JP2572792B2 - 酸化防止剤 - Google Patents
酸化防止剤Info
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は錫めっき液又は錫合金めっき液等の錫イオン
を含有する溶液中の２価の錫イオンの４価の錫イオンの
酸化を防止する２価の錫イオンの酸化防止剤に関する。
を含有する溶液中の２価の錫イオンの４価の錫イオンの
酸化を防止する２価の錫イオンの酸化防止剤に関する。
（従来技術） 錫めっき液および錫合金めっき液は２価の錫イオンを
含有する。錫又は錫合金めっき液から２価の錫イオンが
金属錫に還元析出するが、同時に溶液中の２価の錫イオ
ンは空気酸化、電解酸化等により４価の錫イオンとなる
不溶性沈澱物を生じる。この不溶性沈澱物は白色コロイ
ド状であり過性が非常に悪い。また、めっき液中に沈
澱物が増加するとめっき皮膜に悪影響を及ぼす可能性が
あり、かつめっき液中の２価の錫イオン濃度が減少する
ために析出速度が低下し及び合金においてはめっき皮膜
中の析出比率が変化する等の悪影響を及ぼす。
含有する。錫又は錫合金めっき液から２価の錫イオンが
金属錫に還元析出するが、同時に溶液中の２価の錫イオ
ンは空気酸化、電解酸化等により４価の錫イオンとなる
不溶性沈澱物を生じる。この不溶性沈澱物は白色コロイ
ド状であり過性が非常に悪い。また、めっき液中に沈
澱物が増加するとめっき皮膜に悪影響を及ぼす可能性が
あり、かつめっき液中の２価の錫イオン濃度が減少する
ために析出速度が低下し及び合金においてはめっき皮膜
中の析出比率が変化する等の悪影響を及ぼす。
錫イオンの２価から４価への酸化を防止する方法とし
ては、錫めっき液又は錫合金めっき液中に黒鉛類を添加
するもの（特公昭48−39134）、ヒドロキシノンを添加
するもの（小西、土肥、金属表面技術、17、343（196
6））、レゾルシノール、ピロカテコール、ヒドロキノ
ン、ピロガロール等のヒドロキシフエノール化合物を添
加するもの（特開昭62−196391）等が知られている。
ては、錫めっき液又は錫合金めっき液中に黒鉛類を添加
するもの（特公昭48−39134）、ヒドロキシノンを添加
するもの（小西、土肥、金属表面技術、17、343（196
6））、レゾルシノール、ピロカテコール、ヒドロキノ
ン、ピロガロール等のヒドロキシフエノール化合物を添
加するもの（特開昭62−196391）等が知られている。
（発明が解決しようとする問題点） 前記の添加剤を錫めっき液又は錫合金めっき液等の錫
イオンを含有する溶液に添加する場合、黒鉛類はめっき
液中の溶存酸素を吸着するだけでなく有効な有機成分等
をも吸着除去する可能性があり、ヒドロキシノン等のヒ
ドロキシフエノール化合物は、２価の錫イオンの４価の
錫イオンの酸化を防止する硬化が不充分である等の問題
がある。
イオンを含有する溶液に添加する場合、黒鉛類はめっき
液中の溶存酸素を吸着するだけでなく有効な有機成分等
をも吸着除去する可能性があり、ヒドロキシノン等のヒ
ドロキシフエノール化合物は、２価の錫イオンの４価の
錫イオンの酸化を防止する硬化が不充分である等の問題
がある。
そこで、本発明の目的は錫めっき液及び錫合金めっき
液等の錫イオンを含有する溶液において２価の錫イオン
の４価の錫イオンの酸化を防止することができる２価の
錫イオンの酸化防止剤を提供することにある。
液等の錫イオンを含有する溶液において２価の錫イオン
の４価の錫イオンの酸化を防止することができる２価の
錫イオンの酸化防止剤を提供することにある。
（問題点を解決するための手段） 本発明は上記の問題を解決する手段として、窒素原子
を環内に有しかつ水酸基が複素環に結合している複素環
式化合物およびその誘導体ならびに1,4−及び1,7−ジヒ
ドロキシナフタレン及びその誘導体からなる群から選ば
れる一種又は二種以上からなることを特徴とする、錫め
っき液又は錫合金めっき液中の２価の錫イオンの酸化防
止剤を提供するものである。
を環内に有しかつ水酸基が複素環に結合している複素環
式化合物およびその誘導体ならびに1,4−及び1,7−ジヒ
ドロキシナフタレン及びその誘導体からなる群から選ば
れる一種又は二種以上からなることを特徴とする、錫め
っき液又は錫合金めっき液中の２価の錫イオンの酸化防
止剤を提供するものである。
窒素原子を環内に有しかつ水酸基が複素環に結合して
いる複素環式化合物および、その誘導体について説明す
る。ここでいう窒素原子を環内に有する複素環式化合物
とは例えば、ピリジン、イミダゾール、キノリン、プリ
ン等の化合物であり、これらはアルキル基等により置換
されていてもよい。本発明において酸化防止剤として用
いられる水酸基が複素環に結合している複素環式化合物
は、上記例示の窒素原子を環内に有する複素環式化合物
に水酸基が直接結合した化合物である。このような化合
物としては例えば、２−オキシピリジン、２−オキシイ
ミダゾール、キヌリン、オキシキナルジン、７−ウンデ
シル−８−キノリール、２−メチル−３−キノリール、
８−オキシキノリン、2,6−キノリシンジオール、2,8−
ジヒドロキシキノリン、７−ヒドロキシ−２−キノロ
ン、２−ヒドロキシ−４−キノリンカルボン酸、８−ヒ
ドロキシキノリン−５−スルホン酸、２−メチル−８−
ヒドロキシキノリン及びその塩等を挙げることができ
る。
いる複素環式化合物および、その誘導体について説明す
る。ここでいう窒素原子を環内に有する複素環式化合物
とは例えば、ピリジン、イミダゾール、キノリン、プリ
ン等の化合物であり、これらはアルキル基等により置換
されていてもよい。本発明において酸化防止剤として用
いられる水酸基が複素環に結合している複素環式化合物
は、上記例示の窒素原子を環内に有する複素環式化合物
に水酸基が直接結合した化合物である。このような化合
物としては例えば、２−オキシピリジン、２−オキシイ
ミダゾール、キヌリン、オキシキナルジン、７−ウンデ
シル−８−キノリール、２−メチル−３−キノリール、
８−オキシキノリン、2,6−キノリシンジオール、2,8−
ジヒドロキシキノリン、７−ヒドロキシ−２−キノロ
ン、２−ヒドロキシ−４−キノリンカルボン酸、８−ヒ
ドロキシキノリン−５−スルホン酸、２−メチル−８−
ヒドロキシキノリン及びその塩等を挙げることができ
る。
1,4−及び1,7−ジヒドロキシナフタレン及びその誘導
体としては、1,4−及び1,7−ジヒドロキシナフタレン、
1,4−ジヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸、1,7−
ジヒドロキシナフタレン二カリウム等が挙げられる。
体としては、1,4−及び1,7−ジヒドロキシナフタレン、
1,4−ジヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸、1,7−
ジヒドロキシナフタレン二カリウム等が挙げられる。
上記の窒素原子を環内に有しかつ水酸基が複素環に結
合している複素環式化合物およびその誘導体ならびに1,
4−及び1,7−ジヒドロキシナフタレン及びその誘導体か
らなる群から選ばれる一種又は二種以上を２価の錫イオ
ンを含有する溶液中に0.01g/〜50g/、好ましくは0.
1g/〜20g〜ｌの濃度で含有させる。0.01g/以下では
２価の錫イオンの４価の錫イオンへの酸化防止効果があ
まり期待できない。一方、50g/以上でも問題はない
が、２価の錫イオンの４価の錫イオンへの酸化防止効果
はほぼ一定であり経済的にメリットがない。また、1,4
−及び1,7−ジヒドロキシナフタレン及びその誘導体以
外の異性体1,5−、1,6−、2,3−、2,7−ジヒドロキシナ
フタレン及びその誘導体では1,4−及び1,7−ジヒドロキ
シナフタレン及びその誘導体で見られる２価の錫イオン
の４価の錫イオンへの酸化防止効果がほとんど認められ
ない。
合している複素環式化合物およびその誘導体ならびに1,
4−及び1,7−ジヒドロキシナフタレン及びその誘導体か
らなる群から選ばれる一種又は二種以上を２価の錫イオ
ンを含有する溶液中に0.01g/〜50g/、好ましくは0.
1g/〜20g〜ｌの濃度で含有させる。0.01g/以下では
２価の錫イオンの４価の錫イオンへの酸化防止効果があ
まり期待できない。一方、50g/以上でも問題はない
が、２価の錫イオンの４価の錫イオンへの酸化防止効果
はほぼ一定であり経済的にメリットがない。また、1,4
−及び1,7−ジヒドロキシナフタレン及びその誘導体以
外の異性体1,5−、1,6−、2,3−、2,7−ジヒドロキシナ
フタレン及びその誘導体では1,4−及び1,7−ジヒドロキ
シナフタレン及びその誘導体で見られる２価の錫イオン
の４価の錫イオンへの酸化防止効果がほとんど認められ
ない。
また、窒素原子を環内に有しかつ水酸基が複素環に結
合している複素環式化合物およびその誘導体は、高電流
密度においても良好なめっき皮膜を与える効果を有す
る。
合している複素環式化合物およびその誘導体は、高電流
密度においても良好なめっき皮膜を与える効果を有す
る。
尚、本発明の酸化防止剤を含有する錫めっき液及び錫
合金めっき液は、析出速度、析出合金比率等のめっき特
性に於て、酸化防止剤を含有しない錫めっき液及び錫合
金めっき液のめっき特性とほとんど変わらない。
合金めっき液は、析出速度、析出合金比率等のめっき特
性に於て、酸化防止剤を含有しない錫めっき液及び錫合
金めっき液のめっき特性とほとんど変わらない。
（実 施 例） 以下に本発明による実施例を示すが本発明はこれらの
数例に限定されるものではない。
数例に限定されるものではない。
実施例 １ メタンスルホン酸第一錫（２価の錫として） 20g/ メタンスルホン酸 100g/ ８−オキシキノリン 1.0g/ を含有する錫溶液を調製し、液温度を30℃に調整した。
次にこの錫溶液をマグネチックスターラを用いて撹拌
し、かつ錫溶液500ml中へエアポンプを用いて流量1.5
/minで24時間連続的に送り込んだ。空気酸化による錫の
２価から４価値への酸化の度合は、錫溶液を調製した直
後の２価の錫イオンと24時間経過後の２価の錫イオンの
含有量を分析することによって行った。４価の錫イオン
の生成率は、2.0％であった。
次にこの錫溶液をマグネチックスターラを用いて撹拌
し、かつ錫溶液500ml中へエアポンプを用いて流量1.5
/minで24時間連続的に送り込んだ。空気酸化による錫の
２価から４価値への酸化の度合は、錫溶液を調製した直
後の２価の錫イオンと24時間経過後の２価の錫イオンの
含有量を分析することによって行った。４価の錫イオン
の生成率は、2.0％であった。
実施例 ２ メタンスルホン酸第一錫（２価の錫として） 20g/ メタンスルホン酸 100g/ 1,7−ヒドロキシナフタレン 1.0g/ を含有する錫溶液を調製し、その他は実施例１と同様の
条件で行った。４価の錫イオンの生成率は、0.8％であ
った。
条件で行った。４価の錫イオンの生成率は、0.8％であ
った。
実施例 ３ メタンスルホン酸第一錫（２価の錫として） 20g/ メタンスルホン酸 100g/ ８−オキシキノリン 0.5g/ 1,7−ヒドロキシナフタレン 0.5g/ を含有する錫溶液を調製し、その他は実施例１と同様の
条件で行った。４価の錫イオンの生成率は、4.9％であ
った。
条件で行った。４価の錫イオンの生成率は、4.9％であ
った。
実施例 ４ ３−ヒドロキシプロパンスルホン酸第一錫（２価の錫と
して） 20g/ ３−ヒドロキシプロパンスルホン酸 100g/ 1,4−ジヒドロキシナフタレン 1.0g/ を含有する錫溶液を調製し、その他は実施例１と同様の
条件で行った。４価の錫イオンの生成率は、0.8％であ
った。
して） 20g/ ３−ヒドロキシプロパンスルホン酸 100g/ 1,4−ジヒドロキシナフタレン 1.0g/ を含有する錫溶液を調製し、その他は実施例１と同様の
条件で行った。４価の錫イオンの生成率は、0.8％であ
った。
実施例 ５ エタンスルホン酸第一錫（２価の錫として） 20g/ エタンスルホン酸 100g/ ２−メチル−８−ヒドロキシキノリン 1.0g/ を含有する錫溶液を調製し、その他は実施例１と同様の
条件で行った。４価の錫イオンの生成率は、1.5％であ
った。
条件で行った。４価の錫イオンの生成率は、1.5％であ
った。
実施例 ６ 硫酸第一錫（２価の錫として） 20g/ 硫酸 100g/ 1,7−ヒドロキシナフタレン 1.0g/ を含有する錫溶液を調製し、その他は実施例１と同様の
条件で行った。４価の錫イオンの生成率は、0.9％であ
った。
条件で行った。４価の錫イオンの生成率は、0.9％であ
った。
実施例 ７ ホウフッ化第一錫（２価の錫として） 20g/ ホウフッ化水素酸 100g/ 1,7−ヒドロキシナフタレン 1.0g/ を含有する錫溶液を調製し、その他は実施例１と同様の
条件で行った。４価の錫イオンの生成率は、1.1％であ
った。
条件で行った。４価の錫イオンの生成率は、1.1％であ
った。
実施例 ８ 硫酸第一錫（２価の錫として） 30g/ 硫酸 100g/ クレゾールスルホン酸 100g/ ゼラチン 2g/ β−ナフトール 1g/ 1,7−ヒドロキシナフタレン 0.5g/ を含有するめっき液を調製し、めっき液温度を30℃に調
整した、次にこのめっき液をマグネチックスターラーを
用いて撹拌しながら、白金被覆チタンメッシュを陽極と
してニッケルめっきが施された黄銅板上に錫めっきを施
した。電解酸化による錫の２価から４価への酸化の度合
は、４価の錫イオンの生成による液のにごり及び、沈澱
物の生成から判断した。４ターン経過後においても４価
の錫イオンの生成による液のにごり及び、沈澱物の生成
は認められなかった。また、その際に得られた錫−鉛合
金めっき皮膜の析出速度、錫析出比率を表１に示す。
整した、次にこのめっき液をマグネチックスターラーを
用いて撹拌しながら、白金被覆チタンメッシュを陽極と
してニッケルめっきが施された黄銅板上に錫めっきを施
した。電解酸化による錫の２価から４価への酸化の度合
は、４価の錫イオンの生成による液のにごり及び、沈澱
物の生成から判断した。４ターン経過後においても４価
の錫イオンの生成による液のにごり及び、沈澱物の生成
は認められなかった。また、その際に得られた錫−鉛合
金めっき皮膜の析出速度、錫析出比率を表１に示す。
実施例 ９ メタンスルホン酸第一錫（２価の錫として） 17.5g/ メタンスルホン酸鉛（２価の鉛として） 7.5g/ メタンスルホン酸 120g/ ポリオキシノニルフエノールエーテル 1.5g/ Ｎ−牛脂アルキルN,N,N′,N′,N′−ペンタメ チルプロピレンジアンモニウムジクロライド 1.5g/ ８−オキシキノリン 15.0g/ を含有する錫溶液を調製し、その他は実施例８と同様の
条件で錫−鉛合金めっきを施した。４ターン経過後にお
いても４価の錫イオンの生成による液のにごり及び、沈
澱物の生成は認められなかった。また、その際に得られ
た錫−鉛合金めっき皮膜の析出速度、錫析出比率を表１
に示す。
条件で錫−鉛合金めっきを施した。４ターン経過後にお
いても４価の錫イオンの生成による液のにごり及び、沈
澱物の生成は認められなかった。また、その際に得られ
た錫−鉛合金めっき皮膜の析出速度、錫析出比率を表１
に示す。
実施例 10 メタンスルホン酸第一錫（２価の錫として） 17.5g/ メタンスルホン酸鉛（２価の鉛として） 7.5g/ メタンスルホン酸 120g/ ポリオキシノニルフエノールエーテル 1.5g/ Ｎ−牛脂アルキルN,N,N′,N′,N′−ペンタメ チルプロピレンジアンモニウムジクロライド 1.5g/ 1,7−ジヒドロキシナフタレン 0.2g/ を含有するめっき液を調製し、その他は実施例８と同様
の条件で錫−合金めっきを施した。５ターン経過後にお
いても４価の錫イオンの生成による液のにごり及び、沈
澱物の生成は認められなかった。また、その際に得られ
た錫−鉛合金めっき皮膜の析出速度、錫析出比率を表１
に示す。
の条件で錫−合金めっきを施した。５ターン経過後にお
いても４価の錫イオンの生成による液のにごり及び、沈
澱物の生成は認められなかった。また、その際に得られ
た錫−鉛合金めっき皮膜の析出速度、錫析出比率を表１
に示す。
実施例 11 メタンスルホン酸第一錫（２価の錫として） 17.5g/ メタンスルホン酸鉛（２価の鉛として） 7.5g/ メタンスルホン酸 120g/ ポリオキシノニルフエノールエーテル 1.5g/ Ｎ−牛脂アルキルN,N,N′,N′,N′−ペンタメ チルプロピレンジアンモニウムジクロライド 1.5g/ ８−オキシキノリン 15.0g/ 1,7−ジヒドロキシナフタレン 0.2g/ を含有するめっき液を調製し、その他は実施例８と同様
の条件で錫−合金めっきを施した。６ターン経過後にお
いても４価の錫イオンの生成による液のにごり及び、沈
澱物の生成は認められなかった。また、その際に得られ
た錫−鉛合金めっき皮膜の析出速度、錫析出比率を表１
に示す。
の条件で錫−合金めっきを施した。６ターン経過後にお
いても４価の錫イオンの生成による液のにごり及び、沈
澱物の生成は認められなかった。また、その際に得られ
た錫−鉛合金めっき皮膜の析出速度、錫析出比率を表１
に示す。
実施例 12 ３−ヒドロキシプロパンスルホン酸第一錫（２価の錫と
して） 42g/ ３−ヒドロキシプロパンスルホン酸鉛（２価の鉛とし
て） 18g/ ３−ヒドロキシプロパンスルホン酸 120g/ ポリオキシオレイルフエノールエーテル 5g/ Ｎ−牛脂アルキルN,N,N′,N′,N′−ペンタメ チルプロピレンジアンモニウムジクロライド 10g/ ８−ヒドロキシキノリン−５−スルホン酸 5.0g/ 1,7−ジヒドロキシナフタレン 1.5g/ を含有する錫溶液を調製し、その他は実施例８と同様の
条件で錫−鉛合金めっきを施した。6.5ターン経過後に
おいても４価の錫イオンの生成による液のにごり及び、
沈澱物の生成は認められなかった。また、その際に得ら
れた錫−鉛合金めっき皮膜の析出速度、錫析出比率を表
１に示す。
して） 42g/ ３−ヒドロキシプロパンスルホン酸鉛（２価の鉛とし
て） 18g/ ３−ヒドロキシプロパンスルホン酸 120g/ ポリオキシオレイルフエノールエーテル 5g/ Ｎ−牛脂アルキルN,N,N′,N′,N′−ペンタメ チルプロピレンジアンモニウムジクロライド 10g/ ８−ヒドロキシキノリン−５−スルホン酸 5.0g/ 1,7−ジヒドロキシナフタレン 1.5g/ を含有する錫溶液を調製し、その他は実施例８と同様の
条件で錫−鉛合金めっきを施した。6.5ターン経過後に
おいても４価の錫イオンの生成による液のにごり及び、
沈澱物の生成は認められなかった。また、その際に得ら
れた錫−鉛合金めっき皮膜の析出速度、錫析出比率を表
１に示す。
実施例 13 フエノールスルホン酸第一錫（２価の錫として）17.5g/
フエノールスルホン酸鉛（２価の鉛として） 7.5g/ フエノールスルホン酸 120g/ ポリオキシラウリルフエノールエーテル 2.5g/ Ｎ−牛脂アルキルN,N,N′,N′,N′−ペンタメ チルプロピレンジアンモニウムジクロライド 1.5g/ ２−メチル−８−ジヒドロキシキノリン 7.5g/ 1,7−ジヒドロキシナフタレン 0.4g/ を含有するめっき液を調製し、その他は実施例８と同様
の条件で錫−鉛合金めっきを施した。６ターン経過後に
おいても４価の錫イオンの生成による液のにごり及び、
沈澱物の生成は認められなかった。また、その際に得ら
れた錫−鉛合金めっき皮膜の析出速度、錫析出比率を表
１に示す。
フエノールスルホン酸鉛（２価の鉛として） 7.5g/ フエノールスルホン酸 120g/ ポリオキシラウリルフエノールエーテル 2.5g/ Ｎ−牛脂アルキルN,N,N′,N′,N′−ペンタメ チルプロピレンジアンモニウムジクロライド 1.5g/ ２−メチル−８−ジヒドロキシキノリン 7.5g/ 1,7−ジヒドロキシナフタレン 0.4g/ を含有するめっき液を調製し、その他は実施例８と同様
の条件で錫−鉛合金めっきを施した。６ターン経過後に
おいても４価の錫イオンの生成による液のにごり及び、
沈澱物の生成は認められなかった。また、その際に得ら
れた錫−鉛合金めっき皮膜の析出速度、錫析出比率を表
１に示す。
実施例 14 ホウフッ化第一錫（２価の錫として） 18g/ ホウフッ化鉛（２価の鉛として） 2g/ ホウフッ化水素酸 100g/ ポリオキシノニルフエノールエーテル 10g/ ヤシアルキルイソキノリニウムブロマイド 5g/ ８−オキシキノリン 1.0g/ 1,4−ジヒドロキシナフタレン 0.7g/ を含有するめっき液を調製し、その他は実施例８と同様
の条件で錫−鉛合金めっきを施した。６ターン経過後に
おいても４価の錫イオンの生成による液のにごり及び、
沈澱物の生成は認められなかった。また、その際に得ら
れた錫−鉛合金めっき皮膜の析出速度、錫析出比率を表
１に示す。
の条件で錫−鉛合金めっきを施した。６ターン経過後に
おいても４価の錫イオンの生成による液のにごり及び、
沈澱物の生成は認められなかった。また、その際に得ら
れた錫−鉛合金めっき皮膜の析出速度、錫析出比率を表
１に示す。
実施例 15 メタンスルホン酸第一錫（２価の錫として） 15g/ メタンスルホン酸ニッケル（２価のニッケルとして）50
g/ メタンスルホン酸 120g/ ポリオキシオクチルフエノールエーテル 3g/ ｏ−クレゾール−４−スルホン酸 20g/ 1,7−ジヒドロキシナフタレン 0.2g/ を含有するめっき液を調製し、その他は実施例８と同様
の条件で錫−ニッケル合金めっきを施した。５ターン経
過後においても４価の錫イオンの生成による液のにごり
及び、沈澱物の生成は認められなかった。また、その際
に得らえた錫−鉛合金めっき皮膜の析出速度、錫析出比
率を表１に示す。
g/ メタンスルホン酸 120g/ ポリオキシオクチルフエノールエーテル 3g/ ｏ−クレゾール−４−スルホン酸 20g/ 1,7−ジヒドロキシナフタレン 0.2g/ を含有するめっき液を調製し、その他は実施例８と同様
の条件で錫−ニッケル合金めっきを施した。５ターン経
過後においても４価の錫イオンの生成による液のにごり
及び、沈澱物の生成は認められなかった。また、その際
に得らえた錫−鉛合金めっき皮膜の析出速度、錫析出比
率を表１に示す。
実施例 16 硫酸第一錫（２価の錫として） 28g/ スルフアミン酸ニッケル（２価のニッケルとして） 9g/
スルフアミン酸 100g/ Ｎ−ベンジルトリメチルアンモニウム臭化物 5g/ １−ベンゾイルアセトン 1g/ 1,4−ジヒドロキシナフタレン 0.5g/ を含有するめっき溶液を調製し、その他は実施例８と同
様の条件で錫−ニッケル合金めっきを施した。４ターン
経過後においても４価の錫イオンの生成による液のにご
り及び、沈澱物の生成は認められなかった。また、その
際に得られた錫−鉛合金めっき皮膜の析出速度、錫析出
比率を表１に示す。
スルフアミン酸 100g/ Ｎ−ベンジルトリメチルアンモニウム臭化物 5g/ １−ベンゾイルアセトン 1g/ 1,4−ジヒドロキシナフタレン 0.5g/ を含有するめっき溶液を調製し、その他は実施例８と同
様の条件で錫−ニッケル合金めっきを施した。４ターン
経過後においても４価の錫イオンの生成による液のにご
り及び、沈澱物の生成は認められなかった。また、その
際に得られた錫−鉛合金めっき皮膜の析出速度、錫析出
比率を表１に示す。
比較例 １ 実施例１において、８−オキシキノリンを使用しなか
った以外は実施例１と同様の条件でテストを行った。４
価の錫イオンの生成率は20.0％であった。
った以外は実施例１と同様の条件でテストを行った。４
価の錫イオンの生成率は20.0％であった。
比較例 ２ 実施例６において、1,7−ジヒドロキシナフタレンを
使用しなかった以外は実施例６と同様の条件でテストを
行った。４価の錫イオンの生成率は、14.8％であった。
使用しなかった以外は実施例６と同様の条件でテストを
行った。４価の錫イオンの生成率は、14.8％であった。
比較例 ３ 実施例７において、1,7−ジヒドロキシナフタレンを
使用しなかった以外は実施例７と同様の条件でテストを
行った。４価の錫イオンの生成率は、13.1％であった。
使用しなかった以外は実施例７と同様の条件でテストを
行った。４価の錫イオンの生成率は、13.1％であった。
比較例 ４ メタンスルホン酸第一錫（２価の錫として） 20g/ メタンスルホン酸 100g/ ヒドロキノン 1.0g/ を含有する錫溶液を調製し、その他は実施例１と同様の
条件で行った。４価の錫イオンの生成率は、10.2％であ
った。
条件で行った。４価の錫イオンの生成率は、10.2％であ
った。
比較例 ５ メタンスルホン酸第一錫（２価の錫として） 20g/ メタンスルホン酸 100g/ カテコール 1.0g/ を含有する錫溶液を調製し、その他は実施例１と同様の
条件で行った。４価の錫イオンの生成率は、9.3％であ
った。
条件で行った。４価の錫イオンの生成率は、9.3％であ
った。
比較例 ６ 実施例８において、1,7−ジヒドロキシナフタレンを
使用しなかった以外は実施例８と同様の条件で錫めっき
を施した。0.5ターン経過後において４価の錫イオンの
生成による液のにごり及び、沈澱物の生成が認められ
た。また、その際に得られた錫−鉛合金めっき皮膜の析
出速度、錫析出比率を表１に示す。
使用しなかった以外は実施例８と同様の条件で錫めっき
を施した。0.5ターン経過後において４価の錫イオンの
生成による液のにごり及び、沈澱物の生成が認められ
た。また、その際に得られた錫−鉛合金めっき皮膜の析
出速度、錫析出比率を表１に示す。
比較例 ７ 実施例９において、８−オキシノリンを使用しなかっ
た以外は実施例９と同様の条件で錫−鉛合金めっきを施
した。10ターン経過後において４価の錫イオンの生成に
よる液のにごり及び、沈澱物の生成が認められた。ま
た、その際に得られた錫−鉛合金めっき皮膜の析出速
度、錫析出比率を表１に示す。
た以外は実施例９と同様の条件で錫−鉛合金めっきを施
した。10ターン経過後において４価の錫イオンの生成に
よる液のにごり及び、沈澱物の生成が認められた。ま
た、その際に得られた錫−鉛合金めっき皮膜の析出速
度、錫析出比率を表１に示す。
比較例 ８ 実施例10において、1,7−ジヒドロキシナフタレンの
代わりに他の異性体1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6
−ジヒドロキシナフタレン、2,3−ジヒドロキシナフタ
レン又は2,7−ジヒドロキシナフタレンを0.2g/使用し
た以外は実施例10と同様の条件で錫−鉛合金めっきを施
した。１ターン経過後において４価の錫イオンの生成に
よる液のにごり及び、沈澱物の生成が認められた。ま
た、その際に得られた錫−鉛合金めっき皮膜の析出速
度、錫析出比率を表１に示す。
代わりに他の異性体1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6
−ジヒドロキシナフタレン、2,3−ジヒドロキシナフタ
レン又は2,7−ジヒドロキシナフタレンを0.2g/使用し
た以外は実施例10と同様の条件で錫−鉛合金めっきを施
した。１ターン経過後において４価の錫イオンの生成に
よる液のにごり及び、沈澱物の生成が認められた。ま
た、その際に得られた錫−鉛合金めっき皮膜の析出速
度、錫析出比率を表１に示す。
比較例 ９ 実施例10において、1,7−ジヒドロキシナフタレンの
代わりにカテコールを1.0g/使用した以外は実施例10
と同様の条件で錫−鉛合金めっきを施した。２ターン経
過後において４価の錫イオンの生成による液のにごり及
び、沈澱物の生成が認められた。また、その際に得られ
た錫−鉛合金めっき皮膜の析出速度、錫析出比率を表１
に示す。
代わりにカテコールを1.0g/使用した以外は実施例10
と同様の条件で錫−鉛合金めっきを施した。２ターン経
過後において４価の錫イオンの生成による液のにごり及
び、沈澱物の生成が認められた。また、その際に得られ
た錫−鉛合金めっき皮膜の析出速度、錫析出比率を表１
に示す。
比較例 10 実施例14において、８−オキシキノリン、1,4−ジヒ
ドロキシナフタレンを使用しなかった以外は実施例14と
同様の条件で錫−鉛合金めっきを施した。１ターン経過
後において４価の錫イオンの生成による液のにごり及
び、沈澱物の生成が認められた。また、その際に得られ
た錫−鉛合金めっき皮膜の析出速度、錫析出比率を表１
に示す。
ドロキシナフタレンを使用しなかった以外は実施例14と
同様の条件で錫−鉛合金めっきを施した。１ターン経過
後において４価の錫イオンの生成による液のにごり及
び、沈澱物の生成が認められた。また、その際に得られ
た錫−鉛合金めっき皮膜の析出速度、錫析出比率を表１
に示す。
比較例 11 実施例15において、1,7−ジヒドロキシナフタレンを
使用しなかった以外は実施例15と同様の条件で錫−ニッ
ケル合金めっきを施した。１ターン経過後において４価
の錫イオンの生成による液のにごり及び、沈澱物の生成
が認められた。また、その際に得られた錫−鉛合金めっ
き皮膜の析出速度、錫析出比率を表１に示す。
使用しなかった以外は実施例15と同様の条件で錫−ニッ
ケル合金めっきを施した。１ターン経過後において４価
の錫イオンの生成による液のにごり及び、沈澱物の生成
が認められた。また、その際に得られた錫−鉛合金めっ
き皮膜の析出速度、錫析出比率を表１に示す。
比較例 12 実施例16において、1,4−ジピドロキシナフタレンを
使用しなかった以外は実施例16と同様の条件で錫−ニッ
ケル合金めっきを施した。0.5ターン経過後において４
価の錫イオンの生成による液のにごり及び、沈澱物の生
成が認められた。また、その際に得られた錫−鉛合金め
っき皮膜の析出速度、錫析出比率を表１に示す。
使用しなかった以外は実施例16と同様の条件で錫−ニッ
ケル合金めっきを施した。0.5ターン経過後において４
価の錫イオンの生成による液のにごり及び、沈澱物の生
成が認められた。また、その際に得られた錫−鉛合金め
っき皮膜の析出速度、錫析出比率を表１に示す。
（発明の効果） 本発明の酸化防止剤は、２価の錫イオンから４価の錫
イオンへの酸化を防止する効果が極めて良好なため錫め
っき液又は錫合金めっき液等の錫イオンを含有する溶液
に添加すると、溶液は非常に安定であり、かつ析出速度
が大きく低下することがない。また、合金めっきにおい
ては、析出比率が変化することもないためにめっき皮膜
の品質の低下を防ぐことになる。その結果、４価の錫イ
オンによるトラブルが軽減し、しいては生産性の向上に
つながる。
イオンへの酸化を防止する効果が極めて良好なため錫め
っき液又は錫合金めっき液等の錫イオンを含有する溶液
に添加すると、溶液は非常に安定であり、かつ析出速度
が大きく低下することがない。また、合金めっきにおい
ては、析出比率が変化することもないためにめっき皮膜
の品質の低下を防ぐことになる。その結果、４価の錫イ
オンによるトラブルが軽減し、しいては生産性の向上に
つながる。
Claims (1)
- 【請求項１】窒素原子を環内に有しかつ水酸基が複素環
に結合している複素環式化合物およびその誘導体ならび
に1,4−及び1,7−ジヒドロキシナフタレン及びその誘導
体からなる群から選ばれる一種又は二種以上からなるこ
とを特徴とする、錫めっき液又は錫合金めっき液中の２
価の錫イオンの酸化防止剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31211487A JP2572792B2 (ja) | 1987-12-11 | 1987-12-11 | 酸化防止剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31211487A JP2572792B2 (ja) | 1987-12-11 | 1987-12-11 | 酸化防止剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01156490A JPH01156490A (ja) | 1989-06-20 |
| JP2572792B2 true JP2572792B2 (ja) | 1997-01-16 |
Family
ID=18025409
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31211487A Expired - Lifetime JP2572792B2 (ja) | 1987-12-11 | 1987-12-11 | 酸化防止剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2572792B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE60113333T2 (de) | 2000-07-01 | 2006-07-06 | Shipley Co., L.L.C., Marlborough | Metalllegierungszusammensetzungen und damit verbundene Plattierungsmethoden |
| CN112763296B (zh) * | 2020-12-30 | 2022-11-18 | 上海大学 | 一种针对铬锰系不锈钢夹杂物的三维腐刻方法 |
-
1987
- 1987-12-11 JP JP31211487A patent/JP2572792B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01156490A (ja) | 1989-06-20 |
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