CN211074071U - 一种坯体底部釉液擦拭装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及陶瓷技术领域，特别涉及一种坯体底部釉液擦拭装置，包括擦釉输送带、输送辊，还包括第一挤压辊、第二挤压辊、横梁、浸液辊、清洗槽，所述擦釉输送带首尾连接成环，擦釉输送带依次环绕输送辊、第一挤压辊、浸液辊、第二挤压辊设置，所述第一挤压辊、第二挤压辊设于清洗槽上方，所述横梁固定设置，第一挤压辊、第二挤压辊可移动的设于横梁上，以使第一挤压辊、第二挤压辊可调位置的朝向擦釉输送带方向挤压，所述浸液辊下部设于清洗槽内以使通过浸液辊的擦釉输送带浸入清洗槽内。该装置耐用性好，擦拭效果明显。
Description
技术领域
本实用新型涉及陶瓷技术领域，特别涉及一种坯体底部釉液擦拭装置。
背景技术
陶瓷坯体施釉后，一般都必须将坯体底部的瓷釉擦去。在传统加工工艺中，通常采用手工擦拭方法，但往往存在擦拭不净或偏擦的问题，常造成釉刺、粘釉、滴油、夹口等缺陷，并且劳动强度大，工作效率低。随着自动化机械技术的不断发展，人们开始使用自动化坯体擦底设备对坯体底部的瓷釉进行擦拭，不仅节省人力，提高加工效率，而且能保证擦拭效果，避免擦拭不净或偏擦现象的发生。
为解决上述问题，授权公告号为CN205188148U的中国专利公开了一种陶瓷制品底部釉层擦除装置，，包括支撑台、左右两条紧挨并排布置的循环传送带，两条循环传送带的上半部分压在支撑台上方；两循环传送带的前端分别设有前传送辊筒，两循环传送带的后端分别设有后传送辊筒；在每条循环传送带的外表面黏贴有海绵层；在循环传送带下方设有水槽，水槽设有进水口和排水口，进水口设有进水阀，排水口设有排水阀，循环传送带的下半部分浸在水槽中，还设有将循环传动带的海绵层挤压的压辊，压辊贴靠着其中两条循环传送带的后传送辊筒。该专利利用将传送带设置在挤压辊与传送辊之间，通过挤压力的作用将水分挤出，但是随着装置的使用时间，传送带会发生松弛，失去张紧度，导致挤水效果下降，影响擦拭效果且无法保证设备使用的耐用性。
实用新型内容
为克服现有技术中的不足，本实用新型提供一种耐用性高、擦拭效果好的坯体底部釉液擦拭装置。
为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案如下：一种坯体底部釉液擦拭装置，包括擦釉输送带、输送辊，还包括第一挤压辊、第二挤压辊、横梁、浸液辊、清洗槽，所述擦釉输送带首尾连接成环，擦釉输送带依次环绕输送辊、第一挤压辊、浸液辊、第二挤压辊设置，所述第一挤压辊、第二挤压辊设于清洗槽上方，所述横梁固定设置，第一挤压辊、第二挤压辊可移动的设于横梁上，以使第一挤压辊、第二挤压辊可调位置的朝向擦釉输送带方向挤压，所述浸液辊下部设于清洗槽内以使通过浸液辊的擦釉输送带浸入清洗槽内。
进一步的，所述擦釉输送带包括摩擦层和海绵层，所述摩擦层设于环形内层，海绵层设于环形外层，所述输送辊、浸液辊设于擦釉输送带环内并与摩擦层接触，所述第一挤压辊、第二挤压辊设于擦釉输送带环外并与海绵层接触。
进一步的，所述摩擦层采用不透水材料。
进一步的，所述横梁上设有两条，第一挤压辊、第二挤压辊两端通过轴承座架设于两横梁上，横梁上设有限位机构，轴承座通过限位机构沿横梁长度方向可调整的设置。
进一步的，所述限位机构包括开设于横梁上的长型孔，轴承座底部穿过长型孔设置并限制仅可沿长型孔长度方向移动，限位机构还包括限位块、限位螺栓，限位块内开设有螺孔，限位螺栓可调整伸出长度的设于螺孔内，限位螺栓一端抵住轴承座，使轴承座具有朝向擦釉输送带的挤压力。
进一步的，所述擦釉输送带设有两条，两条擦釉输送带左右紧挨并排布置，两条擦釉输送带同向且差速运动。
进一步的，所述两条擦釉输送带上的水平部分底部设有支撑面，所述两条擦釉输送带的水平部分压在支撑台上方，防止擦釉输送带下榻。
进一步的，所述输送辊、第一挤压辊、第二挤压辊、浸液辊设有两组，分别对应两条擦釉输送带，两组浸液辊分别通过两个驱动机构独立驱动。
进一步的，所述驱动机构包括伺服电机、传送皮带，伺服电机通过传送皮带带动浸液辊转动。
进一步的，所述第一挤压辊、第二挤压辊竖直方向投影面位于清洗槽内。
由上述对本实用新型的描述可知，与现有技术相比，本实用新型提供的一种坯体底部釉液擦拭装置，所述擦釉输送带首尾连接成环，擦釉输送带依次环绕输送辊、第一挤压辊、浸液辊、第二挤压辊设置，所述第一挤压辊、第二挤压辊设于清洗槽上方，所述横梁固定设置，第一挤压辊、第二挤压辊可移动的设于横梁上，以使第一挤压辊、第二挤压辊可调位置的朝向擦釉输送带方向挤压，通过调节挤压辊的位置，从而保证擦釉输送带的张紧度，更好的控制挤压力的大小，避免在输送带松弛的情况下影响使用效果，挤水效果更好。
附图说明
图1为本实用新型一种坯体底部釉液擦拭装置前视结构示意图。
图2为本实用新型一种坯体底部釉液擦拭装置未装输送带状态结构示意图。
图3为本实用新型一种坯体底部釉液擦拭装置俯视结构示意图。
图4为本实用新型一种坯体底部釉液擦拭装置局部放大示意图。
图中标识对应如下：1.擦釉输送带、11.摩擦层、12.海绵层、2.轴承座、21.第一挤压辊、22.第二挤压辊、3.横梁、31.限位机构、311.长型孔、312.限位块、313.限位螺栓、32.支撑面、4.清洗槽、41.浸液辊、42.驱动机构、421.伺服电机、422.传送皮带、43.电机支架。
具体实施方式
以下通过具体实施方式对本实用新型作进一步的描述。
参照图1至图4所示一种坯体底部釉液擦拭装置，包括擦釉输送带1、输送辊13、第一挤压辊21、第二挤压辊22、横梁3、清洗槽4、浸液辊41。
擦釉输送带1有两条，两条擦釉输送带1左右紧挨并排布置，擦釉输送带1首尾连接成环，擦釉输送带1依次环绕输送辊13、第一挤压辊21、浸液辊41、第二挤压辊22设置，所述输送辊13、第一挤压辊21、第二挤压辊22、浸液辊41设有两组，分别对应两条擦釉输送带1，两组浸液辊41分别通过两个驱动机构42独立驱动。擦釉输送带1还包括摩擦层11和海绵层12，摩擦层11采用的是不透水的材料，为了能够使得挤水效果更为高效，如不采用不透水的材料，则达不到挤水的效果。摩擦层11设于环形内层，海绵层12设于环形外层，所述输送辊13、浸液辊41设于擦釉输送带1环内并与摩擦层11接触，所述第一挤压辊21、第二挤压辊22设于擦釉输送带1环外并与海绵层12接触，所述输送辊13设于挤压辊上方并架设与该擦拭装置的两侧，一侧各有一对输送辊13，主要用于驱动擦釉输送带1工作。在擦釉输送带1上的水平部分底部还设有支撑面32，所述两条擦釉输送带1的水平部分压在支撑面32上方，防止擦釉输送带1在输送坯体过程中，由于重力因素导致输送带向下凹陷，导致坯体掉落，影响正常使用。
横梁3有两条，第一挤压辊21、第二挤压辊22两端通过轴承座2架设于两横梁3端面上，横梁3上设有限位机构31，包括设于横梁3上的长型孔311、限位块312、限位螺栓313，限位块312内开设有螺孔314，限位螺栓313可调整伸出长度的设于螺孔314内。轴承座2通过在长型孔311内可以沿横梁3长度方向调整的设置并通过自身螺栓固定位置，再通过限位螺栓313一端抵住轴承座2，使轴承座2具有朝向擦釉输送带1的挤压力，从而达到挤水的目的，这样既可以保证挤压辊上下作用力，又能保证左右的作用力，使得挤压辊固定效果更好，且在擦釉输送带1发生松弛的情况下，可以调节轴承座2的位置来适应擦釉输送带1的张紧度，确保可以继续使用，不影响挤水效果。横梁3的底面以同样方式通过轴承座2架设着浸液辊41。
清洗槽4设于第一挤压辊21、第二挤压辊下方22，所述第一挤压辊21、第二挤压辊22竖直方向投影面位于清洗槽4内，使得挤压出的水不会流出擦拭装置外，避免浪费。所述浸液辊41下半部分浸泡于清洗槽内，使擦釉输送带1可通过清洗槽4清洗，浸液辊41一端通过传送皮带422与电机421连接，通过电机421驱动浸液辊41转动，从而带动第一挤压辊21、第二挤压辊22、输送辊转动13，所述电机421架设于横梁3下方的电机机架43上，所述电机421采用伺服电机，因为伺服电机适应性好，可适应不同转速，通过两台电机421以不同转速控制两条擦釉输送带1同方向运动，由于两条擦釉输送带1左右紧挨并排布置，使得坯体放置在两条擦釉输送带1之间，坯体将发生旋转移动，这样擦拭效果更加的均匀。
该种坯体底部釉液擦拭装置工作原理如下：
准备阶段，将清洗液倒入清洗槽4，没过浸液辊41下半部分即可，调整各个第一挤压辊21、第二挤压辊22轴承座2的位置，调整至轴承座2具有朝向擦釉输送带1的挤压力，使擦釉输送带1的海绵层12与第一挤压辊21、第二挤压辊22之间保持有挤压力，接着调整伺服电机421转速，两个电机421分别调整不同的并且合适的转速，最后坯体放置与两条擦釉输送带1一端并处于中间位置；
工作阶段，启动电机421，驱动浸液辊41转动，此时擦釉输送带1海绵层12通过在清洗槽4内浸泡后上面已带有清洗液，然后带动第一挤压辊21转动，在第一挤压辊21处挤出残留在海绵层12上的釉液，接着带动输送辊13的转动，由于两条擦釉输送带1速度不同且方向相同，形成差速运动，使得坯体随着擦釉输送带1运动的同时发生自转，这样可以使得擦拭更加均匀，提高工作效率，接着换上下一个需擦拭的坯体，再经过第二挤压辊22的第二次挤压水分，挤压出擦拭后的釉液，最后回到清洗槽4，使得擦釉输送带1的海绵层12通过浸液辊41在清洗槽4再进行一次过滤清洗，如此循环；该擦拭装置耐用性好、擦拭效果均匀、挤水效果好。
上述仅为本实用新型的一种具体实施方式，但本实用新型的设计构思并不局限于此，凡利用此构思对本实用新型进行非实质性的改动，均应属于侵犯本实用新型保护范围的行为。
Claims (10)
1.一种坯体底部釉液擦拭装置，包括擦釉输送带、输送辊，其特征在于：还包括第一挤压辊、第二挤压辊、横梁、浸液辊、清洗槽，所述擦釉输送带首尾连接成环，擦釉输送带依次环绕输送辊、第一挤压辊、浸液辊、第二挤压辊设置，所述第一挤压辊、第二挤压辊设于清洗槽上方，所述横梁固定设置，第一挤压辊、第二挤压辊可移动的设于横梁上，以使第一挤压辊、第二挤压辊可调位置的朝向擦釉输送带方向挤压，所述浸液辊下部设于清洗槽内以使通过浸液辊的擦釉输送带浸入清洗槽内。
2.根据权利要求1所述一种坯体底部釉液擦拭装置，其特征在于：所述擦釉输送带包括摩擦层和海绵层，所述摩擦层设于环形内层，海绵层设于环形外层，所述输送辊、浸液辊设于擦釉输送带环内并与摩擦层接触，所述第一挤压辊、第二挤压辊设于擦釉输送带环外并与海绵层接触。
3.根据权利要求2所述一种坯体底部釉液擦拭装置，其特征在于：所述摩擦层采用不透水材料。
4.根据权利要求1所述一种坯体底部釉液擦拭装置，其特征在于：所述横梁上设有两条，第一挤压辊、第二挤压辊两端通过轴承座架设于两横梁上，横梁上设有限位机构，轴承座通过限位机构沿横梁长度方向可调整的设置。
5.根据权利要求4所述一种坯体底部釉液擦拭装置，其特征在于：所述限位机构包括开设于横梁上的长型孔，轴承座底部穿过长型孔设置并限制仅可沿长型孔长度方向移动，限位机构还包括限位块、限位螺栓，限位块内开设有螺孔，限位螺栓可调整伸出长度的设于螺孔内，限位螺栓一端抵住轴承座，使轴承座具有朝向擦釉输送带的挤压力。
6.根据权利要求1所述一种坯体底部釉液擦拭装置，其特征在于：所述擦釉输送带设有两条，两条擦釉输送带左右紧挨并排布置，两条擦釉输送带同向且差速运动。
7.根据权利要求6所述一种坯体底部釉液擦拭装置，其特征在于：所述两条擦釉输送带上的水平部分底部设有支撑面，所述两条擦釉输送带的水平部分压在支撑台上方，防止擦釉输送带下榻。
8.根据权利要求6所述一种坯体底部釉液擦拭装置，其特征在于：所述输送辊、第一挤压辊、第二挤压辊、浸液辊设有两组，分别对应两条擦釉输送带，两组浸液辊分别通过两个驱动机构独立驱动。
9.根据权利要求8所述一种坯体底部釉液擦拭装置，其特征在于：所述驱动机构包括伺服电机、传送皮带，伺服电机通过传送皮带带动浸液辊转动。
10.根据权利要求1所述一种坯体底部釉液擦拭装置，其特征在于：所述第一挤压辊、第二挤压辊竖直方向投影面位于清洗槽内。
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