JP2550221Y2 - 施釉装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この考案はタイル表面に釉薬を塗
布するための施釉装置に関する。

【０００２】

【従来の技術及び考案が解決しようとする課題】従来、
タイル表面に釉薬を塗布する装置として用いられている
ものは、液状の釉薬をスプレー手段によってタイル表面
に霧状に噴霧するか或いは液状の釉薬をスリットから幕
状に垂下させ、移動するタイル表面上に幕掛けするとい
ったものであった。

【０００３】しかしながらこの装置を用いて釉薬を施し
た場合、タイル表面全面に亘って釉薬が均等に施されて
しまい、釉薬を島状に散在する状態で施したり、或いは
タイル表面の特定部分にのみ釉薬を施すといったことが
できない問題があった。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本考案の装置はこのよう
な課題を解決するために案出されたものであり、その要
旨は、（イ）所定位置に配置され、内部に液状の釉薬を
収容する釉薬槽と、（ロ）該釉薬槽内部に浸漬されて該
液状の釉薬を含浸する含浸部材と、（ハ）該含浸部材を
吊持する支持体と、（ニ）該含浸部材を該支持体に対し
て上下に所定距離相対移動可能ならしめる相対移動手段
と、（ホ）該支持体を該含浸部材とともに昇降させ、下
降位置において該含浸部材を前記釉薬槽内に浸漬し、又
は所定位置に搬送されたタイル上に接触させ、該含浸部
材に含浸された液状の釉薬を該タイル表面上に塗布せし
める昇降手段と、（ヘ）該支持体，含浸部材，昇降手段
を前記釉薬槽上の位置と前記タイルへの釉薬塗布位置と
の間で進退駆動する進退駆動手段とを含んでおり、且つ
前記相対移動手段は、（ａ）前記支持体に形成された上
下方向の貫通孔と、（ｂ）前記含浸部材の側から上向き
に突き出して該貫通孔を上下に自由移動可能な状態で貫
通する、該含浸部材と一体に上下動する棒状体と、
（ｃ）該貫通孔の上側において該棒状体に一体に上下動
する状態で固設さ れ、該棒状体の該貫通孔からの抜止作
用にて該棒状体を該支持体にて吊持させる抜止具とを含
んでいることにある。

【０００５】

【作用及び考案の効果】本考案の装置においては、含浸
部材が昇降手段によって支持体に吊持された状態でかか
る支持体とともに昇降させられる。そして下降位置にお
いて含浸部材が釉薬槽内に浸漬され、該槽内の液状の釉
薬が含浸部材に含浸される。

【０００６】釉薬を含浸した含浸部材は昇降手段によっ
て再び上昇させられた上、進退駆動手段によってタイル
に対する釉薬の塗布位置まで前進させられ、そして前進
位置において昇降手段によって下降させられ、待機して
いるタイルの表面に載せられ、或いは積極的に押圧され
る。これにより含浸部材に含浸された液状の釉薬がタイ
ル表面上に塗布される。

【０００７】このとき釉薬は当然ながら含浸部材が接触
した部分にのみ且つ含浸部材の形状に対応した形状，パ
ターンでタイル表面に施される。

【０００８】本考案の装置によれば、タイル表面の特定
部分にのみ釉薬を施すことが可能であるし、またタイル
表面に釉薬を島状に施すことも可能である。

【０００９】しかも本考案によれば釉薬を厚く塗布する
ことが可能であり、タイル表面にボリューム感のある凹
凸模様を形成することができる。

【００１０】ところで含浸部材をタイル表面に接触させ
る時、タイルが傾いていたり、各タイル間で段差等凹凸
があったりすると、例えばタイルを搬送プレート等所定
の支持部材上に多列に支持した状態で釉薬塗布を行う場
合において、この支持部材に傾きがあったり凹凸があっ
たり、或いは支持部材上に異物が付着していたりしてそ
の上に載せられるタイルが傾いたり、各タイルの表面の
高さが不揃いであったりすると、含浸部材を昇降手段に
て下降させてタイル表面に接触させる際、含浸部材が良
好にタイル表面に接触しない恐れがある。

【００１１】而して含浸部材がタイル表面に良好に接触
しないと、タイル表面に釉薬を良好に塗布することがで
きない。

【００１２】しかるに本考案の装置においては、含浸部
材がタイル表面に載せられ或いは押圧されたとき、タイ
ル表面の凹凸に追従して支持体に対し上下に所定距離相
対移動可能とされているため、こうした不具合を生じな
い。例えば支持体に多数の含浸部材をそれぞれ独立に或
いは複数個ごとに吊持させた場合、これら含浸部材の支
持体に対する上方への相対運動によりタイルの傾きや凹
凸を吸収することができるのである。従って本考案によ
れば、タイルを支持部材上に多列に並べて釉薬塗布を行
う場合において、上記相対移動手段により支持部材の凹
凸や傾きを吸収でき、大量のタイルを一度に施釉できる
効果が得られる。

【００１３】

【実施例】次に本考案の実施例を図面に基づいて詳しく
説明する。図１及び図２において、１０は釉薬槽で内部
に液状の釉薬１２が収容されている。この釉薬槽１０
は、アングル材１４を介して機枠１６に固定されてい
る。

【００１４】釉薬槽１０の内部には、撹拌プレート１８
が配置されている。撹拌プレート１８は撹拌シリンダ２
０に連結されており、この撹拌シリンダ２０によって釉
薬槽１０内を上下動させられるようになっている。そし
てこの撹拌プレート１８の上下動によって、釉薬槽１０
内の液状の釉薬１２が撹拌される。

【００１５】尚撹拌プレート１８の上下動の際、この撹
拌プレート１８は、これより延び出すガイドロッド２２
とこれを挟み込むガイドローラ２４とにより運動案内さ
れる。

【００１６】撹拌プレート１８は、後述のスポンジ体５
６（図３）を押圧して釉薬槽１０内の釉薬１２をかかる
スポンジ体５６に強制的に吸収させる機能も有してい
る。

【００１７】釉薬槽１０の上方には、昇降体２６が配置
されている。この昇降体２６には、スライダ２７に固設
された昇降シリンダ２８が連結されており、かかる昇降
シリンダ２８によって昇降体２６が、ガイドロッド３０
とガイド筒３２との案内の下に所定ストローク上下動さ
せられるようになっている。

【００１８】尚この昇降体２６の、図１中左右両側には
ラック部材３４が設けられていて、これらラック部材３
４がピニオン３６に噛み合わされている。

【００１９】これらラック部材３４及びピニオン３６
は、昇降体２６が昇降する際、左右両端部がそれぞれ等
しい量で昇降するように運動規制するものである。

【００２０】図２に示しているようにスライダ２７には
クランクアーム４０，４２を介してモータ４４が連結さ
れている。各クランクアーム４０，４２は軸３８を介し
て相対回転可能に接続されている。

【００２１】一方のクランクアーム４０はモータ４４の
出力軸４６に固定されていて、その出力軸４６の回りに
回転円運動させられ、そのクランクアーム４０の回転円
運動によって、今一方のクランクアーム４２の、図中右
方への押出し又は左方への引戻運動が行われる。

【００２２】そしてこのアーム４２の押出し・引戻運動
によって、スライダ２７がガイドレール４８に沿って所
定距離、即ち釉薬槽１０上の位置と後述のタイル６８
（図３）への釉薬１２の塗布位置との間を進退駆動され
る。

【００２３】前記昇降体２６の下側には複数のスタンプ
ユニット５０が設けられている。各スタンプユニット５
０は、図３に示しているように棒状体としての吊持ボル
ト６０を介して支持プレート５２により吊持された保持
プレート５４を有しており、この保持プレート５４の下
面側に複数（ここでは３個）のスポンジ体５６が台座５
８を介して固定されている。

【００２４】吊持ボルト６０は支持プレート５２の貫通
孔６２を遊嵌状態で貫通しており、そしてその上端に抜
止具としてのナット６４が捩込み固定されている。ナッ
ト６４は吊持ボルト６０の抜止めのためのものである。

【００２５】図１において６６は多数のタイル６８を載
せる棚プレートであって、チェーン７０により搬送され
るようになっている。また７２は、タイル６８を載せた
棚プレート６６を所定位置において持ち上げるための持
上シリンダである。

【００２６】次に本装置の作用を説明する。まず本装置
では各スタンプユニット５０のスポンジ体５６が昇降シ
リンダ２８によって昇降体２６とともに下降させられて
釉薬槽１０内に浸漬され、釉薬槽１０内の液状釉薬１２
がこのスポンジ体５６に含浸される。

【００２７】尚このとき、撹拌プレート１８を停止させ
ておいてスポンジ体５６をこれに押圧した後その押圧力
を解除することで、釉薬１２をスポンジ体５６に強制的
に含浸させることができる。

【００２８】この撹拌プレート１８は、スポンジ体５６
をこれに強制的に押圧するとき以外は撹拌シリンダ２０
によって釉薬槽１０内で上下振動させられる。

【００２９】さて各スタンプユニット５０のスポンジ体
５６が釉薬１２を十分に含浸したところで、これらスタ
ンプユニット５０が昇降シリンダ２８によって上昇させ
られる。

【００３０】続いてモータ４４の駆動によってスライダ
２７がガイドレール４８上を図２中右方向に前進させら
れ、所定位置に停止される。

【００３１】その後各スタンプユニット５０が昇降シリ
ンダ２８によって下降させられ、下端のスポンジ体５６
がその下側に待機中の各タイル６８上に接触させられ
る。

【００３２】そしてこのスポンジ体５６のタイル６８へ
の接触により、スポンジ体５６に含浸された釉薬１２が
タイル６８表面に塗布される。

【００３３】その際の具体的動作が図３に詳しく示され
ている。即ち各スタンプユニット５０のスポンジ体５６
は支持プレート５２とともに下降運動させられ、そして
ある位置でスポンジ体５６がタイル６８表面に接触させ
られる。

【００３４】支持プレート５２はその後も引き続いて下
降運動させられ、このとき吊持ボルト６０が支持プレー
ト５２の貫通孔６２内を上方に相対運動する。つまりス
ポンジ体５６及び保持プレート５４が、支持プレート５
２に対して上方に相対運動する。そしてこの相対運動に
基づいて、タイル６８間の表面の段差，高低差，傾き等
が吸収される。

【００３５】従ってこの装置によれば、棚プレート６６
表面に凹凸や傾きがあったりして、その上のタイル６８
と６８との間で多少の高低差があったり、或いはタイル
６８が傾いていたりしても釉薬１２を良好にタイル６８
表面に塗布することができる。

【００３６】タイル６８表面上に釉薬１２のスタンプ動
作を行った各ユニット５０は、引き続いて上昇させられ
た上スライダ２７の後退運動によって釉薬槽１０上に位
置させられる。そして前述したのと同様の動作を再び繰
り返し行う。

【００３７】本例の装置によれば、タイル６８表面上の
特定部分にのみ釉薬１２を塗布でき、或いは１枚のタイ
ル６８に対して接触させるべきスポンジ体５６の配置
を、例えば図４に示す如き配置としておくことにより、
釉薬１２をタイル表面に島状に塗布することができる。

【００３８】しかも本装置はスポンジ体５６に含浸させ
た釉薬１２をタイル６８表面に直接接触させて塗布する
ものであるから、釉薬１２を厚く塗布することができ
る。

【００３９】以上本考案の実施例を詳述したがこれはあ
くまで一例示である。本考案は例えば図５に示している
ように各スポンジ体５６を吊持ボルト６０にてフリーの
状態で吊持し、それぞれを支持プレート５２に対して独
立に相対運動させ得るように構成することもできる。

【００４０】尚、この場合には吊持ボルト６０として角
ボルトを用いたり或いは二本以上の吊持ボルト６０を用
いてスポンジ体５６を吊持することにより、スポンジ体
５６が回転するのを防止し、以て模様が変化しないよう
にするのが望ましい。

【００４１】その他本考案はその主旨を逸脱しない範囲
において、当業者の知識に基づき様々な変更を加えた形
態で構成可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の一実施例装置の正面（一部断面）図で
ある。

【図２】同実施例装置の側面図である。

【図３】同実施例装置の要部の作用説明図である。

【図４】図３におけるスポンジ体の配置構成例を示す図
である。

【図５】本考案の他の実施例の要部断面図である。

【符号の説明】

１０ 釉薬槽 ２６ 昇降体 ２７ スライダ ２８ 昇降シリンダ ４４ モータ ５２ 支持プレート ５６ 含浸部材 ６０ 吊持ボルト（棒状体） ６２ 貫通孔 ６４ ナット（抜止具） ６８ タイル

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 秦 哲郎 愛知県常滑市鯉江本町５丁目１番地 株 式会社 イナックス内 (72)考案者 加藤 浩 岐阜県可児市下切姫ケ丘50番地 有限会 社 文晶堂内 (56)参考文献 特開 昭52−56114（ＪＰ，Ａ) 特開 昭48−47509（ＪＰ，Ａ)

Claims (1)

(57)【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 （イ）所定位置に配置され、内部に液状
   の釉薬を収容する釉薬槽と （ロ）該釉薬槽内部に浸漬されて該液状の釉薬を含浸す
   る含浸部材と （ハ）該含浸部材を吊持する支持体と （ニ）該含浸部材を該支持体に対して上下に所定距離相
   対移動可能ならしめる相対移動手段と （ホ）該支持体を該含浸部材とともに昇降させ、下降位
   置において該含浸部材を前記釉薬槽内に浸漬し、又は所
   定位置に搬送されたタイル上に接触させ、該含浸部材に
   含浸された液状の釉薬を該タイル表面上に塗布せしめる
   昇降手段と （ヘ）該支持体，含浸部材，昇降手段を前記釉薬槽上の
   位置と前記タイルへの釉薬塗布位置との間で進退駆動す
   る進退駆動手段とを含んでおり、且つ前記相対移動手段
   は （ａ）前記支持体に形成された上下方向の貫通孔と （ｂ）前記含浸部材の側から上向きに突き出して該貫通
   孔を上下に自由移動可能な状態で貫通する、該含浸部材
   と一体に上下動する棒状体と （ｃ）該貫通孔の上側において該棒状体に一体に上下動
   する状態で固設され、該棒状体の該貫通孔からの抜止作
   用にて該棒状体を該支持体にて吊持させる抜止具と を含
   んでいる ことを特徴とする施釉装置。