JP2558993B2 - Image display device and method of manufacturing image display device - Google Patents

Image display device and method of manufacturing image display device

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JP2558993B2
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茂夫 鈴木
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は特に電子ビームを用いた
平板型画像表示装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flat panel image display device using an electron beam.

【0002】[0002]

【従来の技術】以下、図面を参照しながら、従来の画像
表示装置の構成の一例について説明する。
2. Description of the Related Art An example of the configuration of a conventional image display device will be described below with reference to the drawings.

【0003】図9に従来の電極ユニットの第一の例の要
部断面を示す。また、図10に従来の電極ユニットの一
例の要部斜視図を示す。また、図11に従来の電極ユニ
ットを用いた画像表示装置の一例の要部断面図を示す。
101はその内面にR・G・Bからなる蛍光体スクリー
ン103を塗布した表容器を兼ねるフェースプレート、
102はその内面に導電膜による背面電極104を形成
した裏容器である。105は線状カソード、106は電
子ビーム制御電極106−a,b,c,……(本従来例
ではeまで図示)を積層してなる電極ユニットで、線状
カソード105から発生した電子ビームは電子ビーム制
御電極106−a,b,c,……に形成された電子ビー
ム通過孔106−a−1,106−b−1,……を通過
する間に集束・偏向・変調などの制御が行われ、その
後、R・G・Bの蛍光体にスクリーン103に衝突・発
光させて画像表示を行うものである。
FIG. 9 shows a cross section of a main part of a first example of a conventional electrode unit. Further, FIG. 10 shows a perspective view of a main part of an example of a conventional electrode unit. In addition, FIG. 11 shows a cross-sectional view of a main part of an example of an image display device using a conventional electrode unit.
Reference numeral 101 denotes a face plate which also serves as a front container having an inner surface coated with a phosphor screen 103 made of R, G, B.
A back container 102 has a back electrode 104 formed of a conductive film on its inner surface. Reference numeral 105 is a linear cathode, 106 is an electrode unit formed by stacking electron beam control electrodes 106-a, b, c, ... (In this conventional example, up to e is shown), and the electron beam generated from the linear cathode 105 is While passing through the electron beam passage holes 106-a-1, 106-b-1, ... Formed in the electron beam control electrodes 106-a, b, c ,. After that, the R, G, and B phosphors collide with the screen 103 and emit light to display an image.

【0004】ここで、電極ユニット106の電子ビーム
制御電極106−a,b,c,……相互の積層・固定方
法としては、図12に示すように、ガラス棒110を芯
線とし、その周りにフリットガラス111を塗布したも
の(図12a)を電子ビーム通過孔106−a−1間お
よび106−b−1間に配設し(図12b)、加圧・昇
温 によりフリットを溶融させて接着している(図12
c)。ここで、電子ビーム制御電極106−a,b,
c,……相互の間隔はガラス棒110の径に保たれる。
Here, as a mutual laminating / fixing method of the electron beam control electrodes 106-a, b, c, ... Of the electrode unit 106, as shown in FIG. 12, a glass rod 110 is used as a core wire and around it. The frit glass 111 coated (FIG. 12a) is arranged between the electron beam passage holes 106-a-1 and 106-b-1 (FIG. 12b), and the frit is melted by pressure and temperature rise to bond. (Fig. 12
c). Here, the electron beam control electrodes 106-a, b,
c, ... The mutual distance is kept at the diameter of the glass rod 110.

【0005】以上のようにしてつくられた電極ユニット
106は、前記裏容器102にフリットガラス107に
より接着・固定されたポスト108により周辺部で支持
・固定されている。
The electrode unit 106 manufactured as described above is supported and fixed at the peripheral portion by the post 108 which is adhered and fixed to the back container 102 by the frit glass 107.

【0006】また、図13に従来の電極ユニットの第二
の例の要部断面図を示す。電子ビーム制御電極106−
a,b,c,……(本従来例ではeまで図示)相互の積
層・固定方法は、電子ビーム制御電極106−a,b,
c,……相互間には間隔を保つために例えばセラミック
ス性の絶縁スペーサ120−a,b,c,d,eが配設
され、その状態で電子ビーム制御電極106−eに接合
された締結ピン120により締結している。具体的には
締結ピン121の末端を例えばレーザービームにより溶
融することにより締め付ける。
Further, FIG. 13 shows a sectional view of essential parts of a second example of a conventional electrode unit. Electron beam control electrode 106-
a, b, c, ... (In the conventional example, up to e is shown) The mutual lamination / fixing method is performed by the electron beam control electrodes 106-a, b,
c, ... Insulating ceramic spacers 120-a, b, c, d, and e, for example, are arranged to keep a space between them, and are fastened to the electron beam control electrode 106-e in that state. It is fastened by a pin 120. Specifically, the end of the fastening pin 121 is fastened by, for example, melting with a laser beam.

【0007】ここで、電子ビーム制御電極106−a,
b,c,……は面状であり、したがって締結ピン121
も2次元的に適当な間隔で配設される。そして、締結ピ
ン121部で電子ビーム制御電極106−a,b,c,
d,eは離散的に積層・固定される。
Here, the electron beam control electrodes 106-a,
b, c, ... Are planar and therefore the fastening pins 121
Are also two-dimensionally arranged at appropriate intervals. Then, the electron beam control electrodes 106-a, b, c, and
d and e are discretely stacked and fixed.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな方法では、以下に述べるような問題点を有してい
た。
However, the above method has the following problems.

【0009】まず、第一の例では電子ビーム制御電極を
接合するにはフリットガラス溶融温度にまで昇温させる
必要がある。そのため、熱膨脹した状態で接合されその
後、常温にまで冷却されるわけであるが、その過程にお
いて「反り」が発生する場合が多く、できあがった電極
ユニットは大きく反ったものとなってしまう場合が多か
った。さらにフリットを溶融させる工程においては、温
度プロフィールが厳密に管理できる電気炉を用いること
が必要であり、このことがコストアップ,スループット
低下といった課題の主原因となっていた。
First, in the first example, it is necessary to raise the temperature to the frit glass melting temperature in order to bond the electron beam control electrodes. Therefore, they are joined in a state of thermal expansion and then cooled down to room temperature, but "warping" often occurs in the process, and the resulting electrode unit is often greatly warped. It was Further, in the step of melting the frit, it is necessary to use an electric furnace whose temperature profile can be strictly controlled, which has been a main cause of problems such as increased cost and reduced throughput.

【0010】また、第二の例では、電子ビーム制御電極
はピンを用いた構造により締結されるため、第一の例の
ような熱膨脹にまつわる「反り」の発生はない。しかし
ながらこの構成の場合には、締結ピン部以外では電子ビ
ーム制御電極106−a,b,c,……の積層間隔を規
制する部材がないため、締結ピンの配設位置に対応して
「うねり」が発生するという課題があった。また、電極
ユニットの構造物としての剛性はかなり低いものとな
り、その結果、固定方法として周辺だけ固定する構成で
は形状を維持して設置することができなかった。
Further, in the second example, since the electron beam control electrode is fastened by the structure using the pins, there is no occurrence of "warpage" associated with thermal expansion as in the first example. However, in the case of this configuration, there is no member other than the fastening pin portion that regulates the stacking interval of the electron beam control electrodes 106-a, b, c, ... Was generated. Further, the rigidity of the structure of the electrode unit is considerably low, and as a result, it was not possible to install the electrode unit while maintaining its shape in the configuration of fixing only the periphery.

【0011】本発明は上記問題点に鑑み、電子ビーム制
御電極を「反り」「うねり」といった課題なしで、しか
も構造物としての剛性を確保した状態で積層・固定する
構造およびその工法を提供することを目的とする。
In view of the above problems, the present invention provides a structure and a method for stacking and fixing the electron beam control electrodes without problems such as "warping" and "waviness", and in a state where the rigidity of the structure is secured. The purpose is to

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに本発明の電子源は以下の通りである。
In order to solve the above problems, the electron source of the present invention is as follows.

【0013】請求項1の本発明は、少なくとも、蛍光体
スクリーンを形成したフェースプレートと、電子ビーム
通過孔を有する電子ビーム制御電極を複数枚、積層・固
定した電極ユニットと、電子源と、内部を真空に保つ容
器とからなる平板型画像表示装置であって、前記電極ユ
ニットにおける電子ビーム制御電極の積層・固定構成と
しては、第N目の電子ビーム制御電極の電子ビーム通
過孔間には絶縁スペーサが形成され、且つ第(N+1)
枚目の電子ビーム制御電極には前記第N枚目の電子ビー
ム制御電極に形成された絶縁スペーサの位置に対応して
アンカー孔が形成されており、前記第N枚目と第(N+
1)枚目の電子ビーム制御電極とを前記絶縁スペーサを
介して積層した上で、溶射膜を前記アンカー孔を塞ぎ覆
いかつ前記絶縁スペーサと融着させるように形成した構
造であることを特徴とする画像表示装置である。
According to the first aspect of the present invention, at least a face plate having a phosphor screen formed thereon, an electrode unit in which a plurality of electron beam control electrodes having electron beam passage holes are laminated and fixed, an electron source, and an internal portion. In the flat panel image display device including a container for keeping the vacuum state, a laminated / fixed structure of the electron beam control electrodes in the electrode unit is as follows : Insulating spacers are formed and (N + 1) th
Anchor holes are formed in the electron beam control electrode of the Nth corresponding to the positions of the insulating spacers formed in the electron beam control electrode of the Nth sheet.
1) After stacking a first electron beam control electrode via the insulating spacer, a sprayed film covers the anchor hole.
And a structure formed so as to be fused with the insulating spacer.
The image display device is characterized by being manufactured.

【0014】請求項2の本発明は、少なくとも、蛍光体
スクリーンを形成したフェースプレートと、電子ビーム
制御電極を複数枚、積層・固定し且つ所定の間隔で分割
した電極ユニットと、電子源と、内部を真空に保つ容器
とからなる平板型画像表示装置であっ間隔で配設してな
る電極ユニットと、電子源と、内部を真空に保つ容器と
からなる平板型画像表示装置であって、前記電極ユニッ
における電子ビーム制御電極の積層・固定構成として
は、第N目の電子ビーム制御電極の少なくとも略中央
部には絶縁スペーサが形成され、且つ第(N+1)枚目
の電子ビーム制御電極には前記第N枚目の電子ビーム制
御電極に形成された絶縁スペーサの位置に対応してアン
カー孔が形成されており、前記第N枚目と第(N+1)
枚目の電子ビーム制御電極とを前記絶縁スペーサを介し
て積層した上で、溶射膜を前記アンカー孔を塞ぎ覆いか
つ前記絶縁スペーサと融着させるように形成した構造で
あることを特徴とする画像表示装置である。
The present invention according to claim 2 provides at least a face plate having a phosphor screen, and an electron beam.
Stack and fix multiple control electrodes and divide them at specified intervals
A flat plate type image display device including an electrode unit, an electron source, and a container that keeps a vacuum inside, an electrode unit that is arranged at a certain interval, an electron source, and a flat plate that includes a container that keeps a vacuum inside. Image display device, wherein the electrode unit
The laminated and fixed structure of the electron beam control electrode in DOO, at least in a substantially central portion of the N-th electron beam control electrode insulating spacer is formed on and the (N + 1) th electron beam control electrode Anchor holes are formed corresponding to the positions of the insulating spacers formed on the Nth electron beam control electrode, and the Nth and (N + 1) th holes are formed.
After stacking the first electron beam control electrode with the insulating spacers in between, spray the sprayed film to cover the anchor hole.
With a structure formed to fuse with the insulating spacer
The image display device is characterized by being present.

【0015】請求項4の本発明は、少なくとも、電子ビ
ーム通過孔を有する第N枚目の電子ビーム制御電極の前
記電子ビーム通過孔間に絶縁スペーサを形成する工程
と、前記絶縁スペーサの位置に対応してアンカー孔が形
成された第(N+1)の電子ビーム制御電極を前記絶縁
スペーサを介して前記第Nの電子ビーム制御電極に積層
する工程と、溶射膜を前記アンカー孔を塞ぎ覆いかつ前
記絶縁スペーサと融着させるように形成する工程とによ
り複数枚の電子ビーム制御電極を積層・固定してなる電
極ユニットを製造する工程を含むことを特徴とする画像
表示装置の製造方法である。
According to a fourth aspect of the present invention, at least the step of forming an insulating spacer between the electron beam passage holes of the N-th electron beam control electrode having the electron beam passage hole and the position of the insulating spacer. Stacking a (N + 1) th electron beam control electrode having a correspondingly formed anchor hole on the Nth electron beam control electrode via the insulating spacer; and covering the anchor hole with a sprayed film.
It is a method of manufacturing an image display device, including a step of manufacturing an electrode unit in which a plurality of electron beam control electrodes are laminated and fixed by a step of forming the insulating spacers by fusion .

【0016】請求項5の本発明は、少なくとも、第N枚
目の電子ビーム制御電極の少なくとも略中央部に絶縁ス
ペーサを形成する工程と、前記絶縁スペーサの位置に対
応してアンカー孔が形成された第(N+1)の電子ビー
ム制御電極を前記絶縁スペーサを介して前記第Nの電子
ビーム制御電極に積層する工程と、溶射膜を前記アンカ
ー孔を塞ぎ覆いかつ前記絶縁スペーサと融着させるよう
に形成する工程とにより複数枚の電子ビーム制御電極を
積層・固定してなる電極モジュールを製造する工程と前
記電極モジュールを所定の間隔で配設する工程を含むこ
とを特徴とする画像表示装置の製造方法である。
According to a fifth aspect of the present invention, a step of forming an insulating spacer at least at a substantially central portion of the N-th electron beam control electrode and an anchor hole corresponding to a position of the insulating spacer are formed. and the (N + 1) a step of the electron beam control electrode through the insulating spacer laminated on the electron beam control electrode of the first N of said anchor the sprayed film
-To cover and cover the hole and fuse with the insulating spacer
And a step of forming an electrode module in which a plurality of electron beam control electrodes are stacked and fixed by a step of forming the electrode module and a step of disposing the electrode module at a predetermined interval. It is a manufacturing method.

【0017】[0017]

【作用】この技術的手段による作用は次のようになる。The function of this technical means is as follows.

【0018】請求項1の本発明は、平板型画像表示装置
での電子ビームの駆動などを行う電極ユニットとして、
複数の電子ビーム制御電極が積層・固定された構造のも
のに対して、N枚目の電子ビーム制御電極と(N+1)
枚目の電子ビーム制御電極電極ユニットとは、(N+
1)枚目のアンカー孔を覆い塞ぐように溶射膜を形成
し、その溶射膜がアンカー孔を通じてN枚目の電子ビー
ム制御電極に形成された絶縁スペーサと融着することに
より積層・固定される構成であり、同時に(N+1)枚
目の電子ビーム制御電極に形成された溶射膜は(N+
2)枚目の電子ビーム制御電極の積層・固定のための絶
縁スペーサとなるものである。そして、この構造の繰り
返しにより複数枚の電子ビーム制御電極が積層・固定さ
れ、電極ユニットが構成されるものである。
The present invention according to claim 1 provides an electrode unit for driving an electron beam in a flat panel image display device.
For a structure in which a plurality of electron beam control electrodes are laminated and fixed, an N-th electron beam control electrode and (N + 1)
The electron beam control electrode electrode unit of the first sheet is (N +
1) A sprayed film is formed so as to cover and close the anchor hole of the first sheet, and the sprayed film is laminated and fixed by fusion with the insulating spacer formed on the electron beam control electrode of the Nth sheet through the anchor hole. And the sprayed film formed on the (N + 1) th electron beam control electrode at the same time is (N +
2) It serves as an insulating spacer for stacking and fixing the first electron beam control electrode. By repeating this structure, a plurality of electron beam control electrodes are laminated and fixed to form an electrode unit.

【0019】この構造によれば、電子ビーム制御電極の
接合手段である溶射膜はフリットガラスなどに比べかな
り低い温度での形成が可能であり、したがって電子ビー
ム制御電極の積層・固定の際には、熱膨脹に伴う変形と
いった問題の発生はない。また、同時に次の電子ビーム
制御電極の積層・固定の基準面にも兼用でき、コスト的
にも有利である。
According to this structure, the sprayed film, which is a joining means of the electron beam control electrodes, can be formed at a temperature considerably lower than that of frit glass, and therefore, when the electron beam control electrodes are laminated and fixed. There is no problem such as deformation due to thermal expansion. At the same time, it can also be used as a reference plane for stacking and fixing the next electron beam control electrode, which is advantageous in terms of cost.

【0020】また、接合面積、つまり、アンカー孔の大
きさを適当に設定することにより適切な構造物としての
剛性も確保できる。
Further, by appropriately setting the joint area, that is, the size of the anchor hole, the rigidity as an appropriate structure can be secured.

【0021】請求項2の本発明は、平板型画像表示装置
での電子ビームの駆動などを行う電極ユニットとして、
複数の電子ビーム制御電極が積層・固定され、且つ、分
割された構造の電極モジュールを複数個、所定間隔で配
設した構造のものに対する構成である。
The present invention according to claim 2 provides an electrode unit for driving an electron beam in a flat panel image display device,
Multiple electron beam control electrodes are stacked and fixed , and
This is a structure for a structure in which a plurality of divided electrode modules are arranged at predetermined intervals.

【0022】請求項1での作用に加え、特に大画面の
際、問題となる電極精度(初期加工精度および熱変形等
径時変化)に対してモジュール化することによりその影
響を小さくしようとするものである。
In addition to the action of the first aspect, in particular, in the case of a large screen, it is attempted to reduce the influence by making a module for the problematic electrode accuracy (initial processing accuracy and change with time in thermal deformation and equal diameter). It is a thing.

【0023】請求項4の本発明は、平板型画像表示装置
での電子ビームの駆動などを行う電極ユニットして、
複数の電子ビーム制御電極が積層・固定された構造のも
のに対する製造方法である。N枚目の電子ビーム制御電
極と(N+1)枚目の電子ビーム制御電極電極ユニット
とは、(N+1)枚目のアンカー孔を覆い塞ぐように形
成した溶射膜により、アンカー孔を通じてN枚目の電子
ビーム制御電極に形成された絶縁スペーサと接合させる
ことにより積層・固定が行われ、同時に(N+1)枚目
の電子ビーム制御電極に形成された溶射膜は(N+2)
枚目の電子ビーム制御電極の積層・固定のための絶縁ス
ペーサとなるものである。そしてこの工程を繰り返すこ
とにより複数枚の電子ビーム制御電極の積層・固定を行
い、電極ユニットが構成されるものである。
The invention of claim 4 is an electrode unit for a driving of the electron beam in the flat panel display device,
This is a manufacturing method for a structure in which a plurality of electron beam control electrodes are laminated and fixed. The N-th electron beam control electrode and the (N + 1) th electron beam control electrode electrode unit are formed by the sprayed film formed so as to cover and close the (N + 1) th anchor hole. By laminating and fixing by bonding to the insulating spacer formed on the electron beam control electrode, the sprayed film formed on the (N + 1) th electron beam control electrode is (N + 2) at the same time.
It serves as an insulating spacer for stacking and fixing the first electron beam control electrode. Then, by repeating this process, a plurality of electron beam control electrodes are laminated and fixed to form an electrode unit.

【0024】この方法によれば、電子ビーム制御電極の
接合手段である溶射膜はフリットガラスなどに比べかな
り低い温度での形成が可能であり、したがって電子ビー
ム制御電極の積層・固定の際に、熱膨脹に伴う変形とい
った問題の発生はない。また、同時に次の電子ビーム制
御電極の積層・固定の基準面の形成も行うことができ、
コスト的にも有利である。
According to this method, the sprayed film, which is a joining means of the electron beam control electrodes, can be formed at a temperature considerably lower than that of frit glass, and therefore, when stacking and fixing the electron beam control electrodes, There is no problem such as deformation due to thermal expansion. At the same time, it is possible to form a reference surface for stacking and fixing the next electron beam control electrode,
It is also advantageous in terms of cost.

【0025】また、接合面積、つまり、アンカー孔の大
きさを適当に設定することにより、適切な構造物として
の剛性も確保できる。
Further, by appropriately setting the joint area, that is, the size of the anchor hole, the rigidity as an appropriate structure can be secured.

【0026】請求項5の本発明は、平板型画像表示装置
での電子ビームの駆動などを行う電極ユニットとして、
複数の電子ビーム制御電極が積層・固定され、且つ、分
割された構造の電極モジュールを複数個、所定間隔で配
設した構造のものに対するその製造方法である。
The present invention according to claim 5 provides an electrode unit for driving an electron beam in a flat panel image display device.
Multiple electron beam control electrodes are stacked and fixed , and
A plurality of electrode modules split structure, its manufacturing method for those arranged structure at predetermined intervals.

【0027】作用は請求項4の作用と同じである。The operation is the same as that of claim 4.

【0028】[0028]

【実施例】以下、本発明の一実施例の画像表示装置およ
びその製造方法について、図面を参照しながら説明す
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An image display device and a method of manufacturing the same according to one embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0029】図1は本発明の第1の実施例における電極
ユニットの一例の要部断面図である。また、図2は本発
明の第1の実施例における電極ユニットの一例の製造途
中での要部斜視図である。図3は本発明の第1の実施例
における電極ユニットの一例を用いた画像表示装置の一
例の要部断面図である。1はその内面にR・G・Bから
なる蛍光体スクリーン3を塗布した表容器を兼ねるフェ
ースプレート、2はその内面に導電膜による背面電極4
を形成した裏容器である。5は線状カソード、6は電子
ビーム制御電極6−a,b,c,……(本従来例ではe
まで図示)を積層してなる電極ユニットで、線状カソー
ド5から発生した電子ビームは電子ビーム制御電極6−
a,b,c,……に形成された電子ビーム通過孔6−a
−1,6−b−1,……を通過する間に集束・偏向・変
調などの制御が行われ、その後、R・G・Bの蛍光体ス
クリーン3に衝突・発行させて画像表示を行うものであ
る。
FIG. 1 is a sectional view of the essential parts of an example of an electrode unit according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a perspective view of a main part of the electrode unit according to the first embodiment of the present invention during manufacture. FIG. 3 is a cross-sectional view of essential parts of an example of an image display device using an example of the electrode unit according to the first embodiment of the present invention. Reference numeral 1 denotes a face plate which also serves as a front container having a phosphor screen 3 made of R, G, B applied on its inner surface, and 2 a back electrode 4 made of a conductive film on its inner surface.
It is a back container formed with. Reference numeral 5 is a linear cathode, 6 is an electron beam control electrode 6-a, b, c ,.
In the electrode unit, the electron beam generated from the linear cathode 5 is an electron beam control electrode 6-.
Electron beam passage hole 6-a formed in a, b, c, ...
While passing through -1, 6-b-1, ..., Control of focusing, deflection, modulation, etc. is performed, and then the R, G, B phosphor screens 3 collide with and are issued to display an image. It is a thing.

【0030】電極ユニット6は、前記裏容器2にフリッ
トガラス7により接着・固定されたポスト8により周辺
部で支持・固定されている。
The electrode unit 6 is supported and fixed at the peripheral portion by posts 8 which are adhered and fixed to the back container 2 with a frit glass 7.

【0031】ここで電極ユニット6の電子ビーム制御電
極6−a,6−b,6−c,……相互の積層・固定の構
造および方法を説明する。
Here, the structure and method for stacking and fixing the electron beam control electrodes 6-a, 6-b, 6-c, ... Of the electrode unit 6 to each other will be described.

【0032】まず、一枚目の電子ビーム制御電極6−a
の電子ビーム通過孔6−a−1間に何らかの方法で形成
された絶縁膜10−aに対し、その位置にアンカー孔6
−b−2を形成した2枚目の電子ビーム制御電極6−b
を積層し、アンカー孔6−b−2を覆い塞ぐように溶射
膜を10−bを形成し、その溶射膜10−bがアンカー
孔6−b−2を通じて絶縁膜10−aと融着することに
より、一枚目の電子ビーム制御電極6−aと2枚目の電
子ビーム制御電極6−bとが固定される。同時に溶射膜
10−bは3枚目の電子ビーム制御電極6−cの積層・
固定の基準面となるものである。ここで絶縁膜10−a
の形成に関しては、溶射膜による方法を用いる方が工程
上、複雑化を招かずによいが特には制限されない。
First, the first electron beam control electrode 6-a
To the insulating film 10-a formed by some method between the electron beam passage holes 6-a-1 of FIG.
-B-2 formed second electron beam control electrode 6-b
Is laminated, a sprayed film 10-b is formed so as to cover and close the anchor hole 6-b-2, and the sprayed film 10-b is fused with the insulating film 10-a through the anchor hole 6-b-2. As a result, the first electron beam control electrode 6-a and the second electron beam control electrode 6-b are fixed. At the same time, the sprayed film 10-b is formed by stacking the third electron beam control electrode 6-c.
It serves as a fixed reference surface. Here, the insulating film 10-a
For the formation of
In addition, it does not cause complication, but is not particularly limited.

【0033】3枚目以降の電子ビーム制御電極6−c,
d,e……(本実施例では6−eまで図示)の積層・固
定の構成および製造方法としては、前述の繰り返しを行
えばよい。
Electron beam control electrodes 6-c for the third and subsequent sheets,
d, e ... (In the present embodiment, up to 6-e is shown) As a structure for stacking and fixing and a manufacturing method, the above-described repetition may be performed.

【0034】この構造によれば、電子ビーム制御電極の
接合手段である溶射膜はフリットガラスなどに比べかな
り低い温度での形成が可能であり、したがって電子ビー
ム制御電極の積層・固定の際には、熱膨張に伴う変形と
いった問題の発生はない。また、同時に次の電子ビーム
制御電極の積層・固定の基準面にも兼用でき、工数・コ
スト的にも有利である。また、接合面積、つまり、アン
カー孔の大きさを適当に設定することにより構造物とし
ての適切な剛性も確保できる。アンカー孔の形状として
は図2に示したような丸孔形状に限らず、スリット形状
など適当な形状を用いればよい。ただ、その大きさ
ては、積層基準となる絶縁スペーサからはみ出してはな
らない。この理由は、アンカー孔が積層基準となる絶縁
スペーサからはみ出しておればアンカー孔を覆い塞ぐよ
うに溶射膜を形成することが困難であり、また溶射膜製
膜中に溶射物質の電極間への飛散といった問題が発生
し、電極ユニットとしての性能を損なう恐れがあるから
である。
According to this structure, the sprayed film, which is a joining means of the electron beam control electrodes, can be formed at a temperature considerably lower than that of frit glass, and therefore, when the electron beam control electrodes are laminated and fixed. There is no problem such as deformation due to thermal expansion. At the same time, it can be used also as a reference surface for stacking and fixing the next electron beam control electrode, which is advantageous in terms of man-hours and cost. Further, by appropriately setting the joint area, that is, the size of the anchor hole, appropriate rigidity as a structure can be secured. The shape of the anchor hole is not limited to the round hole shape shown in FIG. 2, and an appropriate shape such as a slit shape may be used. However, Te is set to its size <br/>, it is protrude from the insulating spacer as a laminated reference
No The reason is that it is difficult to form the sprayed coating so as to cover and close the anchor hole if the anchor hole is protruding from the insulating spacer that serves as the stacking standard, and the sprayed material may be formed between the electrodes during the sprayed film formation. This is because problems such as scattering may occur and the performance of the electrode unit may be impaired.

【0035】上記と同様の理由で、アンカー孔を覆い塞
ぐように溶射膜を形成する際の、アンカー孔周りだけに
選択的に溶射膜形成を行う方法としては、一つは下地の
表面粗さによる溶射膜形成の可・不可を利用し、図4に
示すように溶射膜形成を行いたいアンカー孔6−b−
2,6−c−2,……まわりに選択的に粗面化した領域
6−a−3,6−b−3,…を形成し、その状態で電子
ビーム通過孔6−a−1,6−b−1,……を避けて溶
射を行い、積層された電子ビーム制御電極間に溶射粒子
が飛散するのを防ぐと同時に孔周りの粗面化された領域
にのみ溶射膜を形成するという方法がある。
For the same reason as above, one of the methods for selectively forming the sprayed film only around the anchor hole when forming the sprayed film so as to cover the anchor hole is one of the surface roughness of the base. Anchor hole 6-b- which is desired to be formed as shown in FIG.
2, 6-c-2, ... Regions 6-a-3, 6-b-3, ... Roughened selectively are formed around the electron beam passage holes 6-a-1 ,. 6-b-1, ... Avoiding spraying to prevent sprayed particles from scattering between the stacked electron beam control electrodes, and at the same time form a sprayed film only on the roughened area around the holes. There is a method.

【0036】この方法だと装置は簡単であるが、溶射膜
に関する精度などの状態が若干、悪くなる可能性があ
る。
With this method, the apparatus is simple, but the accuracy of the sprayed coating may be slightly deteriorated.

【0037】また、もう一つの方法としては図5に示す
ように、マスク20を用いる方法である。この方法によ
ればアンカー孔6−b−2,6−c−2,……に形成し
た溶射膜10−b,10−c,……の形状は図4の方法
に比べ精度よく得られ、その結果、電子ビーム制御電極
を高精度に積層できる。
Another method is to use a mask 20 as shown in FIG. According to this method, the shapes of the sprayed coatings 10-b, 10-c, ... Formed in the anchor holes 6-b-2, 6-c-2 ,. As a result, the electron beam control electrodes can be stacked with high accuracy.

【0038】マスク20は何回も再利用できることが望
ましく、そのためにはマスク自身には溶射膜が着かない
ということが必要である。そのようなマスクとして、例
えば表面を鏡面仕上げしたマスクが挙げられる。
It is desirable that the mask 20 can be reused many times, and for that purpose it is necessary that the sprayed film does not adhere to the mask itself. An example of such a mask is a mask whose surface is mirror-finished.

【0039】また、アンカー孔6−b−2,6−c−
2,……を覆い塞ぐ溶射膜のうち、電極ユニット6の最
外側に形成された溶射膜10−eについては、材質とし
て絶縁物を用いた場合、電子ビーム通過孔6−a−1,
6−b−1,……,6−e−1を通過してきた電子ビー
ムの例えば漏れ電子などの影響によりチャージアップな
どが発生する場合があり、電子ビーム軌道に影響を与え
てしまうことがある。このような場合には、溶射膜10
−eの材質としては導電物質を用いればよい。10−e
を導電物質としても電子ビーム制御電極10−dと10
−eとの間の絶縁性は構造上、保たれる。
Further, the anchor holes 6-b-2, 6-c-
Of the sprayed coatings covering 2, 2, ..., the sprayed coating 10-e formed on the outermost side of the electrode unit 6 has an electron beam passage hole 6-a-1, when an insulator is used as the material.
Charge-up or the like may occur due to the influence of, for example, leaking electrons of the electron beam that has passed through 6-b-1, ..., 6-e-1, which may affect the electron beam trajectory. . In such a case, the sprayed film 10
A conductive material may be used as the material of -e. 10-e
The electron beam control electrodes 10-d and 10
The insulating property with respect to −e is structurally maintained.

【0040】さらに本発明における、熱膨脹にまつわる
課題解決の効果をより確実にするには、電子ビーム制御
電極6−a,b,c,……,eの材質を低熱膨脹金属材
料であるインバー材(36Ni合金)とするとともに、
溶射製膜プロセスとして、少なくともアンカー孔を覆い
塞ごうとしている電子ビーム制御電極基板を冷却しなが
ら溶射するプロセスを用いればよい。
Further, in order to further ensure the effect of solving the problems relating to thermal expansion in the present invention, the material of the electron beam control electrodes 6-a, b, c, ..., E is the Invar material which is a low thermal expansion metal material ( 36Ni alloy) and
As the thermal spraying film forming process, at least a process of thermal spraying while cooling the electron beam control electrode substrate which is intended to cover the anchor hole may be used.

【0041】この方法によれば、熱膨脹係数の小さい材
料の使用と、冷却により温度上昇を抑えることとの相乗
効果により、電子ビーム制御電極の熱膨脹を最小限にす
ることができ、溶射膜製膜による接合工程時とその後と
での熱膨脹差の発生による反りというものをさらに確実
に防ぐことができる。特にインバー材はその特性とし
て、低熱膨脹特性を示すのが室温から200℃前後の温
度領域であり、したがって冷却の目安としては、基板
(アンカー孔を覆い塞ごうとしている電子ビーム制御電
極)を200℃以下にすることが望ましい。
According to this method, the thermal expansion of the electron beam control electrode can be minimized by the synergistic effect of using the material having a small thermal expansion coefficient and suppressing the temperature rise by cooling, and thus the thermal sprayed film can be formed. It is possible to more reliably prevent the warpage caused by the difference in thermal expansion between the joining step and the subsequent step. In particular, the Invar material exhibits low thermal expansion characteristics in the temperature range from room temperature to around 200 ° C. Therefore, as a measure of cooling, the substrate (electron beam control electrode which is trying to cover the anchor hole) is 200 It is desirable to keep the temperature below ℃.

【0042】また、前に図5に示した、マスクによるア
ンカー孔周りへの溶射方法は、同時に溶射トーチからの
輻射熱の遮断効果をも合わせもち、熱にまつわる課題解
決に一層の効果がある。
Further, the spraying method around the anchor hole by the mask shown in FIG. 5 has the effect of blocking the radiant heat from the spraying torch at the same time, and is more effective in solving the problems relating to heat.

【0043】図6は本発明の第2の実施例における電極
モジュールの一例の要部断面図である。また、図7は本
発明の第2の実施例における電極ユニットの一例の要部
断面図である。図8は本発明の第2の実施例における電
極ユニットの一例を用いた画像表示装置の要部断面図で
ある。第1の実施例での構成と同じ作用を有するものに
は同じ番号を付している。
FIG. 6 is a sectional view of the essential parts of an example of an electrode module according to the second embodiment of the present invention. FIG. 7 is a cross-sectional view of the essential parts of an example of the electrode unit according to the second embodiment of the present invention. FIG. 8 is a sectional view of a main part of an image display device using an example of the electrode unit according to the second embodiment of the present invention. The components having the same operations as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals.

【0044】この構成は電子ビームの駆動等を行う電極
ユニット6として、複数の電子ビーム制御電極6−a、
b、c、・・・が積層・固定された構造の電極モジュー
6’を複数個、所定間隔Pで配設したものである。そ
して、各モジュール間の間隙が電子ビーム通過隙間とな
り、第1の実施例での電子ビーム通過孔と同じ作用を行
うというものである。
In this structure, a plurality of electron beam control electrodes 6-a are used as the electrode unit 6 for driving the electron beam.
plurality b, c, a, ... electrode module 6 'of the stacked-fixed structure, in which is disposed at a predetermined interval P. The gap between the modules becomes the electron beam passage gap, and the same action as the electron beam passage hole in the first embodiment is performed.

【0045】電極ユニットをモジュール化することによ
り、特に大画面の際問題となる電極精度(初期加工精度
および熱変形等径時変化)に対してその影響を小さくし
ようとするものである。
By modularizing the electrode unit, it is intended to reduce the influence on the electrode accuracy (initial processing accuracy and change with time such as thermal deformation due to diameter change) which becomes a problem particularly in a large screen.

【0046】この構成での、電極モジュールの構成およ
び製造方法、また、絶縁スペーサ,アンカー孔などに関
する具体的な構成・形状・材質などは前の第1の実施例
での内容と同様である。
With this structure, the structure and manufacturing method of the electrode module, and the specific structure, shape and material of the insulating spacers, anchor holes and the like are the same as those in the first embodiment.

【0047】[0047]

【発明の効果】以上のように本発明は、電子ビーム制御
電極の接合とさらに次の電子ビーム制御電極の積層のた
めのスペーサの形成として溶射膜を用いており、フリッ
トガラスなどに比べかなり低い温度での形成が可能であ
り、電子ビーム制御電極の積層・固定の際の、熱膨脹に
伴う変形といった問題の発生はない。
As described above, according to the present invention, the sprayed film is used as a spacer for bonding the electron beam control electrodes and further for stacking the next electron beam control electrodes, which is considerably lower than frit glass. Since it can be formed at a temperature, there is no problem of deformation due to thermal expansion when stacking and fixing the electron beam control electrode.

【0048】また、このようにして接合された電極ユニ
ットは構造物としての剛性も確保できる。
In addition, the electrode unit thus joined can secure the rigidity as a structure.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例における電極ユニットの
一例の要部断面図
FIG. 1 is a sectional view of an essential part of an example of an electrode unit according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施例における電極ユニットの
一例の製造途中での要部斜視図
FIG. 2 is a perspective view of a main part of the example of the electrode unit according to the first embodiment of the present invention during manufacturing.

【図3】本発明の第1の実施例における電極ユニットの
一例を用いた画像表示装置の要部断面図
FIG. 3 is a sectional view of an essential part of an image display device using an example of an electrode unit according to the first embodiment of the present invention.

【図4】アンカー孔周りだけに選択的に溶射膜形成を行
う手段の第1の例の要部断面図
FIG. 4 is a cross-sectional view of a main part of a first example of means for selectively forming a sprayed film only around an anchor hole.

【図5】アンカー孔周りだけに選択的に溶射膜形成を行
う手段の第2の例の要部断面図
FIG. 5 is a sectional view of an essential part of a second example of a means for selectively forming a sprayed film only around an anchor hole.

【図6】本発明の第2の実施例における電極モジュール
の要部断面図
FIG. 6 is a cross-sectional view of an essential part of an electrode module according to a second embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第2の実施例における電極ユニットの
要部断面図
FIG. 7 is a cross-sectional view of an essential part of an electrode unit according to a second embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第2の実施例における電極ユニットを
用いた画像表示装置の要部断面図
FIG. 8 is a cross-sectional view of a main part of an image display device using an electrode unit according to a second embodiment of the present invention.

【図9】従来の電極ユニットの第1の例の要部断面FIG. 9 is a cross-sectional view of essential parts of a first example of a conventional electrode unit.

【図10】従来の電極ユニットの一例の要部斜視図FIG. 10 is a perspective view of a main part of an example of a conventional electrode unit.

【図11】従来の電極ユニットを用いた画像表示装置の
一例の要部断面図
FIG. 11 is a cross-sectional view of essential parts of an example of an image display device using a conventional electrode unit.

【図12】従来の電極ユニットを用いた画像表示装置の
一例の要部断面図
FIG. 12 is a cross-sectional view of main parts of an example of an image display device using a conventional electrode unit.

【図13】従来の電極ユニットを用いた画像表示装置の
一例の要部断面図
FIG. 13 is a cross-sectional view of essential parts of an example of an image display device using a conventional electrode unit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

6 電極ユニット 6−a,6−b,6−c,6−d,6−e N枚目およ
び(N+1)枚目の電子ビーム制御電極 6−a−1,6−b−1,6−c−1,6−d−1,6
−e−1 電子ビーム通過孔 6−a−2,6−b−2,6−c−2,6−d−2,6
−e−2 アンカー孔10−a 絶縁スペーサ 10−b,c,d,e 溶射膜
6 Electrode Units 6-a, 6-b, 6-c, 6-d, 6-e Nth and (N + 1) th Electron Beam Control Electrodes 6-a-1, 6-b-1, 6- c-1,6-d-1,6
-E-1 electron beam passage hole 6-a-2, 6-b-2, 6-c-2, 6-d-2, 6
-E-2 Anchor hole 10-a Insulation spacer 10-b, c, d, e Sprayed film

Claims (9)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 少なくとも、蛍光体スクリーンを形成し
たフェースプレートと、電子ビーム通過孔を有する電子
ビーム制御電極を複数枚、積層・固定した電極ユニット
と、電子源と、内部を真空に保つ容器とからなる平板型
画像表示装置であって、前記電極ユニットにおける電子
ビーム制御電極の積層・固定構成としては、第N目の
電子ビーム制御電極の電子ビーム通過孔間には絶縁スペ
ーサが形成され、且つ第(N+1)枚目の電子ビーム制
御電極には前記第N枚目の電子ビーム制御電極に形成さ
れた絶縁スペーサの位置に対応してアンカー孔が形成さ
れており、前記第N枚目と第(N+1)枚目の電子ビー
ム制御電極とを前記絶縁スペーサを介して積層した上
で、溶射膜を前記アンカー孔を塞ぎ覆いかつ前記絶縁ス
ペーサと融着させるように形成した構造であることを特
徴とする画像表示装置。
1. A face plate on which at least a phosphor screen is formed, an electrode unit in which a plurality of electron beam control electrodes having electron beam passage holes are laminated and fixed, an electron source, and a container for keeping the inside vacuum. a flat panel display device consisting of a lamination and fastening arrangement of an electron beam control electrode in the electrode unit, between the electron beam apertures of the N th electron beam control electrode insulating spacers are formed, Anchor holes are formed in the (N + 1) th electron beam control electrode corresponding to the positions of the insulating spacers formed in the Nth electron beam control electrode. After stacking the (N + 1) th electron beam control electrode via the insulating spacer, a sprayed film covers the anchor hole and covers the insulating spacer .
The structure is designed to be fused with the pacer.
Image display device.
【請求項2】 少なくとも、蛍光体スクリーンを形成し
たフェースプレートと、電子ビーム制御電極を複数枚、
積層・固定した電極ユニットと、電子源と、内部を真空
に保つ容器とからなる平板型画像表示装置であって、
記電極ユニットは、電子ビーム制御電極を複数枚、積層
・固定し、且つ、分割した構造の電極モジュールにより
構成され、前記電極モジュールにおける電子ビーム制御
電極の積層・固定構成としては、第N枚目の電子ビーム
制御電極の少なくとも略中央部には絶縁スペーサが形成
され、且つ第(N+1)枚目の電子ビーム制御電極には
前記第N枚目の電子ビーム制御電極に形成された絶縁ス
ペーサの位置に対応してアンカー孔が形成されており、
前記第N枚目と第(N+1)枚目の電子ビーム制御電極
とを前記絶縁スペーサを介して積層した上で、溶射膜を
前記アンカー孔を塞ぎ覆いかつ前記絶縁スペーサと融着
させるように形成した構造であることを特徴とする画像
表示装置。
2. A face plate having at least a phosphor screen and a plurality of electron beam control electrodes,
An electrode unit formed by laminating and fixing, an electron source, a flat panel display device comprising a container to maintain the inside to a vacuum, prior to
The electrode unit is a stack of multiple electron beam control electrodes.
・ By fixed and divided electrode module
As a laminated / fixed structure of the electron beam control electrode in the electrode module , an insulating spacer is formed at least substantially in the center of the Nth electron beam control electrode, and the (N + 1) th electron is formed. An anchor hole is formed in the beam control electrode at a position corresponding to the insulating spacer formed in the Nth electron beam control electrode,
The Nth and (N + 1) th electron beam control electrodes are laminated via the insulating spacer, and a sprayed film is formed so as to cover the anchor hole and fuse the insulating spacer. An image display device having the above structure.
【請求項3】 前記アンカー孔部の開口は、前記第N枚
目の電子ビーム制御電極に形成された前記絶縁スペーサ
からはみ出さないことを特徴とする請求項1または2記
載の画像表示装置。
3. The insulating spacer formed in the electron beam control electrode of the N-th sheet is an opening of the anchor hole portion.
The image display device according to claim 1, wherein the image display device does not protrude from the image display device.
【請求項4】 少なくとも、電子ビーム通過孔を有する
第N枚目の電子ビーム制御電極の前記電子ビーム通過孔
間に絶縁スペーサを形成する工程と、前記絶縁スペーサ
の位置に対応してアンカー孔が形成された第(N+1)
の電子ビーム制御電極を前記絶縁スペーサを介して前記
第Nの電子ビーム制御電極に積層する工程と、溶射膜を
前記アンカー孔を塞ぎ覆いかつ前記絶縁スペーサと融着
させるように形成する工程とにより複数枚の電子ビーム
制御電極を積層・固定してなる電極ユニットを製造する
工程を含むことを特徴とする画像表示装置の製造方法。
4. A step of forming an insulating spacer between the electron beam passing holes of at least an N-th electron beam control electrode having an electron beam passing hole, and an anchor hole corresponding to a position of the insulating spacer. Formed (N + 1)
Stacking the electron beam control electrode on the N-th electron beam control electrode via the insulating spacer ,
Covers the anchor hole and fuses with the insulating spacer
A method of manufacturing an image display device, including a step of manufacturing an electrode unit in which a plurality of electron beam control electrodes are laminated and fixed by the step of forming the electrodes.
【請求項5】 電極ユニットを製造する工程は、複数の
電子ビーム制御電極を積層・固定し、且つ、第N枚目の
制御電極の少なくとも略中央部に絶縁スペーサが配置さ
れるように前記複数の電子ビーム制御電極を分割した構
造の電極モジュールを製造する工程と、前記電極モジュ
ールを所定の間隔で配置する工程とを含むことを特徴と
する請求項4記載の画像表示装置の製造方法。
5. The process of manufacturing an electrode unit comprises a plurality of steps.
The electron beam control electrode is laminated and fixed, and the N-th sheet
An insulating spacer is placed at least approximately in the center of the control electrode.
So that the plurality of electron beam control electrodes are divided into
Process of manufacturing the electrode module, and the electrode module
And a step of arranging the modules at predetermined intervals.
The method for manufacturing an image display device according to claim 4 .
【請求項6】 電極ユニットの最外側を構成する電子ビ
ーム制御電極に形成されたアンカー孔を塞ぎ覆う溶射膜
として、導電材料を用いたことを特徴とする請求項1ま
たは2記載の画像表示装置。
As 6. electrodes sprayed film covering closing an anchor hole formed in the electron beam control electrode constituting the outermost unit, according to claim 1 characterized by using a conductive material or
Or the image display device described in 2.
【請求項7】 複数枚の電子ビーム制御電極としてイン
バー材(36Ni合金)を用いたことを特徴とする請求
項1または2記載の画像表示装置。
7. claims characterized by using Invar material as a plurality of electron beam control electrodes (36 Ni alloy)
The image display device according to item 1 or 2.
【請求項8】 第(N+1)枚目の電子ビーム制御電極
のアンカー孔を塞ぎ覆うように溶射膜を形成する方法と
して、溶射膜形成が必要な領域以外をマスクにより塞い
だことを特徴とする請求項4または5記載の画像表示装
置の製造方法。
8. A method of forming a sprayed film so as to cover and cover the anchor hole of the (N + 1) th electron beam control electrode is characterized in that a region other than a region where the sprayed film is required is covered with a mask. The image display device according to claim 4 or 5.
Manufacturing method of the device.
【請求項9】 溶射膜の形成方法として、少なくとも第
(N+1)枚目の電子ビーム制御電極を冷却しながら溶
射することを特徴とする請求項4または5記載の画像表
示装置の製造方法。
9. A method for forming a sprayed film, comprising at least a first method.
Melting while cooling the (N + 1) th electron beam control electrode
The image table according to claim 4 or 5, characterized in that
Manufacturing method of the indicating device.
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