JP2556294B2 - 樹脂封止型半導体装置 - Google Patents
樹脂封止型半導体装置Info
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Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、樹脂封止型半導体装置
に関し、特に半導体装置の低熱抵抗化パッケージング技
術に関するものである。
に関し、特に半導体装置の低熱抵抗化パッケージング技
術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体素子の高密度化、高機能化により
その体積当たりの発熱量は増加傾向にある。そこで、安
価な樹脂封止型パッケージの半導体装置においても低熱
抵抗パッケージ構造を採用されるようになってきてい
る。樹脂封止型の低熱抵抗型パッケージの代表的なもの
としては、放熱板タイプとヒートスプレッダタイプとが
知られている。これらは、放熱板上に半導体チップを搭
載した状態で樹脂モールドを行ったものであり、前者
は、放熱板が樹脂モールドの表面に露出するタイプをい
い、後者は放熱板がモールド樹脂内に封止されたものを
いう。この内、後者は耐湿信頼性が高いことから半導体
集積回路において賞用されている。
その体積当たりの発熱量は増加傾向にある。そこで、安
価な樹脂封止型パッケージの半導体装置においても低熱
抵抗パッケージ構造を採用されるようになってきてい
る。樹脂封止型の低熱抵抗型パッケージの代表的なもの
としては、放熱板タイプとヒートスプレッダタイプとが
知られている。これらは、放熱板上に半導体チップを搭
載した状態で樹脂モールドを行ったものであり、前者
は、放熱板が樹脂モールドの表面に露出するタイプをい
い、後者は放熱板がモールド樹脂内に封止されたものを
いう。この内、後者は耐湿信頼性が高いことから半導体
集積回路において賞用されている。
【0003】図4は、この種従来のヒートスプレッダ型
半導体装置の構造を示す断面図である。同図に示される
ように、Cuからなるヒートスプレッダ11は、リード
フレームのリード(以下、LFリードと記す)3にポリ
イミド等からなる絶縁テープ12により接着されてい
る。半導体チップ1は、Agペースト等からなるダイボ
ンド材4にてヒートスプレッダ11上に固着されてい
る。半導体チップ上のパッドとLFリード3との間はボ
ンディングワイヤ5にて接続され、全体はエポキシ樹脂
等からなる封止樹脂にて封止されている。
半導体装置の構造を示す断面図である。同図に示される
ように、Cuからなるヒートスプレッダ11は、リード
フレームのリード(以下、LFリードと記す)3にポリ
イミド等からなる絶縁テープ12により接着されてい
る。半導体チップ1は、Agペースト等からなるダイボ
ンド材4にてヒートスプレッダ11上に固着されてい
る。半導体チップ上のパッドとLFリード3との間はボ
ンディングワイヤ5にて接続され、全体はエポキシ樹脂
等からなる封止樹脂にて封止されている。
【0004】この従来の半導体装置は以下のように組み
立てられる。予め、ヒートスプレッダ11が絶縁テープ
12にて接着されているリードフレームを用意し、ヒー
トスプレッダ11上にAgペーストを塗布し、半導体チ
ップ1を搭載する。230℃程度の温度で熱処理をおこ
なってAgペーストをキュアし、半導体チップを固着す
る。次に、超音波併用熱圧着法(thermo-sonic bondin
g:TS法)を用いて、半導体チップのパッドとLFリ
ード3間をAu線からなるボンディングワイヤ5にて接
続する。このとき、リードフレームおよび半導体チップ
は、230℃程度に加熱される。次いで、トランスファ
モールド(transfer molding)法を用いて樹脂封止を行
う。最後に、リードフレームのメッキ、切断を行い、リ
ード成形を行って完成品を得る。
立てられる。予め、ヒートスプレッダ11が絶縁テープ
12にて接着されているリードフレームを用意し、ヒー
トスプレッダ11上にAgペーストを塗布し、半導体チ
ップ1を搭載する。230℃程度の温度で熱処理をおこ
なってAgペーストをキュアし、半導体チップを固着す
る。次に、超音波併用熱圧着法(thermo-sonic bondin
g:TS法)を用いて、半導体チップのパッドとLFリ
ード3間をAu線からなるボンディングワイヤ5にて接
続する。このとき、リードフレームおよび半導体チップ
は、230℃程度に加熱される。次いで、トランスファ
モールド(transfer molding)法を用いて樹脂封止を行
う。最後に、リードフレームのメッキ、切断を行い、リ
ード成形を行って完成品を得る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上述したヒートスレッ
ダタイプでは、ヒートスプレッダが予めリードフレーム
に接着されている構造となっているため、接着剤(絶縁
テープ)がダイボンド、ワイヤボンディングの両工程に
おいて、かなりの高温にさらされることになり、その熱
履歴が長くなることにより劣化の恐れが生じる。
ダタイプでは、ヒートスプレッダが予めリードフレーム
に接着されている構造となっているため、接着剤(絶縁
テープ)がダイボンド、ワイヤボンディングの両工程に
おいて、かなりの高温にさらされることになり、その熱
履歴が長くなることにより劣化の恐れが生じる。
【0006】その一方で、半導体チップは昨今の設計ル
ールの微細化により微細化、高集積化が進められ、パッ
ド面積も縮小されつつある。ところが、リードフレーム
の方は半導体チップの微細化に見合う程度には縮小され
ていないため、半導体チップとリードフレームのボンデ
ィング個所との距離が長くなり、長ワイヤボンディング
が必要となってきている。この長ワイヤボンディングを
位置精度高く行うためには、超音波の低エネルギー化が
必要となり、また、上述したようにチップ上のパッド面
積が縮小された場合には、Auボールの小型化も必要と
なる。
ールの微細化により微細化、高集積化が進められ、パッ
ド面積も縮小されつつある。ところが、リードフレーム
の方は半導体チップの微細化に見合う程度には縮小され
ていないため、半導体チップとリードフレームのボンデ
ィング個所との距離が長くなり、長ワイヤボンディング
が必要となってきている。この長ワイヤボンディングを
位置精度高く行うためには、超音波の低エネルギー化が
必要となり、また、上述したようにチップ上のパッド面
積が縮小された場合には、Auボールの小型化も必要と
なる。
【0007】このような状況下にあって、ボンディング
ワイヤの接着強度を確保するためには、半導体チップお
よびリードフレームをより高温(例えば300℃)に保
持することが必要となる。また、半導体チップのダイボ
ンドについてもより強固により低抵抗でアイランド(従
来例の場合はヒートスプレッダ)に接続したいという要
求がある。この要求に応えるには、Agガラス・ペース
トの使用が有望であるが、これを採用する場合にはやは
り高温(例えば350℃)での熱処理が必要となる。し
かし、従来のヒートスプレッダ型の半導体装置では、接
着剤(絶縁テープ)の劣化が問題となるため、このよう
な高温熱処理を加えることができず、高い接着強度、低
抵抗の接続を実現することは困難であった。
ワイヤの接着強度を確保するためには、半導体チップお
よびリードフレームをより高温(例えば300℃)に保
持することが必要となる。また、半導体チップのダイボ
ンドについてもより強固により低抵抗でアイランド(従
来例の場合はヒートスプレッダ)に接続したいという要
求がある。この要求に応えるには、Agガラス・ペース
トの使用が有望であるが、これを採用する場合にはやは
り高温(例えば350℃)での熱処理が必要となる。し
かし、従来のヒートスプレッダ型の半導体装置では、接
着剤(絶縁テープ)の劣化が問題となるため、このよう
な高温熱処理を加えることができず、高い接着強度、低
抵抗の接続を実現することは困難であった。
【0008】また、従来のヒートスプレッダ型のもので
は、より高温(〜500℃)の接続技術が必要となる、
TAB(tape automated bonding)方式のボンディング
が不可能であるため、TABリードを用いた半導体装置
には適用することができなかった。
は、より高温(〜500℃)の接続技術が必要となる、
TAB(tape automated bonding)方式のボンディング
が不可能であるため、TABリードを用いた半導体装置
には適用することができなかった。
【0009】本発明のこのような状況に鑑みてなされた
ものであって、その目的とするところは、高温ボンディ
ング技術を採用しうるヒートスプレッダ型半導体装置を
提供することであり、このことにより、放熱性に優れか
つダイボンド強度が高く、ダイボンド部およびワイヤボ
ンディング部での接続抵抗の低い樹脂封止型半導体装置
を提供しうるようにしようとするものである。
ものであって、その目的とするところは、高温ボンディ
ング技術を採用しうるヒートスプレッダ型半導体装置を
提供することであり、このことにより、放熱性に優れか
つダイボンド強度が高く、ダイボンド部およびワイヤボ
ンディング部での接続抵抗の低い樹脂封止型半導体装置
を提供しうるようにしようとするものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明によれば、半導体チップ(1)の上面に形成
された電極とリードフレームのインナーリード(3)と
が導電体(4、10)によって接続され、前記半導体チ
ップの上面に放熱板(6)が接着され、これら全体が樹
脂(8)にて封止されているものであって、前記放熱板
には1乃至複数の開口(6b)が形成され該開口が封止
樹脂にて充填されていることを特徴とする樹脂封止型半
導体装置、が提供される。
め、本発明によれば、半導体チップ(1)の上面に形成
された電極とリードフレームのインナーリード(3)と
が導電体(4、10)によって接続され、前記半導体チ
ップの上面に放熱板(6)が接着され、これら全体が樹
脂(8)にて封止されているものであって、前記放熱板
には1乃至複数の開口(6b)が形成され該開口が封止
樹脂にて充填されていることを特徴とする樹脂封止型半
導体装置、が提供される。
【0011】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。 [第1の実施例]図1は、本発明の第1の実施例を示す
断面図である。同図に示すように、半導体チップ1は、
リードフレームのアイランド2上にダイボンド材4にて
固着されており、半導体チップ上のパッドとLFリード
3との間は、ボンディングワイヤ5で接続されている。
半導体チップ1上には、絶縁性接着剤7にてヒートスプ
レッダ6が固着されており、全体は封止樹脂8にて封止
されている。
て説明する。 [第1の実施例]図1は、本発明の第1の実施例を示す
断面図である。同図に示すように、半導体チップ1は、
リードフレームのアイランド2上にダイボンド材4にて
固着されており、半導体チップ上のパッドとLFリード
3との間は、ボンディングワイヤ5で接続されている。
半導体チップ1上には、絶縁性接着剤7にてヒートスプ
レッダ6が固着されており、全体は封止樹脂8にて封止
されている。
【0012】図2に、ヒートスプレッダ6の例を斜視図
にて示す。同図に示されるように、ヒートスプレッダ6
の中央部には凹部6aが形成されており、これによりボ
ンディングワイヤの接触が避けられるようになってい
る。また、図2(a)、(b)に示されるように、ヒー
トスプレッダ6には、トランスファモールド工程中にお
ける樹脂の流れを確保するための複数の開口6bが形成
されている。この開口6bの形状、位置、個数は、樹脂
封止金型の形状、封止樹脂の注入口の形状等により適宜
に決定される。この開口を設けたことにより、ヒートス
プレッダを大きくしても封止性が確保されるので、より
大きな金属板を使うことができ、高い放熱性を実現でき
る。また、この開口6bは封止後アンカー効果によりヒ
ートスプレッダ6と封止樹脂8との結合を強固にする。
にて示す。同図に示されるように、ヒートスプレッダ6
の中央部には凹部6aが形成されており、これによりボ
ンディングワイヤの接触が避けられるようになってい
る。また、図2(a)、(b)に示されるように、ヒー
トスプレッダ6には、トランスファモールド工程中にお
ける樹脂の流れを確保するための複数の開口6bが形成
されている。この開口6bの形状、位置、個数は、樹脂
封止金型の形状、封止樹脂の注入口の形状等により適宜
に決定される。この開口を設けたことにより、ヒートス
プレッダを大きくしても封止性が確保されるので、より
大きな金属板を使うことができ、高い放熱性を実現でき
る。また、この開口6bは封止後アンカー効果によりヒ
ートスプレッダ6と封止樹脂8との結合を強固にする。
【0013】ヒートスプレッダ6は、半導体チップ1の
発熱素子の形成されている表面近くに接着されているた
め、効果的に熱を放散させることができる。また、この
ヒートスプレッダが封止樹脂中に埋め込まれたことによ
り、樹脂封止パッケージの反りを効果的に防止すること
ができる。
発熱素子の形成されている表面近くに接着されているた
め、効果的に熱を放散させることができる。また、この
ヒートスプレッダが封止樹脂中に埋め込まれたことによ
り、樹脂封止パッケージの反りを効果的に防止すること
ができる。
【0014】次に、本実施例の半導体装置の製造方法に
ついて説明する。銅(Cu)からなるリードフレームの
アイランド2上にダイボンド材4としてAgガラス・ペ
ーストを塗布し、半導体チップ1を搭載して400℃に
て焼成を行った。次に、超音波併用熱圧着法を用いて、
半導体チップのパッドとLFリード3間をAu線からな
るボンディングワイヤ5にて接続する。このときの加熱
温度は280℃であった。次に、絶縁性接着剤7として
熱硬化型シリコン樹脂をチップ上に塗布し、Cu製のヒ
ートスプレッダ6を載置した後、200℃にてキュアを
行った。その後、180℃でのトランスファモールド法
により、パッケージングを行い、さらに、リードフレー
ムのメッキ、切断、成形を行って完成品を得る。
ついて説明する。銅(Cu)からなるリードフレームの
アイランド2上にダイボンド材4としてAgガラス・ペ
ーストを塗布し、半導体チップ1を搭載して400℃に
て焼成を行った。次に、超音波併用熱圧着法を用いて、
半導体チップのパッドとLFリード3間をAu線からな
るボンディングワイヤ5にて接続する。このときの加熱
温度は280℃であった。次に、絶縁性接着剤7として
熱硬化型シリコン樹脂をチップ上に塗布し、Cu製のヒ
ートスプレッダ6を載置した後、200℃にてキュアを
行った。その後、180℃でのトランスファモールド法
により、パッケージングを行い、さらに、リードフレー
ムのメッキ、切断、成形を行って完成品を得る。
【0015】上述のように、本発明による半導体装置の
組み立て工程では、ヒートスプレッダの接着後には、高
温の熱処理が実施されないので、接着剤が劣化すること
はなくなる。また、ボンディング工程が、ヒートスプレ
ッダの接着工程の前に設定されているので、十分の高温
にてダイボンディング、ワイヤボンディングを実施する
ことができるようになり、高い接着強度のボンディン
グ、低抵抗の接続が可能となり、半導体装置の信頼性を
向上させることができる。
組み立て工程では、ヒートスプレッダの接着後には、高
温の熱処理が実施されないので、接着剤が劣化すること
はなくなる。また、ボンディング工程が、ヒートスプレ
ッダの接着工程の前に設定されているので、十分の高温
にてダイボンディング、ワイヤボンディングを実施する
ことができるようになり、高い接着強度のボンディン
グ、低抵抗の接続が可能となり、半導体装置の信頼性を
向上させることができる。
【0016】[第2の実施例]図3は、本発明の第2の
実施例の断面図である。本実施例は、QFP(quadflat
package)構造のインナーリードボンディングにTAB
リードを用いたTAB−QFP構造の半導体装置におい
て、低熱抵抗パッケージが必要な場合に適用されるもの
である。図3において、図1の実施例の部分と対応する
部分には同一の参照番号が付せられているので重複する
説明は省略するが、本実施例においては、半導体チップ
1には、バンプ9が形成されており、このバンプ9とL
Fリード3との間はTABリード10により接続されて
いる。
実施例の断面図である。本実施例は、QFP(quadflat
package)構造のインナーリードボンディングにTAB
リードを用いたTAB−QFP構造の半導体装置におい
て、低熱抵抗パッケージが必要な場合に適用されるもの
である。図3において、図1の実施例の部分と対応する
部分には同一の参照番号が付せられているので重複する
説明は省略するが、本実施例においては、半導体チップ
1には、バンプ9が形成されており、このバンプ9とL
Fリード3との間はTABリード10により接続されて
いる。
【0017】TAB−QFPでは、TABリードのLF
リードへのボンディング(TABリードのアウタリード
ボンディング)の際に、高温(約500℃)の熱処理が
必要であり、そのため、ヒートスプレッダをリードフレ
ームに接着剤で接着しておく従来のヒートスプレッダ構
造では、TAB方式を採用することはできなかった。し
かし、本発明のように、アウタリードボンディング後に
ヒートスプレッダを半導体チップに接着する構造とする
ことにより、TAB−QFP構造の半導体装置において
も、ヒートスプレッダ方式の低熱抵抗化手段を採用する
ことが可能となる。
リードへのボンディング(TABリードのアウタリード
ボンディング)の際に、高温(約500℃)の熱処理が
必要であり、そのため、ヒートスプレッダをリードフレ
ームに接着剤で接着しておく従来のヒートスプレッダ構
造では、TAB方式を採用することはできなかった。し
かし、本発明のように、アウタリードボンディング後に
ヒートスプレッダを半導体チップに接着する構造とする
ことにより、TAB−QFP構造の半導体装置において
も、ヒートスプレッダ方式の低熱抵抗化手段を採用する
ことが可能となる。
【0018】以上好ましい実施例について説明したが、
本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本願発
明の要旨を変更しない範囲内において各種の変更が可能
である。例えば、実施例では、ガルウィング(gull-win
g)タイプのパッケージについて説明したが、本発明は、
SOJ(small outline J-leaded package)型半導体装
置等他のタイプの半導体装置にも適用が可能である。ま
た、封止樹脂として高熱伝導性タイプのものを用いるこ
とができる。
本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本願発
明の要旨を変更しない範囲内において各種の変更が可能
である。例えば、実施例では、ガルウィング(gull-win
g)タイプのパッケージについて説明したが、本発明は、
SOJ(small outline J-leaded package)型半導体装
置等他のタイプの半導体装置にも適用が可能である。ま
た、封止樹脂として高熱伝導性タイプのものを用いるこ
とができる。
【0019】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によるヒー
トスプレッダタイプの半導体装置は、通常のアイランド
一体型リードフレームを使用して製造されるものである
ので、ダイボンディング、ワイヤボンディングにおい
て、高温のボンディング技術を採用することが可能にな
る。したがって、本発明によれば、半導体チップを低抵
抗でかつ安定してマウントすることができ、また、長ワ
イヤボンディングが必要となった場合にも高い精度でか
つ良好な接続状態にてワイヤボンディングを行うことが
できる。また、パッケージ中に金属板が埋め込まれたこ
とによりパッケージの反りが低減され、コプラナリティ
が改善される。さらに、金属板に開口を設けたことによ
り、金属板を大きくしても樹脂封止時に樹脂の流れを阻
害しないようにすることができるとともに封止樹脂と金
属板との密着性を向上させことができる。本発明のパッ
ケージ構造の低熱抵抗化効果については、一般に、低熱
抵抗化効果は金属板の大きさに影響されるところ、本発
明では構造的に従来のヒートスプレッダと同等の大きさ
の金属板が使用できるので、従来のヒートスプレッダタ
イプ並の一般樹脂封止パッケージ比30%の低熱抵抗化
が図れる。
トスプレッダタイプの半導体装置は、通常のアイランド
一体型リードフレームを使用して製造されるものである
ので、ダイボンディング、ワイヤボンディングにおい
て、高温のボンディング技術を採用することが可能にな
る。したがって、本発明によれば、半導体チップを低抵
抗でかつ安定してマウントすることができ、また、長ワ
イヤボンディングが必要となった場合にも高い精度でか
つ良好な接続状態にてワイヤボンディングを行うことが
できる。また、パッケージ中に金属板が埋め込まれたこ
とによりパッケージの反りが低減され、コプラナリティ
が改善される。さらに、金属板に開口を設けたことによ
り、金属板を大きくしても樹脂封止時に樹脂の流れを阻
害しないようにすることができるとともに封止樹脂と金
属板との密着性を向上させことができる。本発明のパッ
ケージ構造の低熱抵抗化効果については、一般に、低熱
抵抗化効果は金属板の大きさに影響されるところ、本発
明では構造的に従来のヒートスプレッダと同等の大きさ
の金属板が使用できるので、従来のヒートスプレッダタ
イプ並の一般樹脂封止パッケージ比30%の低熱抵抗化
が図れる。
【図1】本発明の第1の実施例の断面図。
【図2】本発明の実施例に用いられるヒートスプレッダ
の斜視図。
の斜視図。
【図3】本発明の第2の実施例の断面図。
【図4】従来例の断面図。
1 半導体チップ 2 アイランド 3 LFリード(リードフレームのリード) 4 ダイボンド材 5 ボンディングワイヤ 6、11 ヒートスプレッダ 6a 凹部 6b 開口 7 絶縁性接着剤 8 封止樹脂 9 バンプ 10 TABリード 12 絶縁テープ
Claims (3)
- 【請求項1】 半導体チップの上面に形成された電極と
リードフレームのインナーリードとが導電体によって接
続され、前記半導体チップの上面に放熱板が接着され、
これら全体が樹脂にて封止されている樹脂封止型半導体
装置であって、前記放熱板には1乃至複数の開口が設け
られかつ該開口内が封止樹脂にて充填されていることを
特徴とする樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項2】 前記放熱板が、概略凹の字から凵の部分
を除去した断面形状をしており、その下へ突出した部分
の底面が前記半導体チップの上面に接着されていること
を特徴とする請求項1記載の樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項3】 前記導電体がTABリードであることを
特徴とする請求項1記載の樹脂封止型半導体装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6128094A JP2556294B2 (ja) | 1994-05-19 | 1994-05-19 | 樹脂封止型半導体装置 |
US08/424,795 US5616957A (en) | 1994-05-19 | 1995-04-19 | Plastic package type semiconductor device |
KR1019950009648A KR100192028B1 (ko) | 1994-05-19 | 1995-04-24 | 플라스틱 밀봉형 반도체 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6128094A JP2556294B2 (ja) | 1994-05-19 | 1994-05-19 | 樹脂封止型半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07321252A JPH07321252A (ja) | 1995-12-08 |
JP2556294B2 true JP2556294B2 (ja) | 1996-11-20 |
Family
ID=14976255
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6128094A Expired - Fee Related JP2556294B2 (ja) | 1994-05-19 | 1994-05-19 | 樹脂封止型半導体装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
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US5736785A (en) * | 1996-12-20 | 1998-04-07 | Industrial Technology Research Institute | Semiconductor package for improving the capability of spreading heat |
JP3301355B2 (ja) * | 1997-07-30 | 2002-07-15 | 日立電線株式会社 | 半導体装置、半導体装置用tabテープ及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法 |
US6570247B1 (en) | 1997-12-30 | 2003-05-27 | Intel Corporation | Integrated circuit device having an embedded heat slug |
JP2000058735A (ja) * | 1998-08-07 | 2000-02-25 | Hitachi Ltd | リードフレーム、半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
US6849940B1 (en) * | 2000-11-20 | 2005-02-01 | Ati Technologies, Inc. | Integrated circuit package for the transfer of heat generated by the inte circuit and method of fabricating same |
KR20010044277A (ko) * | 2001-01-31 | 2001-06-05 | 김영선 | 방열지붕이 몰딩된 플라스틱 패캐지(피피엠시) |
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US7126218B1 (en) * | 2001-08-07 | 2006-10-24 | Amkor Technology, Inc. | Embedded heat spreader ball grid array |
US6737750B1 (en) | 2001-12-07 | 2004-05-18 | Amkor Technology, Inc. | Structures for improving heat dissipation in stacked semiconductor packages |
DE10201781B4 (de) * | 2002-01-17 | 2007-06-06 | Infineon Technologies Ag | Hochfrequenz-Leistungsbauteil und Hochfrequenz-Leistungsmodul sowie Verfahren zur Herstellung derselben |
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TW535244B (en) * | 2002-04-19 | 2003-06-01 | Advanced Semiconductor Eng | Wafer level package method and package structure |
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TWI349351B (en) * | 2007-04-04 | 2011-09-21 | Siliconware Precision Industries Co Ltd | Heat-dissipating unit and semiconductor package having the same |
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KR100939528B1 (ko) | 2008-02-11 | 2010-02-03 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체 패키지용 히트 스프레더 |
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WO2011158638A1 (ja) * | 2010-06-14 | 2011-12-22 | シャープ株式会社 | 電子機器、表示装置およびテレビジョン受像機 |
JP5824672B2 (ja) * | 2011-02-24 | 2015-11-25 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | パワーモジュール |
US8304871B2 (en) * | 2011-04-05 | 2012-11-06 | Texas Instruments Incorporated | Exposed die package for direct surface mounting |
US8552540B2 (en) | 2011-05-10 | 2013-10-08 | Conexant Systems, Inc. | Wafer level package with thermal pad for higher power dissipation |
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JP6962371B2 (ja) * | 2017-08-01 | 2021-11-05 | 株式会社村田製作所 | 高周波モジュール |
KR20190055662A (ko) * | 2017-11-15 | 2019-05-23 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 열 재분배 패턴을 포함하는 반도체 패키지 |
KR101956345B1 (ko) | 2018-04-23 | 2019-03-08 | 농업회사법인 주식회사 천풍무인항공 | 무인항공기를 이용한 연막방제장치 |
US11075185B2 (en) * | 2019-05-03 | 2021-07-27 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor package with multi-level conductive clip for top side cooling |
US10978380B2 (en) * | 2019-05-03 | 2021-04-13 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor package with multi-level conductive clip for top side cooling |
CN116613110B (zh) * | 2023-06-16 | 2024-02-23 | 广东气派科技有限公司 | 一种增强散热的盖板封装结构制备方法及盖板封装结构 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6149446A (ja) * | 1984-08-17 | 1986-03-11 | Matsushita Electronics Corp | 樹脂封止型半導体装置 |
JPS61166051A (ja) * | 1985-01-17 | 1986-07-26 | Matsushita Electronics Corp | 樹脂封止型半導体装置 |
JPH0815193B2 (ja) * | 1986-08-12 | 1996-02-14 | 新光電気工業株式会社 | 半導体装置及びこれに用いるリードフレーム |
JPH01273339A (ja) * | 1988-04-26 | 1989-11-01 | Nec Corp | 樹脂封止型半導体装置 |
DE4021871C2 (de) * | 1990-07-09 | 1994-07-28 | Lsi Logic Products Gmbh | Hochintegriertes elektronisches Bauteil |
JPH04158556A (ja) * | 1990-10-22 | 1992-06-01 | Toshiba Corp | 樹脂封止型半導体装置 |
JPH04286147A (ja) * | 1991-03-15 | 1992-10-12 | Oki Electric Ind Co Ltd | 樹脂封止型半導体装置 |
JPH04354342A (ja) * | 1991-05-31 | 1992-12-08 | Kawasaki Steel Corp | 半導体装置 |
JPH0567001A (ja) * | 1991-09-09 | 1993-03-19 | Nec Corp | キヤツシユメモリ回路 |
KR930009031A (ko) * | 1991-10-18 | 1993-05-22 | 김광호 | 반도체 패키지 |
-
1994
- 1994-05-19 JP JP6128094A patent/JP2556294B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-04-19 US US08/424,795 patent/US5616957A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-04-24 KR KR1019950009648A patent/KR100192028B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5616957A (en) | 1997-04-01 |
KR100192028B1 (ko) | 1999-06-15 |
JPH07321252A (ja) | 1995-12-08 |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |