CN219563614U - 一种陶瓷上釉坯体均匀擦底设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种陶瓷上釉坯体均匀擦底设备，包括工作台，工作台上方设有用于盛清洁液的清洗槽，工作台上方位于清洗槽一侧通过轴承座安装有两根第一转轴，工作台上方位于清洗槽另一侧通过轴承座安装有两根第二转轴；两第一转轴上和两第二转轴上分别通过传送辊安装有输送带，两输送带外部固定有清洁海绵层；工作台的下游端安装有双轴电机。本擦底设备通过设置两不同转速的输送带带动清洁海绵层移动，在非人力按压的情况下促使陶瓷坯体底部与清洁海绵层发生相对摩擦，减小工人工作量，陶瓷坯体在自重作用下，其底部与清洁海绵层表面贴合度高，保证擦拭更加均匀，提高对陶瓷坯体的处理质量。

Description

一种陶瓷上釉坯体均匀擦底设备

技术领域

本实用新型涉及陶瓷加工技术领域，具体为一种陶瓷上釉坯体均匀擦底设备。

背景技术

上釉是陶瓷生产过程中的重要工序，在陶瓷坯体上施上釉层能够起到保护和装饰的作用，陶瓷表面的釉质决定了陶瓷的品质与档次，传统的上施方式为浸釉法，将陶瓷坯体浸入到釉池中进行上釉，经过一定的时间后，将陶瓷吊出即可。

在上釉结束将陶瓷坯体从釉池中取出后，陶瓷坯体底部留存少量釉料，随着釉料冷却凝固，会在陶瓷坯体底部形成釉刺以及粘釉颗粒物，影响陶瓷产品的品控，因此需要通过擦底设备对上釉后的陶瓷坯体进行擦底。

参照授权公告号为CN210210845U的中国实用新型专利，其公开了一种陶瓷生产用新型胚体擦底机，本装置通过手持陶瓷胚体，将胚体底部放在海绵传送带上按压停留片刻，能将胚体底部擦拭干净。

在上述装置中，直接将陶瓷胚体放在海绵传送带上，陶瓷胚体会跟随海绵传送带同步移动，陶瓷坯体底部并不会与海绵传送带发生摩擦，因此需要手持陶瓷胚体放在海绵传送带，并按压停留片刻，才能实现擦拭效果，无疑增加了操作工人的劳动量，同时通过人工手持按压陶瓷坯体，不能保证陶瓷坯体整个底面完全与海绵传送带表面贴合，进而会影响海绵传送带对陶瓷坯体底部擦拭的均匀性。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种陶瓷上釉坯体均匀擦底设备，通过设置两传送速度不一的输送带，促使陶瓷坯体底部在非人力按压情况下与清洁海绵层发生相对摩擦，保证对陶瓷坯体底部擦拭更加均匀，有效解决了上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案。

一种陶瓷上釉坯体均匀擦底设备，包括工作台，工作台上方设置盛有清洁液的清洗槽，工作台上方位于清洗槽一侧通过轴承座安装有两根第一转轴，工作台上方位于清洗槽另一侧通过轴承座安装有两根第二转轴；两第一转轴之间、两第二转轴之间均通过传送辊安装有输送带，两输送带外部固定有清洁海绵层；工作台的下游端安装有双轴电机，双轴电机的一输出轴通过轴杆固定有第一齿轮，双轴电机的另一输出轴通过轴杆固定有第三齿轮；与双轴电机相近的第一转轴的外端部上固定有与第一齿轮啮合的第二齿轮，与双轴电机相近的第二转轴的外端部上固定有与第三齿轮啮合的第四齿轮；第三齿轮与第二齿轮的直径大小相同，第一齿轮与第四齿轮的直径大小相同。

由此可见，启动双轴电机，双轴电机的一输出轴通过轴杆固定有第一齿轮，双轴电机的另一输出轴通过轴杆固定有第三齿轮，第三齿轮啮合驱动第四齿轮并带动第二转轴转动，第一齿轮啮合驱动第二齿轮并带动第一转轴转动，从而分别带动两输送带转动，由于第三齿轮与第二齿轮的直径相同，第一齿轮与第四齿轮的直径相同，使得第一转轴和第二转轴的转速不同，从而两个输送带以不同的速度运动，在陶瓷坯体上釉后，将其从釉池中取出并底部朝下放置在清洁海绵层上，同时保证陶瓷坯体底部横跨两清洁海绵层，由于两侧的输送带和清洁海绵层的移动速度不同，促使陶瓷坯体底部与清洁海绵层表面发生相对运动，产生摩擦效果，清洁海绵层可将陶瓷坯体底部的釉料擦拭干净，同时将陶瓷坯体底部形成的釉刺粘釉颗粒物刮去，随着输送带的持续输送，带动清洁海绵层进入盛有清洁液的清洗槽内，可将清洁海绵层上的污渍浸泡清洗，提高清洁海绵层的清洁度，便于清洁海绵层重复擦拭工作。本擦底设备通过设置两不同转速的输送带带动清洁海绵层移动，在非人力按压的情况下促使陶瓷坯体底部与清洁海绵层发生相对摩擦，减小工人工作量，陶瓷坯体在自重作用下，其底部与清洁海绵层表面贴合度高，保证擦拭更加均匀，提高对陶瓷坯体的处理质量。

进一步的，工作台上游端通过两个支架固定有安装杆，安装杆转动安装有两挤压辊，挤压辊对应与清洁海绵层的外表面挤压贴合。

经清洁液浸泡清洗后的清洁海绵层随着输送带转动，会与设在一侧的挤压辊发生挤压，通过挤压辊挤压清洁海绵层，可将清洁海绵层内吸收的水以及污渍残留挤出，保证清洁海绵层的清洁度，便于冲洗擦拭工作。同时挤压辊转动式的设置，在与清洁海绵层挤压时自转，减小与清洁海绵层的摩擦力，避免将清洁海绵层刮破。

进一步的，工作台一侧表面分别安装有均和清洗槽相通的排污管和进水管。

通过进水管便于向清洗槽内注入干净的清洗水，通过排污管便于将清洗槽内的污水排出，保证清洗槽内的洁净度。

进一步的，工作台的下游端安装有保护罩，保护罩对应罩在第一齿轮、第二齿轮、第三齿轮和第四齿轮的外部。

通过在第一齿轮、第二齿轮、第三齿轮和第四齿轮设置保护罩，起到隔绝保护效果，避免工作人员误触而引发安全事故。

进一步的，保护罩靠近挤压辊的一侧安装有挡板，挡板上安装有缓冲垫。

通过在保护罩上安装挡板，对陶瓷坯体起到阻挡限位效果，避免陶瓷坯体跟随清洁海绵层同步移动至下游侧而摔落，同时挡板上的缓冲垫对陶瓷坯体起到缓冲保护效果。

进一步的，工作台下方安装有安装架，安装架的底部四顶角处分别安装有万向轮。

通过在工作台下方的安装架底部安装万向轮，实现了装置的移动效果，保证了装置作业的灵活度。

与现有技术相比，本装置具有如下的有益效果。

1.本装置通过设置两不同转速的输送带带动清洁海绵层移动，在非人力按压的情况下促使陶瓷坯体底部与清洁海绵层发生相对摩擦，清洁海绵层可将陶瓷坯体底部的釉料擦拭干净，同时将陶瓷坯体底部形成的釉刺粘釉颗粒物刮去，减小工人工作量。

2.本装置在将陶瓷坯体放置清洁海绵层上方时，利用陶瓷坯体的重力作用，使其底部与清洁海绵层表面贴合度更高，保证擦拭更加均匀，提高对陶瓷坯体的处理质量。

3.本装置随着输送带的持续输送，带动清洁海绵层进入盛有清洁液的清洗槽内，可将清洁海绵层上的污渍浸泡清洗，提高清洁海绵层的清洁度，便于清洁海绵层重复擦拭工作。

附图说明

图1为本实用新型整体结构立体示意图；

图2为本实用新型中的工作台上表面局部结构示意图；

图3为本实用新型中的输送带和清洁海绵层结构安装示意图；

图4为本实用新型中的各齿轮连接结构示意图。

图中：1、工作台；101、轴承座；102、传送辊；103、安装架；104、万向轮；11、清洗槽；111、排污管；112、进水管；2、第一转轴；3、第二转轴；4、输送带；5、清洁海绵层；6、双轴电机；61、轴杆；62、第一齿轮；63、第二齿轮；64、第三齿轮；65、第四齿轮；7、安装杆；71、支架；8、挤压辊；9、保护罩；91、挡板；92、缓冲垫。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-4，本实用新型提供的一种陶瓷上釉坯体均匀擦底设备，包括工作台1，工作台1上方设置盛有清洁液的清洗槽11，工作台1上方位于清洗槽11一侧通过轴承座101安装有两根第一转轴2，工作台1上方位于清洗槽11另一侧通过轴承座101安装有两根第二转轴3；两第一转轴2之间、两第二转轴3之间均通过传送辊102安装有输送带4，两输送带4外部固定有清洁海绵层5，两输送带4外部固定有清洁海绵层5；工作台1的下游端安装有双轴电机6，双轴电机6的一输出轴通过轴杆61固定有第一齿轮62，双轴电机6的另一输出轴通过轴杆61固定有第三齿轮64；与双轴电机6相近的第一转轴2的外端部上固定有与第一齿轮62啮合的第二齿轮63，与双轴电机6相近的第二转轴3的外端部上固定有与第三齿轮64啮合的第四齿轮65；第三齿轮64与第二齿轮63的直径大小相同，第一齿轮62与第四齿轮65的直径大小相同。

将本装置放置在上釉设备的一侧，在工作时，启动双轴电机6，双轴电机6的一输出轴通过轴杆61固定有第一齿轮62，所述双轴电机6的另一输出轴通过轴杆61固定有第三齿轮64，第三齿轮64啮合驱动第四齿轮65并带动第二转轴3转动，第一齿轮62啮合驱动第二齿轮63并带动第一转轴2转动，从而分别带动两输送带4转动，由于第三齿轮64与第二齿轮63的直径相同，第一齿轮62与第四齿轮65的直径相同，使得第一转轴2和第二转轴3的转速不同，从而两个输送带4以不同的速度运动，在陶瓷坯体上釉后，将其从釉池中取出并底部朝下放置在清洁海绵层5上，同时保证陶瓷坯体底部横跨两清洁海绵层5，由于两侧的输送带4和清洁海绵层5的移动速度不同，促使陶瓷坯体底部表面与清洁海绵层5表面发生相对运动，产生摩擦效果，清洁海绵层5可将陶瓷坯体底部的釉料擦拭干净，同时将陶瓷坯体底部形成的釉刺粘釉颗粒物刮去，随着输送带4的持续输送，带动清洁海绵层5进入盛有清洁液的清洗槽11内，可将清洁海绵层5上的污渍浸泡清洗，提高清洁海绵层5的清洁度，便于清洁海绵层5重复擦拭工作。本擦底设备通过设置两不同转速的输送带4带动清洁海绵层5移动，在非人力按压的情况下促使陶瓷坯体底部与清洁海绵层5发生相对摩擦，减小工人工作量，陶瓷坯体在自重作用下，其底部与清洁海绵层5表面贴合度高，保证擦拭更加均匀，提高对陶瓷坯体的处理质量。

具体的，工作台1上游端通过两个支架71固定有安装杆7，安装杆7转动安装有两挤压辊8，挤压辊8对应与清洁海绵层5的外表面挤压贴合。经清洁液浸泡清洗后的清洁海绵层5随着输送带4转动，会与设在一侧的挤压辊8发生挤压，通过挤压辊8挤压清洁海绵层5，可将清洁海绵层5内吸收的水以及污渍残留挤出，保证清洁海绵层5的清洁度，便于冲洗擦拭工作。同时挤压辊8转动式的设置，在与清洁海绵层5挤压时自转，减小与清洁海绵层5的摩擦力，避免将清洁海绵层5刮破。

具体的，工作台1一侧表面分别安装有均和清洗槽11相通的排污管111和进水管112。通过进水管112便于向清洗槽11内注入干净的清洗水，通过排污管111便于将清洗槽11内的污水排出，保证清洗槽11内的洁净度。

具体的，工作台1的下游端安装有保护罩9，保护罩9对应罩在第一齿轮62、第二齿轮63、第三齿轮64和第四齿轮65的外部。通过在第一齿轮62、第二齿轮63、第三齿轮64和第四齿轮65设置保护罩9，起到隔绝保护效果，避免工作人员误触而引发安全事故。

具体的，保护罩9靠近挤压辊8的一侧安装有挡板91，挡板91上安装有缓冲垫92。通过在保护罩9上安装挡板91，对陶瓷坯体起到阻挡限位效果，避免陶瓷坯体跟随清洁海绵层5同步移动至下游侧而摔落，同时挡板91上的缓冲垫92对陶瓷坯体起到缓冲保护效果。

具体的，工作台1下方安装有安装架103，安装架103的底部四顶角处分别安装有万向轮104。通过在工作台1下方的安装架103底部安装万向轮104，实现了装置的移动效果，保证了装置作业的灵活度。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

Claims (6)

1.一种陶瓷上釉坯体均匀擦底设备，包括工作台(1)，其特征在于：

所述工作台(1)上方设置盛有清洁液的清洗槽(11)，所述工作台(1)上方位于所述清洗槽(11)一侧通过轴承座(101)转动安装有两根第一转轴(2)，所述工作台(1)上方位于所述清洗槽(11)另一侧通过轴承座(101)转动安装有两根第二转轴(3)；

两所述第一转轴(2)之间、两所述第二转轴(3)之间均通过传送辊(102)安装有输送带(4)，两所述输送带(4)外部固定有清洁海绵层(5)；

所述工作台(1)的下游端安装有双轴电机(6)，所述双轴电机(6)的一输出轴通过轴杆(61)固定有第一齿轮(62)，所述双轴电机(6)的另一输出轴通过轴杆(61)固定有第三齿轮(64)；

与所述双轴电机(6)相近的所述第一转轴(2)的外端部上固定有与所述第一齿轮(62)啮合的第二齿轮(63)，与所述双轴电机(6)相近的所述第二转轴(3)的外端部上固定有与所述第三齿轮(64)啮合的第四齿轮(65)；

所述第三齿轮(64)与所述第二齿轮(63)的直径大小相同，所述第一齿轮(62)与所述第四齿轮(65)的直径大小相同。

2.根据权利要求1所述的一种陶瓷上釉坯体均匀擦底设备，其特征在于：

所述工作台(1)上游端通过两个支架(71)固定有安装杆(7)，所述安装杆(7)转动安装有两挤压辊(8)，所述挤压辊(8)对应与所述清洁海绵层(5)的外表面挤压贴合。

3.根据权利要求1所述的一种陶瓷上釉坯体均匀擦底设备，其特征在于：

所述工作台(1)一侧表面分别安装有均和所述清洗槽(11)相通的排污管(111)和进水管(112)。

4.根据权利要求2所述的一种陶瓷上釉坯体均匀擦底设备，其特征在于：

所述工作台(1)的下游端安装有保护罩(9)，所述保护罩(9)对应罩在所述第一齿轮(62)、所述第二齿轮(63)、所述第三齿轮(64)和所述第四齿轮(65)的外部。

5.根据权利要求4所述的一种陶瓷上釉坯体均匀擦底设备，其特征在于：

所述保护罩(9)靠近所述挤压辊(8)的一侧安装有挡板(91)，所述挡板(91)上安装有缓冲垫(92)。

6.根据权利要求1所述的一种陶瓷上釉坯体均匀擦底设备，其特征在于：

所述工作台(1)下方安装有安装架(103)，所述安装架(103)的底部四顶角处分别安装有万向轮(104)。