JP2549566B2 - 炉システム - Google Patents
炉システムInfo
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- JP2549566B2 JP2549566B2 JP1305941A JP30594189A JP2549566B2 JP 2549566 B2 JP2549566 B2 JP 2549566B2 JP 1305941 A JP1305941 A JP 1305941A JP 30594189 A JP30594189 A JP 30594189A JP 2549566 B2 JP2549566 B2 JP 2549566B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- furnace
- transfer path
- wall
- semi
- heat insulating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は粉体塗料の焼付炉等の用途に用いる炉システ
ムに関するものである。
ムに関するものである。
（従来の技術） 従来の粉体塗料の焼付炉としては高温の熱風を用いる
ものがあるが、この方法では対象物の表面に塗布された
粉体塗料が熱風で飛散する危れがあることから熱風速度
を速く出来ず処理時間が遅かった。
ものがあるが、この方法では対象物の表面に塗布された
粉体塗料が熱風で飛散する危れがあることから熱風速度
を速く出来ず処理時間が遅かった。
一方放射電気ヒーターを併用するものもあるがこの方
法によっても急速加熱は達成されていない。
法によっても急速加熱は達成されていない。
一方実開昭62−50498号、実開昭61−8478号、特開昭6
1−293572号が公知であるが均等な反射加熱を図ったも
のではなかった。
1−293572号が公知であるが均等な反射加熱を図ったも
のではなかった。
（発明が解決しようとする課題） 本発明は以上の従来の課題を解決し急速加熱及び均等
な反射加熱を可能にしたものであり粉体塗料の焼付等に
極めて適する炉システムの提供を目的とする。
な反射加熱を可能にしたものであり粉体塗料の焼付等に
極めて適する炉システムの提供を目的とする。
（課題を解決するための手段） 本発明は以上の目的達成のために 炉室（５）と、断熱反射壁（４）と、搬送路（２）
と、放射バーナー（３）とを有し、炉室（５）は半円筒
状トンネルにされ、断熱反射壁（４）は搬送路（２）の
上側を囲みその内壁面に反射材料が用いられその外壁に
断熱材が用いられ、搬送路（２）は前記炉室（５）内の
略中心を通り、放射バーナー（３）は前記搬送路（２）
の下側に沿って左右２列設けられ半円筒状トンネルの略
中心に向けられてなる急速加熱炉（1a）を有する炉シス
テム等 を提案するものである。
と、放射バーナー（３）とを有し、炉室（５）は半円筒
状トンネルにされ、断熱反射壁（４）は搬送路（２）の
上側を囲みその内壁面に反射材料が用いられその外壁に
断熱材が用いられ、搬送路（２）は前記炉室（５）内の
略中心を通り、放射バーナー（３）は前記搬送路（２）
の下側に沿って左右２列設けられ半円筒状トンネルの略
中心に向けられてなる急速加熱炉（1a）を有する炉シス
テム等 を提案するものである。
（実施例） 以下本発明の炉システムを図面に示す実施例に従い説
明する。
明する。
第１図は本発明の炉システムを示し、該炉システム
（１）は急速加熱炉（1a）（第１図左方）を有する。
（１）は急速加熱炉（1a）（第１図左方）を有する。
該急速加熱炉（1a）は第２図に示される様にガス焚き
赤外線バーナー等の放射バーナー（３）が炉室（５）内
に搬送路（２）の下側に沿って左右２列設けられる。
赤外線バーナー等の放射バーナー（３）が炉室（５）内
に搬送路（２）の下側に沿って左右２列設けられる。
次に搬送路（２）の上側はその内壁面にステンレス
板、アルミ板等の反射材料が用いられその外壁に断熱材
が用いられた半円筒状トンネルの断熱反射壁（４）で囲
まれる。
板、アルミ板等の反射材料が用いられその外壁に断熱材
が用いられた半円筒状トンネルの断熱反射壁（４）で囲
まれる。
前記放射バーナー（３）は半円筒状トンネルの略中心
に向けられて左右２列設けられているため反射は半円筒
状トンネルの略中心の搬送路（２）の対象物（10）に放
射熱が集まる。
に向けられて左右２列設けられているため反射は半円筒
状トンネルの略中心の搬送路（２）の対象物（10）に放
射熱が集まる。
次に前記炉室（５）は放射バーナー（３）の高温燃焼
ガスを排出させるための排気ダクト（11）に接続され
る。
ガスを排出させるための排気ダクト（11）に接続され
る。
次に前記高温燃焼ガスは排気ダクト（11）からフアン
（６）及び昇温装置（７）を経て均熱炉（1b）に用いら
れる。
（６）及び昇温装置（７）を経て均熱炉（1b）に用いら
れる。
すなわち均熱炉（1b）は粉体塗料の焼付炉等の用途に
用いる場合に急速加熱炉（1a）の後方に連続して設けら
れるものである。
用いる場合に急速加熱炉（1a）の後方に連続して設けら
れるものである。
但し用途によっては均熱炉（1b）を省略して急速加熱
炉（1a）のみで用いることが出来る。
炉（1a）のみで用いることが出来る。
均熱炉（1b）は昇温された前記高温燃焼ガスを吹出口
（８）から吹き出させ吸込口（９）から前記昇温装置
（７）へと戻すことにより炉内を熱風により対流加熱す
るものである。
（８）から吹き出させ吸込口（９）から前記昇温装置
（７）へと戻すことにより炉内を熱風により対流加熱す
るものである。
以上の実施例に示した本発明の炉システムの機能は次
の通り。
の通り。
すなわち搬送路（２）に従って対象物（10）が送られ
るが急速加熱炉（1a）の炉室（５）において放射バーナ
ー（３）が燃焼されている。
るが急速加熱炉（1a）の炉室（５）において放射バーナ
ー（３）が燃焼されている。
放射バーナー（３）の表面は例えば850〜900℃であり
ここから赤外線が放射される。
ここから赤外線が放射される。
該赤外線は対象物（10）に直接当ってこれの下側を加
熱する一方断熱反射壁（４）で反射して半円筒状トンネ
ルの略中心の対象物（10）の上側及び側面も加熱する。
熱する一方断熱反射壁（４）で反射して半円筒状トンネ
ルの略中心の対象物（10）の上側及び側面も加熱する。
更に放射バーナー（３）からは高温燃焼ガスが炉室
（５）へと流出し対象物（10）は対流加熱によっても加
熱される。
（５）へと流出し対象物（10）は対流加熱によっても加
熱される。
この結果急速加熱炉（1a）において対象物（10）は急
速加熱される。
速加熱される。
次に第１図に示した様に後方に均熱炉（1a）が設けら
れる場合には対象物（10）は熱風により更に対流加熱さ
れ一定時間高温に保持される。
れる場合には対象物（10）は熱風により更に対流加熱さ
れ一定時間高温に保持される。
すなわち粉体塗料の焼付等の用途においては均熱炉
（1b）は必要な場合が多い。
（1b）は必要な場合が多い。
（発明の効果） 本発明の炉システムの実施例は以上の通りでありその
効果を次に列記する。
効果を次に列記する。
（１） 本発明の炉システムは特に半円筒状トンネルの
略中心を通る搬送路の下側に沿って放射バーナーが左右
２列設けられるため急速加熱のみならず均等な反射加熱
が可能となった。
略中心を通る搬送路の下側に沿って放射バーナーが左右
２列設けられるため急速加熱のみならず均等な反射加熱
が可能となった。
（２） 本発明の炉システムは特に放射バーナーによる
放射加熱と高温燃焼ガスによる対流加熱の両者が用いら
れるため急速加熱が可能となった。
放射加熱と高温燃焼ガスによる対流加熱の両者が用いら
れるため急速加熱が可能となった。
第１図は本発明の炉システムの概念図 第２図は同上炉システムの横断面図 1:炉システム 1a:急速加熱炉 1b:均熱炉 2:搬送路 3:放射バーナー 4:断熱反射壁 5:炉室 6:フアン 7:昇温装置 8:吹出口 9:吸込口 10:対象物 11:排気ダクト
Claims (2)
- 【請求項１】炉室（５）と、断熱反射壁（４）と、搬送
路（２）と、放射バーナー（３）とを有し、炉室（５）
は半円筒状トンネルにされ、断熱反射壁（４）は搬送路
（２）の上側を囲みその内壁面に反射材料が用いられそ
の外壁に断熱材が用いられ、搬送路（２）は前記炉室
（５）内の略中心を通り、放射バーナー（３）は前記搬
送路（２）の下側に沿って左右２列設けられ半円筒状ト
ンネルの略中心に向けられてなる急速加熱炉（1a）を有
する炉システム - 【請求項２】炉室（５）と、断熱反射壁（４）と、搬送
路（２）と、放射バーナー（３）とを有し、炉室（５）
は半円筒状トンネルにされ、断熱反射壁（４）は搬送路
（２）の上側を囲みその内壁面に反射材料が用いられそ
の外壁に断熱材が用いられ、搬送路（２）は前記炉室
（５）内の略中心を通り、放射バーナー（３）は前記搬
送路（２）の下側に沿って左右２列設けられ半円筒状ト
ンネルの略中心に向けられてなる急速加熱炉（1a）を有
する炉システムにおいて前記放射バーナー（３）の高温
燃焼ガスを導いて対流加熱する均熱炉（1b）が前記急速
加熱炉（1a）の後方に連続して設けられた炉システム
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1305941A JP2549566B2 (ja) | 1989-11-25 | 1989-11-25 | 炉システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1305941A JP2549566B2 (ja) | 1989-11-25 | 1989-11-25 | 炉システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03165867A JPH03165867A (ja) | 1991-07-17 |
| JP2549566B2 true JP2549566B2 (ja) | 1996-10-30 |
Family
ID=17951142
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1305941A Expired - Lifetime JP2549566B2 (ja) | 1989-11-25 | 1989-11-25 | 炉システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2549566B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105737576A (zh) * | 2014-12-09 | 2016-07-06 | 安徽王家坝生态农业有限公司 | 一种远红外食品烘干机 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7272658B2 (ja) * | 2020-01-10 | 2023-05-12 | ドライングシステム株式会社 | 乾燥装置及び乾燥方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS618478U (ja) * | 1984-06-19 | 1986-01-18 | 中外炉工業株式会社 | 塗装用乾燥炉 |
| JPS61293572A (ja) * | 1985-06-21 | 1986-12-24 | Tokiwa Enpitsu Seisakusho:Kk | 鉛筆の塗装乾燥用紫外線連続照射装置 |
| JPS6327810Y2 (ja) * | 1985-09-17 | 1988-07-27 |
-
1989
- 1989-11-25 JP JP1305941A patent/JP2549566B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105737576A (zh) * | 2014-12-09 | 2016-07-06 | 安徽王家坝生态农业有限公司 | 一种远红外食品烘干机 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03165867A (ja) | 1991-07-17 |
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