JP2545167B2 - ラップ加工装置 - Google Patents

ラップ加工装置

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JP2545167B2
JP2545167B2 JP3208380A JP20838091A JP2545167B2 JP 2545167 B2 JP2545167 B2 JP 2545167B2 JP 3208380 A JP3208380 A JP 3208380A JP 20838091 A JP20838091 A JP 20838091A JP 2545167 B2 JP2545167 B2 JP 2545167B2
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邦孝 高橋
正男 畑山
三男 森
友彦 古積
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ラップ加工装置、例え
ば、構造体の高精度ラップ加工、特に、回転構造体の回
転軸のポリゴンミラー取付面を高精度にラップ加工する
ラップ加工装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のラップ加工装置としては、例え
ば、図4(a)に示すようなものがある。ラップ加工装
置1は、両面ラッピングの場合には、図の左側に示すよ
うに上下ラップ円盤2の間に加工物キャリアまたは加工
物ホルダに収めた複数の加工物3を挟み、適当な一定の
相対運動を行わせる。また、片面ラッピングの場合に
は、図の右側に示すように、加工物3を下ラップ円盤2
上に加工物キャリア等に収めて保持し、加工物3上に所
定の重量のウェイト5をただ載せて加工物3をラップ円
盤2上に押付ける。そして、研磨材にラップ液を適量だ
け混合したものをラップ円盤2と加工物3間に介在さ
せ、駆動系6によりラップ円盤2と加工物3とを軸心A
を中心にそれぞれ回転させて、加工物3のラップ加工面
3aと、ラップ円盤2のラップ研磨面2aとを互いに摺
動させ、ラップ加工面3aを研磨材によって微小づつ削
取りラップ研磨加工するものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来のラップ加工装置にあっては、図4(b)に示
すように、加工物3上に所定の重量の1個のウェイト5
をただ載せるだけであるため、ラップ加工時のウェイト
5の高さhが加工物3の高さhoより大幅に高くなる。
このため、ウェイト5の重心G5が加工物3の最上面よ
り高くなり、ラップ研磨加工時にラップ円盤2上で加工
物3を摺動させる際、加工物3が不安定となり、加工仕
上の精度が悪くなるといる問題点がある。
【0004】また、加工物である回転構造体の回転軸3
がポリゴンミラーを取付けるフランジ3Aの取付面3a
を有する場合、すなわち、加工物3がフランジ3Aで形
成される段差7を有する場合、ウェイト5と接触してい
る加工物3の最上面の接触面3bの直下の面3cがより
多くラップされてしまい、取付面3aの平面度が悪くな
るという問題点がある。
【0005】そこで本発明は、ウェイトを加工物の段差
を形成する面に対応して複数のウェイトとし、それぞれ
のウェイトを面に係合してウェイトの重量で押しつける
ことにより、研削加工で得た精度を悪くすることなく、
ラップ加工面に均一なラップ圧Pを発生させ、高精度で
所定の表面粗さおよび平面度を有するラップ加工がで
き、また、ウェイトの高さを低く、かつ重心を下げるこ
とにより、安定したラップ圧Pを発生させ、安定した、
ラップ加工ができ、さらにまた、一方のウェイトで他方
のウェイトとの間隙を覆うことにより、加工物内へのラ
ップ液の浸入を防止し、内周面の傷発生を防止でき、ウ
ェイトの脱着を容易にし、加工物の洗浄が容易にできる
ラップ加工装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】そこで本発明請求項1
は、ラップ研磨加工するラップ加工面を下面に有する加
工物のラップ加工面を、ラップ板のラップ研磨面上に対
面させて配置し、前記加工物上にウェイトを載せてラッ
プ加工面をラップ研磨面に押しつけ、加工物とラップ板
とを互いに摺動させてラップ加工するラップ加工装置に
おいて、前記加工物は最上面と、該最上面と段差を形成
した1つ以上の中間面とを有し、前記ウェイトは前記最
上面および少なくとも1つの前記中間面に対応した複数
のウェイトからなり、それぞれ対応した最上面および中
間面に係合し、それぞれのウェイトの重量で押しつけ、
前記ラップ加工面に均一なラップ圧を発生させることを
特徴とし、本発明の請求項2は請求項1記載のラップ加
工装置において、前記複数のウェイトは各重心の高さは
前記加工物の最上面以下にあることを特徴とし、本発明
の請求項3は請求項1または2記載のラップ加工装置に
おいて、前記複数のウェイトの一方のウェイトは他方の
ウェイトとの間の間隙を覆うよう形成された蓋部を有
し、ラップ液の加工物内への侵入を防止することを特徴
としている。
【0007】
【作用】本発明の請求項1では、加工物に載せるウェイ
トが、加工物の最上面および少なくとも1つの中間面に
対応した複数のウェイトからなり、それぞれ対応した最
上面および中間面に係合し、それぞれのウェイトの重量
で押しつけているので、各ウェイトがそれぞれの面に直
接にウェイトに対応した重量が作用し、その重量がそれ
ぞれの面の直下のラップ加工面をラップ研磨面に押しつ
け、ラップ加工面にはほぼ均一なラップ圧が発生する。
【0008】本発明の請求項2では、各ウェイトの重心
の高さが加工物の最上面以下であるので、ラップ加工時
に加工物は摺動してもより安定した状態を維持する。本
発明の請求項3では、複数のウェイトの一方のウェイト
が他方のウェイトとの間隙を覆う蓋部を有しているの
で、ラップ加工時にラップ液等が間隙から加工物内に浸
入するが防止される。
【0009】
【実施例】以下、本発明を図面に基づいて説明する。図
1〜3は本発明の請求項1〜3に係るラップ加工装置の
実施例を示す図であり、11はラップ加工装置であり、ラ
ップ加工装置11は軸心Aを中心に回転する環状のラップ
板13と、ラップ板13の周上にラップ研摩加工する複数
(例えば、8個)の加工物であるポリゴンスキャナの中
空の回転軸15を複数保持する保持部16aを有する加工物
ホルダ16とを有している。
【0010】回転軸15は回転軸15の下面のラップ加工面
15aをラップ板13のラップ研磨面13a上に対面させて配
置し、回転軸15の最上面15bと、最上面15bと段差17を
形成した小面積の第1中間面15cおよび第1中間面15c
より大面積の環状第2中間面15dと、を有している。回
転軸15は第2中間面15dにより回転軸15の円管状の中空
軸部15Aの一端に一体的に形成されたフランジ部15Bを
有している。
【0011】ポリゴンスキャナの回転軸15は、使用時に
は、図2(a)に示すように、上下を反転し、回転軸15
のフランジ部15Bのラップ加工面15a、すなわち取付け
面にポリゴンミラー18の載置面18aを取付け固定し、高
速回転するものである。ポリゴンミラー18の載置面18a
に面接触する回転軸15のラップ加工面15aはポリゴンミ
ラー18の優れた性能を維持するため、ポリゴンミラー18
の載置面18aの表面精度に合せて、高精度の表面粗さと
平面度が要求される。
【0012】回転軸15のラップ加工面15aは通常は回転
軸15の高精度に加工された内筒面15eを加工基準として
研削加工された表面粗さ6.3 S以下であり、内周面15e
を基準に回転したときの外周線15fの振れば数μm以下
となっている。この研削加工された回転軸15は、ラッピ
ング加工時の回転軸15のバランスを良くし、かつ、研削
加工で達成した内筒面15eに対する外周線15fの振れ精
度を維持する為に、図2(b)に示すように、ラップ加
工面15aを内筒面15eに直載する面Sに対して0度から
2分の範囲で傾斜角θを有するすり鉢状面15aに加工さ
れている。
【0013】このすり鉢状面15aによって、回転軸15は
ラッピング加工中、常に外周線15fがラップ板13のラッ
プ研磨面13aに接し、バランス良く安定しながらラッピ
ング加工される。前述した様に、このラッピング前の回
転軸15の研削加工品質は、表面粗さ6.3S以下、傾斜角
度θは1°〜2″、外周線15fの振れ数μm以下であれ
ば、十分によい回転軸15を得ることができる。さらに、
特に、高精度を要求される時には、回転軸15はさらに、
表面粗さ2.5 S以下、傾斜角度θは0°〜30″(30
秒)、外周線15fの振れ1.5 μm以下にするのが好まし
い。
【0014】この様に研削加工された回転軸15をラッピ
ング加工する際、回転軸15のラップ加工面15aはラップ
板13とのラップ研磨面13a上に対面させて配置され、こ
の回転軸15上に回転軸15の形状に対応したT字状のTウ
ェイト21および円管状の管ウェイト22からなる2個1組
のウェイト20が載置され、ラップ加工面15aをラップ研
磨面13aに押しつけ、ラップ加工面15aに好適なラップ
圧Pを発生させる。そして、回転軸15とラップ板13とは
互いに摺動するように軸心Aを中心に回転させ、回転軸
15のラップ加工面15aを研磨材で削り取りラップ加工面
15aをラップ加工するようになされている。
【0015】ラップ圧Pは10g/cm2〜200 g/cm2の範
囲にするのが好ましく、さらに高精度が要求される場合
には、30g/cm2〜50g/cm2の範囲にするのが好まし
い。管ウェイト22は回転軸15の中空軸部15Aに遊嵌する
ように中空軸部15Aの外径より大きい内径を有し、管ウ
ェイト22の底面22aで回転軸15の第2中間面15dに接し
たとき、管ウェイト22の頂面22bが回転軸15の最上面15
bより下側になる長さを有している。管ウェイト22は、
底面22aが第2中間面15dに接して係合時に、管ウェイ
ト22は第2中間面15dに接してフランジ部15Bの外周部
をこの重量で下方に押圧し、管ウェイト22の重心は回転
軸15の上面15bに対して十分下側にあるように材質およ
び形状が選ばれ形成されている。Tウェイト21は、回転
軸15の最上面15bに接するとともに管ウェイト22の頂面
22bを非接触で覆い、管ウェイト22の外周に接して下方
に突出した下行部21aを有し、管ウェイト22との間隙を
覆うよう形成された薄い厚さ数mmの円板状の蓋部21A
と、蓋部21Aの中央部に回転軸15の中空軸部15A内に下
方に突出するように一体的に形成され、回転軸15の内周
面15eに遊嵌する棒状の軸部21Bとを有している。Tウ
ェイト21は蓋部21Aが回転軸15の最上面15bに接して係
合した時に、Tウェイト21は最上面15bに接して中空軸
部15Aを下方に押圧するとともに、Tウェイト21の重心
は回転軸15の最上面15bに対して十分下側にあるように
形成されている。ウェイト20の全重量は前述の好適なラ
ップ圧Pを充すとともに、Tウェイト21および管ウェイ
ト22の重量の配分および材質、比重、各部寸法は回転軸
15のラップ加工面15aのラップ圧Pが均一になるように
好適に配慮されている。
【0016】次に作用について説明する。本発明では、
ウェイト20が回転軸15の形状の最上面15bと第2中間面
15dに対応してそれぞれの好適な重量配分を有するTウ
ェイト21と管ウェイト22との2個1組にウェイトからな
り、Tウェイト21の蓋部21Aが最上面15bに係合してT
ウェイト21の重量で最上面15bを下方に押圧し、管ウェ
イト22がこの底面22aで回転軸15の第2中間面15dに係
合して管ウェイト22の重量で第2中間面15dを下方に押
圧し、回転軸15の最上面15bおよび第2中間面15dに加
わる押圧力により、それぞれの直下のラップ加工面15a
面の内周部および外周部が押圧されているので、ラップ
加工面15aのラップ圧Pのばらつきはなく、ほぼ均一な
ラップ圧Pが発生している。このため、ラップ加工面15
aは、均一なラップ圧Pでラップ加工され、研削加工で
得た精度を悪くすることもなく、所定の均一な表面粗さ
および平面度を有する高精度のラップ加工をすることが
できる。
【0017】また、Tウェイト21は回転軸15の最上面15
bに接する薄い円板上の蓋部21Aで管ウェイト22の頂面
22bを覆い回転軸15に対して高さ数mmのみでかつ、T
ウェイト21および管ウェイト22の重心が回転軸15の最上
面15bより十分下側にあるので、回転軸15は摺動時には
安定しており、このため、ラップ圧Pも安定し、安定し
たラップ加工ができる。
【0018】また、Tウェイト21の蓋部21Aは管ウ
ェイト22の頂面22bを非接触で覆い、管ウェイト2
2の外周に接して下行する下行部21aを有しているの
で、Tウェイト21と管ウェイト22との間隙は覆わ
れ、ラップ液等が回転軸15内に入り、回転軸15の内
周面15eを傷つけるのが防止され、ウェイトが取れな
く無くなる等の不具合が防止される。このため、ウェイ
ト20の脱着が容易で回転軸15の洗浄が容易にでき
る。なお、図1の実施例では中間面15dのみにウェイ
ト22を対応させているが、2つ以上の中間面に対しそ
れぞれウェイトを対応させることもできる。
【0019】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の請求項1
によれば、ウェイトを加工物の段差を形成する面に対応
して複数のウェイトとし、それぞれのウェイトを面に係
合して押しつけることにより、研削加工で得た精度を悪
くすることなく、ラップ加工面に均一なラップ圧Pを発
生させ、高精度で所定の表面粗さおよび平面度を有する
ラップ加工ができ、また、請求項2によれば、ウェイト
の高さを低く、かつ重心を下げることにより、安定した
ラップ圧Pを発生させ、安定したラップ加工ができ、さ
らにまた、請求項3によれば、一方のウェイトで他方の
ウェイトとの間隙を覆うことにより、加工物内へのラッ
プ液の浸入を防止し、内周面の傷発生が防止でき、ウェ
イトの脱着を容易にし、加工物の洗浄が容易にできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の請求項1〜3に係るラップ加工装置の
一実施例を示す要部概略断面図である。
【図2】図1に示すラップ加工装置によりラップ加工す
る前の加工物の状態を示す図で、(a)はその断面図、
(b)はその要部の状態を示す断面図である。
【図3】図1に示すラップ加工装置および加工物のその
要部の分解斜視図である。
【図4】従来のラップ加工装置を示す図で、(a)はそ
の一部概略断面図、(b)はその要部拡大断面図であ
る。
【符号の説明】
11 ラップ加工装置 13 ラップ板 13a ラップ研磨面 15 回転軸(加工物) 15a ラップ加工面 15b 最上面 15c 第1中間面 15d 第2中間面 20 ウェイト 21 Tウェイト(ウェイト) 22 管ウェイト(ウェイト) P ラップ圧
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森 三男 宮城県柴田郡柴田町大字中名生字神明堂 3−1 東北リコー株式会社内 (72)発明者 古積 友彦 宮城県柴田郡柴田町大字中名生字神明堂 3−1 東北リコー株式会社内

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ラップ研磨加工するラップ加工面を下面に
    有する加工物のラップ加工面を、ラップ板のラップ研磨
    面上に対面させて配置し、前記加工物上にウェイトを載
    せてラップ加工面をラップ研磨面に押しつけ、加工物と
    ラップ板とを互いに摺動させてラップ加工するラップ加
    工装置において、前記加工物は最上面と、該最上面と段
    差を形成した1つ以上の中間面とを有し、前記ウェイト
    は前記最上面および少なくとも1つの前記中間面に対応
    した複数のウェイトからなり、それぞれ対応した最上面
    および中間面に係合し、それぞれのウェイトの重量で押
    しつけ、前記ラップ加工面に均一なラップ圧を発生させ
    ることを特徴とするラップ加工装置。
  2. 【請求項2】前記複数のウェイトの各重心の高さは前記
    加工物の最上面以下にあることを特徴とする請求項1記
    載のラップ加工装置。
  3. 【請求項3】前記複数のウェイトの一方のウェイトは他
    方のウェイトとの間の間隙を覆うよう形成された蓋部を
    有し、ラップ液の加工物内への浸入を防止することを特
    徴とする請求項1または2記載のラップ加工装置。
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