JP2560029B2 - 超純水の比抵抗制御装置 - Google Patents
超純水の比抵抗制御装置Info
- Publication number
- JP2560029B2 JP2560029B2 JP62110192A JP11019287A JP2560029B2 JP 2560029 B2 JP2560029 B2 JP 2560029B2 JP 62110192 A JP62110192 A JP 62110192A JP 11019287 A JP11019287 A JP 11019287A JP 2560029 B2 JP2560029 B2 JP 2560029B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ultrapure water
- gas
- tank
- carbon dioxide
- control device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は超純水の比抵抗制御装置に関し、特に、超
純水に炭酸ガスを微細気泡化して溶解させるとともに、
溶解されずに超純水中に残留する炭酸ガスの気泡を気液
分離器で除去するようにしたような超純水の比抵抗制御
装置に関する。
純水に炭酸ガスを微細気泡化して溶解させるとともに、
溶解されずに超純水中に残留する炭酸ガスの気泡を気液
分離器で除去するようにしたような超純水の比抵抗制御
装置に関する。
[従来の技術] 従来より、超純水の比抵抗制御装置は、限外炉過膜や
逆浸透膜などの透過膜を使用して、超純水と炭酸ガスと
を接触させ、それによって超純水中に炭酸ガスを溶解さ
せるように構成した気液溶解手段が一般的に用いられて
いる。
逆浸透膜などの透過膜を使用して、超純水と炭酸ガスと
を接触させ、それによって超純水中に炭酸ガスを溶解さ
せるように構成した気液溶解手段が一般的に用いられて
いる。
[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、このような透過膜を使用した気液溶解
手段は、通常、超純水中に溶け込ませることのできる炭
酸ガスの分量が少ないことから、迅速かつ容易に、比抵
抗値を大幅に下げた超純水を得ることが困難であった。
手段は、通常、超純水中に溶け込ませることのできる炭
酸ガスの分量が少ないことから、迅速かつ容易に、比抵
抗値を大幅に下げた超純水を得ることが困難であった。
すなわち、従来の超純水の比抵抗制御装置は、超純水
の比抵抗値を飛躍的に下げたい場合には、炭酸ガスの溶
解率を大きくするために、たとえば超純水の流速を緩め
て透過膜との接触時間を長くしたり、あるいは炭酸ガス
の圧力を上げてガスの透過率を高くしたり、または1度
処理した超純水を還流して気液溶解工程を繰返させるな
どの、種々の複雑な処理操作を必要とした。したがっ
て、従来のこの種の装置で超純水の比抵抗値を大幅に下
げることを欲する場合には、簡便かつ速やかにはなし得
ず、特に、超純水が大量のときには、長時間を要すると
いう欠点があった。
の比抵抗値を飛躍的に下げたい場合には、炭酸ガスの溶
解率を大きくするために、たとえば超純水の流速を緩め
て透過膜との接触時間を長くしたり、あるいは炭酸ガス
の圧力を上げてガスの透過率を高くしたり、または1度
処理した超純水を還流して気液溶解工程を繰返させるな
どの、種々の複雑な処理操作を必要とした。したがっ
て、従来のこの種の装置で超純水の比抵抗値を大幅に下
げることを欲する場合には、簡便かつ速やかにはなし得
ず、特に、超純水が大量のときには、長時間を要すると
いう欠点があった。
そこで、たとえば大量の超純水の場合であっても、そ
の比抵抗値を大幅に下げることが迅速かつ容易にできる
ように、超純水を収容するタンクと、このタンク内に炭
酸ガスを微細気泡化して発散させる気泡発生器とによっ
て気液溶解手段を構成することが考えられる。しかしな
がら、気液溶解手段をこのように構成した場合には、た
とえば、タンク内の上部に生ずる炭酸ガスが超純水の流
出時において、この超純水中に完全に溶解されないまま
気泡状態で洗浄液槽に供給されるおそれが多分に生じ
る。したがって、このような炭酸ガスの気泡を含む超純
水を半導体ウエハの洗浄に使用する場合には、この気泡
が洗浄効果を妨げるなどの新たな問題点を生じさせる。
の比抵抗値を大幅に下げることが迅速かつ容易にできる
ように、超純水を収容するタンクと、このタンク内に炭
酸ガスを微細気泡化して発散させる気泡発生器とによっ
て気液溶解手段を構成することが考えられる。しかしな
がら、気液溶解手段をこのように構成した場合には、た
とえば、タンク内の上部に生ずる炭酸ガスが超純水の流
出時において、この超純水中に完全に溶解されないまま
気泡状態で洗浄液槽に供給されるおそれが多分に生じ
る。したがって、このような炭酸ガスの気泡を含む超純
水を半導体ウエハの洗浄に使用する場合には、この気泡
が洗浄効果を妨げるなどの新たな問題点を生じさせる。
それゆえに、この発明の主たる目的は、たとえば大量
の超純水の場合であっても、その比抵抗値を大幅に下げ
ることを迅速かつ容易に可能にならしめるとともに、タ
ンク内から流出される超純水中に残留する気泡によって
生じる上述のような弊害をも一掃できるように構成した
超純水の比抵抗制御装置を提供することである。
の超純水の場合であっても、その比抵抗値を大幅に下げ
ることを迅速かつ容易に可能にならしめるとともに、タ
ンク内から流出される超純水中に残留する気泡によって
生じる上述のような弊害をも一掃できるように構成した
超純水の比抵抗制御装置を提供することである。
[問題点を解決するための手段] この発明は超純水に炭酸ガスを溶解させる気液溶解手
段を備えた超純水の比抵抗制御装置であって、超純水を
収容するタンクとこのタンク内に設けられて炭酸ガスの
微細気泡を発生する気泡発生器とによって気液溶解手段
を構成し、タンクに接続される超純水の流出管には超純
水中に溶解されずに残留する炭酸ガスの気泡を除去する
ための気液分離器を設け、気泡発生器に供給される炭酸
ガスのガス流通路にはタンク内からの超純水の逆流を防
止するための逆止弁を設けて構成したものである。
段を備えた超純水の比抵抗制御装置であって、超純水を
収容するタンクとこのタンク内に設けられて炭酸ガスの
微細気泡を発生する気泡発生器とによって気液溶解手段
を構成し、タンクに接続される超純水の流出管には超純
水中に溶解されずに残留する炭酸ガスの気泡を除去する
ための気液分離器を設け、気泡発生器に供給される炭酸
ガスのガス流通路にはタンク内からの超純水の逆流を防
止するための逆止弁を設けて構成したものである。
[作用] この発明にかかる超純水の比抵抗制御装置は、タンク
内から流出される超純水中に含まれる気泡を気液分離器
によって捕集され除去されるので、たとえば半導体ウエ
ハの洗浄水として好適な超純水を得ることができる。
内から流出される超純水中に含まれる気泡を気液分離器
によって捕集され除去されるので、たとえば半導体ウエ
ハの洗浄水として好適な超純水を得ることができる。
[発明の実施例] 第1図はこの発明の一実施例の配管系統を示す図であ
り、第2図は第1図に示した気液溶解手段の一例を示す
要部破断側面図である。
り、第2図は第1図に示した気液溶解手段の一例を示す
要部破断側面図である。
まず、第1図および第2図を参照して、この発明の一
実施例の構成について説明する。気液溶解手段1は、超
純水に炭酸ガスを溶解させるものであって、超純水を収
納するタンク2と、このタンク2内に設けられかつこの
タンク2内に炭酸ガスの微細気泡を発生する気泡発生器
3とによって構成される。タンク2の上面には、超純水
をタンク2内へ流入させる流入管2aと、炭酸ガスが溶解
された後の超純水を流出させる流出管2bとがそれぞれ接
続されている。
実施例の構成について説明する。気液溶解手段1は、超
純水に炭酸ガスを溶解させるものであって、超純水を収
納するタンク2と、このタンク2内に設けられかつこの
タンク2内に炭酸ガスの微細気泡を発生する気泡発生器
3とによって構成される。タンク2の上面には、超純水
をタンク2内へ流入させる流入管2aと、炭酸ガスが溶解
された後の超純水を流出させる流出管2bとがそれぞれ接
続されている。
また、流出管2bには、超純水中に溶解されずに残留す
る炭酸ガスの気泡を除去するための気液分離器4が設け
られている。気液分離器4は、たとえば目が0.2μmの
ポリプロピレンのフィルタによって形成され、この実施
例でこのように形成された気液分離器4がタンク2と後
述する測定器14との間に設けられている。また、気泡発
生器3は、この実施例では通気孔径が数μm〜数10μm
の多孔性セラミクスで内部にガス導入孔3aを有する円柱
状に形成され、このように形成された気泡発生器3が第
2図に示すように、タンク2内の中空に水平状態となる
ように設けられている。
る炭酸ガスの気泡を除去するための気液分離器4が設け
られている。気液分離器4は、たとえば目が0.2μmの
ポリプロピレンのフィルタによって形成され、この実施
例でこのように形成された気液分離器4がタンク2と後
述する測定器14との間に設けられている。また、気泡発
生器3は、この実施例では通気孔径が数μm〜数10μm
の多孔性セラミクスで内部にガス導入孔3aを有する円柱
状に形成され、このように形成された気泡発生器3が第
2図に示すように、タンク2内の中空に水平状態となる
ように設けられている。
ガス流通路5は気泡発生器3に炭酸ガスを流通させる
ものであって、このガス流通路5と気泡発生器3に形成
されたガス導入孔3aとは連通状態に接続されている。ま
た、ガス流通路5には、タンク2内からの超純水の逆流
を防止する逆止弁6が設けられる。ガス流通路5の一方
の端部には炭酸ガスの供給源としてのガスボンベ7が接
続されている。なお、このガスボンベ7と逆止弁6との
間のガス流通路5には、第1図に示すごとく、複数の減
圧弁8,ガス流通路用開閉弁9,ガスの流量制御用調節弁1
0,ニードルバルプ11,精密フィルタ12およびバイパス管1
3が適宜設けられる。
ものであって、このガス流通路5と気泡発生器3に形成
されたガス導入孔3aとは連通状態に接続されている。ま
た、ガス流通路5には、タンク2内からの超純水の逆流
を防止する逆止弁6が設けられる。ガス流通路5の一方
の端部には炭酸ガスの供給源としてのガスボンベ7が接
続されている。なお、このガスボンベ7と逆止弁6との
間のガス流通路5には、第1図に示すごとく、複数の減
圧弁8,ガス流通路用開閉弁9,ガスの流量制御用調節弁1
0,ニードルバルプ11,精密フィルタ12およびバイパス管1
3が適宜設けられる。
流出管2bの所定の箇所には超純水の比抵抗値を測定す
る測定器14が設けられる。この測定器14によって得られ
た測定値は制御部15に与えられる。制御部15は、この測
定値と予め設定された期待する比抵抗値とを比較演算
し、たとえば測定値が設定値の範囲内にない場合には、
ガスの流量制御用調節弁10を開閉動作させる動作信号を
出力し、この信号によって調節弁10が制御されるように
構成されている。
る測定器14が設けられる。この測定器14によって得られ
た測定値は制御部15に与えられる。制御部15は、この測
定値と予め設定された期待する比抵抗値とを比較演算
し、たとえば測定値が設定値の範囲内にない場合には、
ガスの流量制御用調節弁10を開閉動作させる動作信号を
出力し、この信号によって調節弁10が制御されるように
構成されている。
次に、この発明の一実施例の具体的な動作について説
明する。まず、たとえば18MΩの比抵抗値を有する超純
水がタンク2内へ供給され、次いでガスボンベ7からガ
ス流通路5を介して気泡発生器3に炭酸ガスが供給され
る。この場合、気泡発生器3は上述のごとく孔径が数μ
m〜数10μmの多孔性セラミクスで形成されているの
で、供給された炭酸ガスはこの気泡発生器3により微細
な気泡状に変えられて、超純水中に発散されて溶解され
る。炭酸ガスが溶解された超純水は、流出管2bから流出
されて洗浄液槽16に供給される。この場合、超純水中に
溶解されずに残留している気泡は気液分離器4によって
除去され、気泡の除去された後の超純水が洗浄液槽16に
供給される。
明する。まず、たとえば18MΩの比抵抗値を有する超純
水がタンク2内へ供給され、次いでガスボンベ7からガ
ス流通路5を介して気泡発生器3に炭酸ガスが供給され
る。この場合、気泡発生器3は上述のごとく孔径が数μ
m〜数10μmの多孔性セラミクスで形成されているの
で、供給された炭酸ガスはこの気泡発生器3により微細
な気泡状に変えられて、超純水中に発散されて溶解され
る。炭酸ガスが溶解された超純水は、流出管2bから流出
されて洗浄液槽16に供給される。この場合、超純水中に
溶解されずに残留している気泡は気液分離器4によって
除去され、気泡の除去された後の超純水が洗浄液槽16に
供給される。
なお、超純水がタンク2内へ供給されると、一時的に
気泡発生器3の通気孔を介して超純水の一部がガス流通
路5内を逆流するが、この逆流水は逆止弁6によって阻
止される。
気泡発生器3の通気孔を介して超純水の一部がガス流通
路5内を逆流するが、この逆流水は逆止弁6によって阻
止される。
第3図は気液溶解手段の他の例を示す要部破断側面図
である。この第3図に示した気液溶解手段1は、タンク
2の底部に板状に形成した気泡発生器3を収納し、タン
ク2の底部中央部にガス流通路5を連通させたものであ
って、前述の第1図および第2図と同様の作用をなす。
である。この第3図に示した気液溶解手段1は、タンク
2の底部に板状に形成した気泡発生器3を収納し、タン
ク2の底部中央部にガス流通路5を連通させたものであ
って、前述の第1図および第2図と同様の作用をなす。
なお、上述の実施例において、気泡発生器3は、多孔
性材料であればよく、セラミクスに限定されることな
く、その他たとえばテフロンなどを用いるようにしても
よい。
性材料であればよく、セラミクスに限定されることな
く、その他たとえばテフロンなどを用いるようにしても
よい。
また、気泡発生器3の通気孔の径は、上述のごとく数
μm〜数10μmに選んだが、この孔径も超純水の処理温
度などの諸条件によって適宜選定するようにすればよ
い。
μm〜数10μmに選んだが、この孔径も超純水の処理温
度などの諸条件によって適宜選定するようにすればよ
い。
[発明の効果] 以上のように、この発明によれば、タンク内に炭酸ガ
スの微細気泡を発生させる気泡発生器を設け、これによ
って炭酸ガスを気泡化させた状態で超純水に溶解される
とともに、溶解されずにタンク内から流出される超純水
中の気泡を流出管に設けた気液分離器で除去するように
したので、超純水中に溶解される炭酸ガスの溶解率が従
来の透過膜を使用する場合に比べて飛躍的に向上でき
る。したがって、たとえば超純水が大量の場合であって
も、その比抵抗値を大幅に下げることが迅速かつ容易に
できる。また、タンク内から流出される超純水中に含ま
れる気泡も気液分離器によって捕集され除去できるの
で、たとえば半導体ウエハの洗浄水として好適な超純水
を得ることができる。
スの微細気泡を発生させる気泡発生器を設け、これによ
って炭酸ガスを気泡化させた状態で超純水に溶解される
とともに、溶解されずにタンク内から流出される超純水
中の気泡を流出管に設けた気液分離器で除去するように
したので、超純水中に溶解される炭酸ガスの溶解率が従
来の透過膜を使用する場合に比べて飛躍的に向上でき
る。したがって、たとえば超純水が大量の場合であって
も、その比抵抗値を大幅に下げることが迅速かつ容易に
できる。また、タンク内から流出される超純水中に含ま
れる気泡も気液分離器によって捕集され除去できるの
で、たとえば半導体ウエハの洗浄水として好適な超純水
を得ることができる。
第1図はこの発明の一実施例の配管系統を示す図であ
る。第2図は第1図に示した気液溶解手段の要部破断側
面図である。第3図は気液溶解手段の他の例を示す要部
破断側面図である。 図において、1は気液溶解手段、2はタンク、3は気泡
発生器、4は気液分離器、5はガス流通路、6は逆止
弁、7はガスボンベ、8はガス減圧弁、9はガス流通路
用開閉弁、10は流量制御用調節弁、11はニードルバル
ブ、12は精密フィルタ、13はバイパス管、14は測定器、
15は制御部、16は洗浄液槽を示す。
る。第2図は第1図に示した気液溶解手段の要部破断側
面図である。第3図は気液溶解手段の他の例を示す要部
破断側面図である。 図において、1は気液溶解手段、2はタンク、3は気泡
発生器、4は気液分離器、5はガス流通路、6は逆止
弁、7はガスボンベ、8はガス減圧弁、9はガス流通路
用開閉弁、10は流量制御用調節弁、11はニードルバル
ブ、12は精密フィルタ、13はバイパス管、14は測定器、
15は制御部、16は洗浄液槽を示す。
フロントページの続き (72)発明者 柳 基典 伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電機株式 会社エル・エス・アイ研究所内 (72)発明者 福本 隼明 伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電機株式 会社エル・エス・アイ研究所内 (72)発明者 浜 正治 伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電機株式 会社エル・エス・アイ研究所内 (56)参考文献 特開 昭61−208391(JP,A)
Claims (1)
- 【請求項1】超純水に炭酸ガスを溶解させる気液溶解手
段を備えた超純水の比抵抗制御装置において、 前記気液溶解手段は超純水を収容するタンクと、該タン
ク内に設けられて、このタンク内に炭酸ガスの微細気泡
を発生する気泡発生器とによって構成され、 前記タンクに接続される超純水の流出管には、超純水中
に溶解されずに残留する炭酸ガスの気泡を除去するため
の気液分離器が設けられ、 前記気泡発生器に供給される炭酸ガスのガス流通路に
は、前記タンク内からの超純水の逆流を防止するための
逆止弁が設けられることを特徴とする、超純水の比抵抗
制御装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62110192A JP2560029B2 (ja) | 1987-05-06 | 1987-05-06 | 超純水の比抵抗制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62110192A JP2560029B2 (ja) | 1987-05-06 | 1987-05-06 | 超純水の比抵抗制御装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63274487A JPS63274487A (ja) | 1988-11-11 |
JP2560029B2 true JP2560029B2 (ja) | 1996-12-04 |
Family
ID=14529382
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62110192A Expired - Lifetime JP2560029B2 (ja) | 1987-05-06 | 1987-05-06 | 超純水の比抵抗制御装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2560029B2 (ja) |
-
1987
- 1987-05-06 JP JP62110192A patent/JP2560029B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS63274487A (ja) | 1988-11-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI277443B (en) | Continuous dissolution apparatus, process for continuous dissolution and apparatus for supplying water in which gas is dissolved | |
KR101406411B1 (ko) | 탈이온수의 탄화 시스템 및 방법 | |
CA2591580A1 (en) | Simple gas scouring method and apparatus | |
JPH10324502A (ja) | 超純水の炭酸ガス付加装置及び付加方法 | |
JP2001190938A (ja) | 水処理膜の破損検出方法 | |
JP2018079442A (ja) | サイフォン式散気管、膜分離活性汚泥装置、水処理方法 | |
JP2006255567A (ja) | 浸漬型膜分離装置及びその薬品洗浄方法 | |
JP2560029B2 (ja) | 超純水の比抵抗制御装置 | |
Ashley et al. | Factors influencing oxygen transfer in fine pore diffused aeration | |
JP2004275917A (ja) | 処理液の製造装置、製造方法及び基板の処理装置 | |
JPS63274488A (ja) | 超純水の比抵抗制御装置 | |
JP2002096012A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2010199124A (ja) | オゾン水供給装置 | |
JPH05103921A (ja) | 薬液ろ過装置 | |
JP6037649B2 (ja) | 微細気泡発生装置、微細気泡発生方法、基板処理装置、および基板処理方法 | |
KR20070008103A (ko) | 산소수 제조 장치 및 그 방법 | |
JP3408613B2 (ja) | 膜分離装置 | |
JPH06210147A (ja) | 気液加圧混合方法及び気液加圧混合装置 | |
KR100742367B1 (ko) | 약액 혼합 공급장치 | |
JP7257755B2 (ja) | 微細気泡発生装置、微細気泡の発生方法、微細気泡発生システム | |
JPS59173184A (ja) | 超純水の比抵抗制御装置 | |
JPH06114388A (ja) | 生物ろ過方法 | |
US1285494A (en) | Means for increasing the rate of solubility of gas in a liquid. | |
JP2004041928A (ja) | 散気方法及び散気システム | |
JP4871821B2 (ja) | 散気体評価方法 |