JP3060766B2 - Image display device and manufacturing method thereof - Google Patents

Image display device and manufacturing method thereof

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JP3060766B2
JP3060766B2 JP5018385A JP1838593A JP3060766B2 JP 3060766 B2 JP3060766 B2 JP 3060766B2 JP 5018385 A JP5018385 A JP 5018385A JP 1838593 A JP1838593 A JP 1838593A JP 3060766 B2 JP3060766 B2 JP 3060766B2
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    • H01J2329/866Adhesives

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、文字あるいは画像表示
用のカラーテレビジョン受像機やディスプレイ等に使用
する、線状カソードを用いた電子ビーム発生装置及びそ
の製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electron beam generator using a linear cathode for use in a color television receiver or display for displaying characters or images, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の画像表示装置を添付図面に基づい
て説明する。
2. Description of the Related Art A conventional image display device will be described with reference to the accompanying drawings.

【0003】図8に従来の画像表示装置の要部斜視図を
示す。表示装置本体は大きくは背面電極1(破線部)が
形成された裏容器基板2と、電子ビーム発生源である複
数本の線状熱陰極3と電極ユニット群4および蛍光体5
が形成された表容器基板6とより構成されている。
FIG. 8 is a perspective view of a main part of a conventional image display device. The display device main body is roughly composed of a back container substrate 2 on which a back electrode 1 (broken line portion) is formed, a plurality of linear hot cathodes 3 serving as electron beam sources, an electrode unit group 4 and a phosphor 5.
Is formed with the front container substrate 6 on which is formed.

【0004】電極ユニット群4は複数枚の電子ビーム制
御電極4a、4b、4c、4dより構成されており、各
電極には電子ビームが通過するための通過するための円
形状や矩形状のスリット7が形成されており、それらの
電極は電極の中心部領域では前記スリット領域を避けて
電極間を所定間隙に保って各電極同士を積層固定する、
接着スペーサ8によって固定されている。また各電極の
周囲には各電極同士を前記所定間隙を保って、固定板9
を介して前記裏容器基板2に固定する様に、セラミック
製の絶縁スペーサ10が複数個設けられており、これら
が固定ネジ11によって締結されて電極ユニット群4を
形成しているとともに、裏容器基板2に固定されている
ものである。
The electrode unit group 4 is composed of a plurality of electron beam control electrodes 4a, 4b, 4c and 4d. Each electrode has a circular or rectangular slit through which an electron beam passes. 7 are formed, and the electrodes are stacked and fixed to each other while maintaining a predetermined gap between the electrodes while avoiding the slit region in the central region of the electrodes.
It is fixed by the adhesive spacer 8. Around each electrode, each electrode is kept at the above-mentioned predetermined gap, and
A plurality of insulating spacers 10 made of ceramic are provided so as to be fixed to the back container substrate 2 through the base member, and these are fastened by fixing screws 11 to form the electrode unit group 4. It is fixed to the substrate 2.

【0005】以下その動作について説明する。線状熱陰
極3に所定の電流を流し、背面電極1と複数枚の電子ビ
ーム制御電極4a、4b、4c、4dと蛍光体5に所定
の電位を印加すると、電子ビームが電子ビーム制御電極
4aに向かって引き出される。電子ビーム制御電極4
a、4b、4c、4dにはそれぞれ電子ビームが通過す
るスリット7が形成されており、電子ビームはこれらの
スリットを通過する間に、各電極に印加された電圧によ
り制御、集束、偏向され、高電圧が印加された蛍光体5
に衝突し、蛍光体5を発光させることにより画像を表示
するものである。
The operation will be described below. When a predetermined current is applied to the linear hot cathode 3 and a predetermined potential is applied to the back electrode 1, the plurality of electron beam control electrodes 4a, 4b, 4c, 4d, and the phosphor 5, the electron beam is changed to the electron beam control electrode 4a. Pulled out towards. Electron beam control electrode 4
a, 4b, 4c, and 4d are provided with slits 7 through which the electron beams pass, respectively. The electron beams are controlled, focused, and deflected by the voltage applied to each electrode while passing through these slits. Phosphor 5 to which high voltage is applied
The image is displayed by causing the phosphor 5 to emit light.

【0006】またこの時、前記絶縁スペーサ10は図9
に示すように、セラミックの焼結成形加工品12を用い
て電気的絶縁性を確保しているとともに、一方図10に
示すように固定板9は金属の部品13に電極4aが当接
する面に、絶縁スペーサ10と同様のセラミックの焼結
加工板14を複数枚載置した構成としている。
At this time, the insulating spacer 10 is moved to the position shown in FIG.
As shown in FIG. 10, electrical insulation is ensured by using a ceramic sintered product 12, while the fixing plate 9 is provided on the surface where the electrode 4a abuts on the metal component 13 as shown in FIG. , A plurality of sintered ceramic plates 14 similar to the insulating spacer 10 are mounted.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上記構成の画像表示装
置では基本的な画像表示特性は確保されるものである
が、次のような課題を有するものであった。
Although the image display device having the above-described structure can ensure the basic image display characteristics, it has the following problems.

【0008】すなわち電極ユニット群4を形成する場合
に各々の電子ビーム制御電極4a、4b、4c、4dを
接着スペーサ8を挟んだ状態で位置決めするとともに、
絶縁スペーサ10も位置決めして焼成炉で接着スペーサ
8に付いている接着フリットを溶融固化させて電極ユニ
ット群4を形成するものであるが、この場合絶縁スペー
サ10の仮固定が難しく、その脱落などが生じるもので
あった。
That is, when forming the electrode unit group 4, each of the electron beam control electrodes 4a, 4b, 4c and 4d is positioned with the adhesive spacer 8 interposed therebetween.
The insulating spacers 10 are also positioned, and the adhesive frit attached to the adhesive spacers 8 is melted and solidified in a firing furnace to form the electrode unit group 4. In this case, it is difficult to temporarily fix the insulating spacers 10, and the insulating spacers 10 may fall off. Occurred.

【0009】またこれらの電極ユニット群4を固定板9
を介して裏容器基板2に固定ネジ11で固定する際に、
前記の図9と図10に示すように絶縁スペーサ10と固
定板9に載置されているセラミックの焼結加工板14
は、接着スペーサ8と同様の比較的薄い板材であるた
め、この場合の力学的荷重に対して破損し易く絶縁性が
確保できなかったり、電子ビーム制御電極のスリット7
をその破片が閉塞してしまい、画像欠陥となるなどの欠
点を有していた。特にこの様な破損現象は表示装置本体
に振動や落下衝撃等を加えたときに著しく発生し、これ
はセラミック焼結成形品の機械的脆さが影響しているた
めである。
The electrode unit group 4 is fixed to the fixing plate 9
When fixing to the back container substrate 2 with the fixing screw 11 through
As shown in FIGS. 9 and 10, the ceramic sintered plate 14 placed on the insulating spacer 10 and the fixing plate 9 is used.
Is a relatively thin plate material similar to the adhesive spacer 8, so that it is easily damaged by the mechanical load in this case, insulation cannot be secured, or the slit 7 of the electron beam control electrode is not provided.
However, the shards were blocked, resulting in image defects. In particular, such a breakage phenomenon occurs remarkably when vibration, drop impact, or the like is applied to the display device main body, because the mechanical brittleness of the ceramic sintered molded product affects the display device body.

【0010】またこれらのセラミック焼結成形部材は各
々が比較的高コストであり、そのために画像表示装置そ
のもののコストアップの要因にもなるものであった。
[0010] Each of these ceramic sintered molded members is relatively expensive, and this also causes an increase in the cost of the image display device itself.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めの本発明の技術的手段は次の通りである。
The technical means of the present invention for solving the above problems is as follows.

【0012】真空容器内で電子ビームを発生させる手段
と、複数の開口部を設けた複数枚の積層電極群よりなる
前記電子ビームを偏向集束させる手段と、前記電子ビー
ムを蛍光体に衝突させて画像を形成する手段とより構成
された画像表示装置であって、前記積層電極は中心部領
域が接着スペーサで固定積層されているとともに各電極
の周辺は金属基板の絶縁スペーサを介して機械的に固定
積層され、前記絶縁スペーサの片面には溶射法により酸
化物セラミック系の絶縁性薄膜を形成指定しているとと
もに、さらにもう一方の片面には非晶質系のフリットガ
ラスの薄膜を形成し、接着スペーサの間隙d1と絶縁ス
ペーサの固定前の厚みd2がd1≦d2である様に構成
したものである。
A means for generating an electron beam in the vacuum vessel, a means for deflecting and converging the electron beam comprising a plurality of stacked electrode groups provided with a plurality of openings, and a method for causing the electron beam to collide with a phosphor. An image display device comprising: means for forming an image, wherein the laminated electrodes are fixedly laminated in the center region with an adhesive spacer, and the periphery of each electrode is mechanically interposed via an insulating spacer of a metal substrate. Fixed and laminated, while specifying the formation of an oxide ceramic insulating thin film on one side of the insulating spacer by thermal spraying, and further forming an amorphous frit glass thin film on the other side, The configuration is such that the gap d1 of the adhesive spacer and the thickness d2 of the insulating spacer before fixing are d1 ≦ d2.

【0013】[0013]

【作用】この技術的手段による作用は次のようになる。The operation of this technical means is as follows.

【0014】すなわち絶縁スペーサは薄板金属を基板と
してその少なくとも片面に、溶射法によって数百μm程
度の酸化物セラミックの絶縁層を設けているとともに、
固定板にも同様に金属基板面に絶縁層を同様の方法で設
けた構成としている。そのために従来問題であった力学
的な付加荷重に対して、金属の弾性と、溶射膜構造の特
異性を利用した対衝撃特性が向上し、絶縁性が完全に確
保されるとともに、数百μmの薄膜が短時間で製膜でき
低コストになる。また絶縁スペーサのもう片面に非晶質
系フリットガラスを形成することで絶縁スペーサの厚み
を調整し、接着スペーサとの厚み誤差を緩和するもので
ある。
That is, the insulating spacer has a thin metal substrate as a substrate, and at least one surface thereof is provided with an oxide ceramic insulating layer of about several hundred μm by thermal spraying.
Similarly, the fixing plate has a configuration in which an insulating layer is provided on the metal substrate surface in the same manner. As a result, the elasticity of the metal and the anti-impact characteristics utilizing the peculiarity of the sprayed film structure are improved against the mechanically applied load, which has been a problem in the past, and the insulation properties are completely ensured. Can be formed in a short time and the cost is low. Also, by forming an amorphous frit glass on the other surface of the insulating spacer, the thickness of the insulating spacer is adjusted, and the thickness error with the adhesive spacer is reduced.

【0015】[0015]

【実施例】以下本発明の実施例の画像表示装置につい
て、図面を参照しながら説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an image display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0016】(実施例1)図1は本発明の画像表示装置
の1実施例の断面図であり、図2は、図1のa−a断面
矢視図である。図に於て15は裏容器基板であり、これ
は平板のガラス基板にて構成されており、その片面には
背面電極16が形成されている。またこの裏容器基板1
5にはその周囲で真空封着された凹形状のガラス表容器
基板17が設けられている。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a sectional view of an embodiment of the image display apparatus of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view taken along the line aa of FIG. In the figure, reference numeral 15 denotes a back container substrate, which is formed of a flat glass substrate, and has a back electrode 16 formed on one surface thereof. In addition, this back container substrate 1
5 is provided with a concave glass surface container substrate 17 that is vacuum-sealed around its periphery.

【0017】表容器基板17の背面電極16と対向する
面には蛍光体18が設けられている。また裏容器基板1
5には複数の固定ポスト19が接着されており、その上
部には金属部材20が取り付けられている。さらにその
金属部材20に載置されるように固定板21が設けられ
ており、電極ユニット群22がその固定板21に載置さ
れている。
A phosphor 18 is provided on a surface of the front container substrate 17 facing the back electrode 16. Back container substrate 1
A plurality of fixing posts 19 are adhered to 5, and a metal member 20 is attached to an upper portion thereof. Further, a fixing plate 21 is provided so as to be mounted on the metal member 20, and the electrode unit group 22 is mounted on the fixing plate 21.

【0018】電極ユニット群22は複数の電極ビーム制
御22a、22b、22c、22d、22eおよび22
fよりなり、従来例と同様に図2に示すように接着スペ
ーサ23によって、その中心領域が所定間隙を保って積
層接着されている。また各電極には従来例に示すように
電子ビームが通過するスリットが形成されているととも
に、背面電極16と電子ビーム制御電極22aの空間に
は、図示していないが背面電極16と所定距離だけ離れ
て線状熱陰極(図示せず)が電極長手方向に複数本設け
られている。
The electrode unit group 22 includes a plurality of electrode beam controllers 22a, 22b, 22c, 22d, 22e and 22.
As shown in FIG. 2, the central region is laminated and bonded with a predetermined gap as shown in FIG. Each electrode is formed with a slit through which an electron beam passes as shown in the conventional example, and the space between the back electrode 16 and the electron beam control electrode 22a is spaced apart from the back electrode 16 by a predetermined distance (not shown). A plurality of spaced apart hot cathodes (not shown) are provided in the longitudinal direction of the electrode.

【0019】さらに電極周辺は図に示すように、各電極
間に絶縁スペーサ24がそれぞれ挿入され、上部の締め
付けビス25によって各電子ビーム制御電極22a、2
2b、22c、22d、22e、及び22fと、固定板
21と固定ポスト19の金属部材20とを固定してい
る。
Further, as shown in the drawing, insulating spacers 24 are inserted between the respective electrodes around the electrodes, and the electron beam control electrodes 22a, 22a,
2b, 22c, 22d, 22e, and 22f, the fixing plate 21 and the metal member 20 of the fixing post 19 are fixed.

【0020】この様に裏容器基板15と表容器基板17
によって容器内部は高真空状態が維持される構成となっ
ている。
As described above, the back container substrate 15 and the front container substrate 17
Thereby, a high vacuum state is maintained inside the container.

【0021】この時、本実施例では図3に示すように、
絶縁スペーサ24は薄板金属基板26の上に、絶縁皮膜
27を形成した構成としており、全体の厚みは約400
μm程度でありその内金属基板26部分は約200μm
程度である。また絶縁皮膜27は薄膜と言っても、絶縁
性を確保するためにはかなりの厚膜で必要であり、本願
発明では溶射方法により酸化物セラミックを形成してい
る。
At this time, in this embodiment, as shown in FIG.
The insulating spacer 24 has a configuration in which an insulating film 27 is formed on a thin metal substrate 26, and the entire thickness is about 400
μm, of which the metal substrate 26 is about 200 μm
It is about. Even if the insulating film 27 is a thin film, it is necessary to be a considerably thick film in order to ensure insulation. In the present invention, an oxide ceramic is formed by a thermal spraying method.

【0022】また一方、固定板21は図4(a)に示す
ように、金属加工基板28の電子ビーム制御電極22a
と当接する面側に、絶縁スペーサ24と同様の溶射法に
より絶縁皮膜29を設けた構成としている。この時、図
4(b)に示すように酸化物セラミックの絶縁皮膜29
を直接形成した構成としたり、図4(c)に示すように
薄板金属基板30に同様の方法で絶縁皮膜31を形成し
たものを載置する構成としている。
On the other hand, as shown in FIG. 4A, the fixed plate 21 is provided with an electron beam control electrode 22a of a metal processing substrate 28.
The insulating film 29 is provided on the surface in contact with the insulating spacer 29 by the same thermal spraying method as the insulating spacer 24. At this time, as shown in FIG.
4 or a structure in which an insulating film 31 is formed on a thin metal substrate 30 by the same method as shown in FIG.

【0023】この様に絶縁スペーサ24の場合や、固定
板21は金属基板面に溶射法によって絶縁皮膜を形成し
ているために、その基本機能である電気的絶縁性能は充
分確保されることは勿論のこと、従来のセラミック焼結
成形品で問題となっていた締め付けビスで締結する際の
力学的付加加重による、絶縁スペーサの破損や、特に落
下衝撃等の付加時のこれらの絶縁スペーサや板状セラミ
ック焼結成形部材の破損による絶縁性不良や画像欠陥不
良に対し、金属の弾性と、溶射膜構造が図3、4に示す
ように若干の半緻密性で積層構造となっているための垂
直荷重への負荷に対して強くなり、結果として対衝撃特
性が向上し、この様な絶縁膜の破損による不良が解決で
きるものである。
As described above, in the case of the insulating spacer 24 and the fixing plate 21 in which the insulating film is formed on the surface of the metal substrate by the thermal spraying method, it is difficult to sufficiently secure the electric insulating performance which is a basic function thereof. Of course, these insulating spacers and plates may be damaged when the insulating spacers are damaged due to the mechanical load applied when fastening with the fastening screw, which has been a problem with conventional ceramic sintered molded products, and especially when a drop impact is applied. Insulation failure and image defect failure due to breakage of the sintered ceramic shaped member, due to the elasticity of the metal and the sprayed film structure having a laminated structure with a slight semi-density as shown in FIGS. It becomes strong against the load to the vertical load, and as a result, the anti-shock property is improved, and such a failure due to the damage of the insulating film can be solved.

【0024】(実施例2)また図5には本願発明の第2
の実施例を示している。
(Embodiment 2) FIG. 5 shows a second embodiment of the present invention.
Is shown.

【0025】すなわち絶縁スペーサ24′として、薄板
金属基板32に片面には酸化物セラミックによる絶縁皮
膜33を所定厚さ製膜し、さらにもう片面には同じく溶
射法や印刷法によって非晶質の接着フリット34を形成
したものであり、さらにスペーサ全体の厚みとしては、
各電子ビーム制御電極を中心領域で所定間隙で接着固定
する接着スペーサ23の厚みよりも少し大きめの厚みと
しているものである。
That is, as the insulating spacer 24 ', an insulating film 33 made of oxide ceramic is formed on one surface of the thin metal substrate 32 to a predetermined thickness, and on the other surface, an amorphous adhesive film is formed by spraying or printing. The frit 34 is formed, and the thickness of the entire spacer is
The thickness of each of the electron beam control electrodes is slightly larger than the thickness of the adhesive spacer 23 for adhesively fixing the electron beam control electrodes at a predetermined gap in the central region.

【0026】この実施例における作用効果は次の如くで
ある。すなわち図6(a)に示すように、電極の各電極
間の間隙寸法は接着スペーサ22の厚みd1によって規
定されてしまう。そのため周辺を固定する絶縁スペーサ
24′の厚みd2がd1>d2の場合、接着スペーサ2
3の端面を支点として曲げモーメント35が発生し、接
着スペーサ23端部で図の様な破損36が発生する。
The operation and effect of this embodiment are as follows. That is, as shown in FIG. 6A, the gap between the electrodes is determined by the thickness d1 of the adhesive spacer 22. Therefore, when the thickness d2 of the insulating spacer 24 'for fixing the periphery is d1> d2, the adhesive spacer 2'
A bending moment 35 is generated with the end face of No. 3 as a fulcrum, and a breakage 36 as shown in FIG.

【0027】一方d1<d2の場合には、逆に接着スペ
ーサ23と電極22′を剥離させる力が作用してしまう
ものである。
On the other hand, in the case of d1 <d2, conversely, a force acts to peel off the adhesive spacer 23 and the electrode 22 '.

【0028】これらの課題を解決するには絶縁スペーサ
24′と接着スペーサ23との厚みを微妙に制御するこ
とが必要となり、溶射法などで製膜して絶縁皮膜の厚み
を制御することははなはだ困難である。
In order to solve these problems, it is necessary to finely control the thickness of the insulating spacer 24 'and the adhesive spacer 23, and it is very difficult to control the thickness of the insulating film by forming a film by a thermal spraying method or the like. Have difficulty.

【0029】そこで本実施例では前記の如く片面に非晶
質の接着フリット34を形成し、全体厚みを接着スペー
サ23の厚みよりも大きくしているために、接着スペー
サ23で電極ユニット群22を形成してそれを締め付け
ビス25′で固定する際に、図6(b)に示すように、
焼成炉でその非晶質フリット34を溶融状態として接着
スペーサ23の厚み間隙d1との厚み間隙調整を行い、
余分なフリット37をはみださせてd1=d2に調整
し、しかる後にその厚み状態で固化させるものである。
この時このフリット34はまた、絶縁スペーサ24′を
各電極間に仮止めできる効果をも有するものである。
Therefore, in this embodiment, since the amorphous adhesive frit 34 is formed on one side as described above and the entire thickness is made larger than the thickness of the adhesive spacer 23, the electrode unit group 22 is formed by the adhesive spacer 23. When it is formed and fixed with the fastening screw 25 ', as shown in FIG.
In the firing furnace, the amorphous frit 34 is melted to adjust the thickness gap with the thickness gap d1 of the adhesive spacer 23,
The excess frit 37 is protruded, adjusted to d1 = d2, and then solidified in its thickness state.
At this time, the frit 34 also has an effect that the insulating spacer 24 'can be temporarily fixed between the electrodes.

【0030】これらの結果、前述の寸法不一致による課
題が解決し、機能、生産性両面に優れた画像表示装置が
提供できるものである。またこの時非晶質フリット34
の形成は印刷法、溶射法どちらの方法でも可能である
が、同一プロセスの観点からは溶射法が望ましいことは
当然である。
As a result, the problem caused by the dimensional mismatch described above is solved, and an image display device excellent in both functions and productivity can be provided. At this time, the amorphous frit 34
Can be formed by either the printing method or the thermal spraying method, but it is natural that the thermal spraying method is desirable from the viewpoint of the same process.

【0031】(実施例3)また図7には本願発明の第3
の実施例を示している。
(Embodiment 3) FIG. 7 shows a third embodiment of the present invention.
Is shown.

【0032】この実施例では、絶縁スペーサを24″を
直接電極面22″に形成する方法であり、今までは、所
定形状に加工した薄板金属部品に溶射法により絶縁皮膜
を形成したものを、各電極間に載置して絶縁スペーサと
していたが、本発明ではその部材と工程を省略し、直接
電極面22″に溶射トーチ38をスポット的に移動して
スペーサ24″を形成するものであり、本実施例では図
示していないがスペーサ形状に合わせたマスク方式で形
成しているものである。
In this embodiment, an insulating spacer 24 "is formed directly on the electrode surface 22". Until now, an insulating film formed by spraying a thin metal part processed into a predetermined shape has been used. Although the insulating spacer is placed between the electrodes, the members and steps are omitted in the present invention, and the thermal spraying torch 38 is directly moved to the electrode surface 22 "in a spot-like manner to form the spacer 24". Although not shown in the present embodiment, they are formed by a mask method adapted to the shape of the spacer.

【0033】この方法によれば、全体のプロセスとして
簡素化できるとともに、材料費も大幅に低減でき多大な
効果を有するものである。
According to this method, the whole process can be simplified, and the material cost can be greatly reduced, which has a great effect.

【0034】[0034]

【発明の効果】以上のように本発明によれば次のような
効果を有するものである。
As described above, according to the present invention, the following effects can be obtained.

【0035】すなわち絶縁スペーサは薄板金属を基板と
してその少なくとも片面に、溶射法によって数百μm程
度の酸化物セラミックの絶縁層を設けているとともに、
固定板にも同様に金属基板面に絶縁層を同様の方法で設
けた構成としている。
That is, the insulating spacer has a thin metal substrate as a substrate, and at least one surface thereof is provided with an oxide ceramic insulating layer of about several hundred μm by thermal spraying.
Similarly, the fixing plate has a configuration in which an insulating layer is provided on the metal substrate surface in the same manner.

【0036】そのために従来問題であった力学的な付加
荷重に対して、金属の弾性と、溶射膜構造の特異性を利
用した対衝撃特性が向上し、絶縁性が完全に確保される
とともに、数百μmの薄膜が短時間で製膜でき低コスト
になる。
[0036] Therefore, against the mechanically applied load, which has been a problem in the past, the elasticity of the metal and the anti-impact characteristics utilizing the peculiarity of the sprayed film structure are improved, and the insulation is completely secured. A thin film having a thickness of several hundreds of μm can be formed in a short time, resulting in low cost.

【0037】また絶縁スペーサのもう片面に非晶質系フ
リットガラスを形成することで絶縁スペーサの厚みを調
整し、接着スペーサとの厚み誤差を緩和して裕度のある
製造方法を提供できるとともに、全体として生産性の良
い画像表示装置の製造方法を提供することができるもの
である。
Further, by forming an amorphous frit glass on the other surface of the insulating spacer, the thickness of the insulating spacer can be adjusted, the thickness error with the adhesive spacer can be reduced, and a manufacturing method with a sufficient margin can be provided. It is possible to provide a method of manufacturing an image display device having high productivity as a whole.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施例の画像表示装置の断面図FIG. 1 is a sectional view of an image display device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1のa−a断面矢視図FIG. 2 is a sectional view taken along the line aa of FIG. 1;

【図3】同実施例における絶縁スペーサの構成図FIG. 3 is a configuration diagram of an insulating spacer in the embodiment.

【図4】同実施例における固定板の構成図FIG. 4 is a configuration diagram of a fixing plate in the embodiment.

【図5】本発明の第2の実施例における絶縁スペーサの
構成図
FIG. 5 is a configuration diagram of an insulating spacer according to a second embodiment of the present invention.

【図6】絶縁スペーサと接着フリットとの厚みによる影
響を示す概略図
FIG. 6 is a schematic diagram showing the effect of the thickness of the insulating spacer and the adhesive frit.

【図7】本発明の第3の実施例における、溶射法により
直接電極に絶縁スペーサを形成する製造法の概略図
FIG. 7 is a schematic view of a manufacturing method of forming an insulating spacer directly on an electrode by a thermal spraying method according to a third embodiment of the present invention.

【図8】従来例の画像表示装置を示す斜視図FIG. 8 is a perspective view showing a conventional image display device.

【図9】従来例の絶縁スペーサの構成図FIG. 9 is a configuration diagram of a conventional insulating spacer.

【図10】従来例の固定板の構成図FIG. 10 is a configuration diagram of a conventional fixing plate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

15 裏容器基板 16 背面電極 17 表容器基板 18 蛍光体 21 固定板 22 電極ユニット群 23 接着スペーサ 24 絶縁スペーサ牡型 27 溶射絶縁皮膜 34 非晶質接着フリット 38 溶射トーチ 15 Back Container Substrate 16 Back Electrode 17 Front Container Substrate 18 Phosphor 21 Fixing Plate 22 Electrode Unit Group 23 Adhesive Spacer 24 Insulating Spacer Die 27 Thermal Spray Insulating Film 34 Amorphous Adhesive Frit 38 Thermal Spray Torch

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−232618(JP,A) 特開 平4−249048(JP,A) 特開 平2−257550(JP,A) 特開 平4−206422(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01J 29/46 C23C 4/12 H01J 9/02 H01J 31/12 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (56) References JP-A-60-232618 (JP, A) JP-A-4-249048 (JP, A) JP-A-2-257550 (JP, A) JP-A-4-232 206422 (JP, A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) H01J 29/46 C23C 4/12 H01J 9/02 H01J 31/12

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】真空容器内で電子ビームを発生させる手段
と、複数の開口部を設けた複数枚の積層電極群よりなる
前記電子ビームを偏向集束させる手段と、前記電子ビー
ムを蛍光体に衝突させて画像を形成する手段とより構成
された画像表示装置であって、前記積層電極は中心部領
域が接着スペーサで固定積層されているとともに各電極
の周辺は金属基板の絶縁スペーサを介して機械的に固定
積層され、前記絶縁スペーサの片面には溶射法により酸
化物セラミック系の絶縁性薄膜を形成し、もう一方の片
面には非晶質系のフリットガラスの薄膜を形成し、接着
スペーサの間隙d1と絶縁スペーサの固定前の厚みd2
がd1≦d2であることを特徴とする画像表示装置
A means for generating an electron beam in a vacuum vessel; a means for deflecting and converging the electron beam comprising a plurality of stacked electrode groups provided with a plurality of openings; and impinging the electron beam on a phosphor. An image display device comprising: means for forming an image by causing the laminated electrode to be fixedly laminated in the center region with an adhesive spacer, and the periphery of each electrode is mechanically arranged via an insulating spacer of a metal substrate. The insulating spacer is formed on one side of the insulating spacer by a thermal spraying method, and the other side of the insulating spacer is formed of an amorphous frit glass thin film. Gap d1 and thickness d2 of insulating spacer before fixing
Wherein d1 ≦ d2.
【請求項2】非晶質系フリットガラスは溶射法あるいは
印刷法で形成したことを特徴とする請求項記載の画像
表示装置
2. An image display apparatus according to claim 1, wherein the amorphous system frit glass formed by spraying method, printing method
【請求項3】真空容器内で電子ビームを発生させる手段
と、複数の開口部を設けた複数枚の積層電極群よりなる
前記電子ビームを偏向集束させる手段と、前記電子ビー
ムを蛍光体に衝突させて画像を形成する手段とより構成
された画像表示装置であって、前記積層電極の周辺には
各電極を積層固定するための厚み数百μmの絶縁セラミ
ック薄膜よりなるスペーサを、溶射法により電極面に直
接形成することを特徴とする画像表示装置の製造方法
3. A means for generating an electron beam in a vacuum vessel, means for deflecting and converging the electron beam comprising a plurality of stacked electrode groups provided with a plurality of openings, and impinging the electron beam on a phosphor. And an image display device comprising means for forming an image by means of a spraying method, wherein a spacer made of an insulating ceramic thin film having a thickness of several hundred μm for laminating and fixing each electrode is formed around the laminated electrode by a thermal spraying method. A method of manufacturing an image display device, wherein the method is directly formed on an electrode surface.
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