1995-05-31 | 富士写真フイルム株式会社 | 画像形成材料 |
| US4992354A (en) * | 1988-02-26 | 1991-02-12 | Morton International, Inc. | Dry film photoresist for forming a conformable mask and method of application to a printed circuit board or the like |
| US4889790A (en) * | 1988-02-26 | 1989-12-26 | Morton Thiokol, Inc. | Method of forming a conformable mask on a printed circuit board |
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- 1992-04-07 US US07/864,837 patent/US5270146A/en not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-02-18 CA CA002089822A patent/CA2089822C/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-03-05 SG SG1996003800A patent/SG52385A1/en unknown
- 1993-03-05 EP EP93301678A patent/EP0565233B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-03-05 DE DE69320517T patent/DE69320517T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-03-25 JP JP5066346A patent/JP2572928B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-05-19 HK HK98104292A patent/HK1005154A1/xx not_active IP Right Cessation
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| US5270146A (en) | 1993-12-14 |
| EP0565233A1 (en) | 1993-10-13 |
| SG52385A1 (en) | 1998-09-28 |
| DE69320517T2 (de) | 1999-01-07 |
| CA2089822A1 (en) | 1993-10-08 |
| HK1005154A1 (en) | 1998-12-24 |
| DE69320517D1 (de) | 1998-10-01 |
| EP0565233B1 (en) | 1998-08-26 |
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