JP2543686Y2 - 純水封入循環装置 - Google Patents

純水封入循環装置

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JP2543686Y2
JP2543686Y2 JP1991091648U JP9164891U JP2543686Y2 JP 2543686 Y2 JP2543686 Y2 JP 2543686Y2 JP 1991091648 U JP1991091648 U JP 1991091648U JP 9164891 U JP9164891 U JP 9164891U JP 2543686 Y2 JP2543686 Y2 JP 2543686Y2
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正之 工藤
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Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本考案は、例えば半導体工場の冷
却装置に冷却した純水を供給するための純水封入循環装
置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、例えば半導体工場では、コイルを
内蔵した冷却装置が用いられ、その冷却装置のコイルに
は水質の確保等の理由により純水が流れるようになって
いる。一般に、この冷却装置には、純水を収容したタン
クから送り管を介して純水が送られ、この純水が使用
後、再び戻し管を介してタンクに環流する。そして、冷
却装置における冷却水出口の圧力は、該冷却装置内のコ
イルに無理な力をかけないように設定する必要があるた
め、図2に示すように、冷却装置101の出口101A
に接続された排出管102の端部102Aは、開口し、
大気開放となっている。これにより、冷却装置101内
のコイル101Bに負圧を与えず、コイル101Bの損
傷を防止している。そして、排出管102の端部102
Aに対向する端部103Aが大気に開口してなる立管1
03が、純水Wを収容したタンク104に接続してい
る。
【0003】ところが、かかる構造では、排出管102
内から立管103内に純水Wが移る際、純水Wが空気に
触れ、空気中の炭酸ガス等のガスが純水W中に吸収され
て溶解し、純水Wの純度が落ちることになる。これを防
止するためには、純水Wを空気中を通過させずに、純水
Wの循環系を密閉系にして循環させれば良いが、このた
めには、冷却装置102とタンク104とを接続する戻
し管を密閉系に構成することになる。この場合、この戻
し管内に真空が発生して負圧になり、冷却装置101内
のコイル101Bを損傷する虞があり、好ましくない。
【0004】そこで、純水の循環系を密閉系にすると同
時に戻し管内を負圧にしないで冷却装置内のコイルの損
傷を防止する構造の純水封入循環装置が図3に示すよう
に案出されている。図において、符号201は純水用タ
ンクで、純水Wが頂面201Aに満たない状態で収容さ
れており、純水用タンク201には、純水Wの上方に気
圧室202が形成されている。
【0005】203は半導体工場における冷却装置で、
この冷却装置203は純水用タンク201より上方に配
置されている。そして、冷却装置203の純水用入口2
03Aと純水用タンク201の純水用出口201Bは送
り管204により連結されている。送り管204の途中
にポンプ205が介装されている。冷却装置203の純
水用出口203Bと純水用タンク201は、戻し管20
6により連結され、戻し管206の先端部は純水用タン
ク201内に開口している。戻し管206は、水平管2
06Aと立管206Bとから構成されている。
【0006】また、戻し管206の立管206Bの途中
には、負圧センサ207が介装され、戻し管206の水
平管206Aの途中には、背圧調整弁208が介装され
ている。立管206内の負圧に応じて、その負圧が負圧
センサ207により検出されて背圧調整弁208に伝達
し、背圧調整弁208を作動させ、戻し管206の水平
管206A内に負圧が発生しないように所定の値に制御
し、冷却装置203のコイル203Cの損傷を図るよう
にしている。
【0007】
【考案が解決しようとする課題】ところが、従来の上述
した純水封入循環装置にあっては、冷却装置203は純
水用タンク201より上方に配置されており、特に、冷
却装置203が階上に設置され、冷却装置203から純
水用タンク201までの落差により、戻し管206の立
管206B内が負圧になり、背圧調整弁208を介して
外部の空気が立管206B内へ混入し、純水Wがこの混
入された空気に触れ、空気中の炭酸ガス等のガスが純水
W中に吸収されて溶解し、純水Wの純度が落ちることに
なる。また、背圧調整弁208の作動時に背圧変動が冷
却装置203内のコイル203Cに伝達し、コイル20
3Cを損傷する虞がある。
【0008】本考案は、上述の問題点を解決するために
なされたもので、その目的は、冷却装置からタンクに至
る戻し管内に負圧が発生することを防止して冷却装置内
のコイルが損傷する虞を解消するとともに、戻し管内に
空気が混入することを防止して純水の純度を高く保つこ
とができる純水封入循環装置を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の考案は、
純水を収容したタンクと、タンクより上方に配置された
冷却装置と、タンクの純水用出口と冷却装置の純水用入
口を連結して冷却装置に純水を供給する送り管と、送り
管の途中に介装されたポンプと、冷却装置の純水用出口
とタンク内を連結する戻し管とを備えた純水封入循環装
置において、前記タンクを、純水を収容し、純水の上方
に気圧室を形成してなる気水分離タンクで構成し、気水
分離タンクの気圧室と戻し管の最も位置が高い最高所部
とを、内部に窒素を満たした窒素供給管で連結したこと
を特徴とする。請求項2記載の考案は、請求項1記載の
純水封入循環装置において、気水分離タンクは仕切板に
より純水受け室と純水回収室とに分割されていることを
特徴とする。
【0010】
【作用】請求項1記載の考案においては、ポンプにより
気水分離タンクから純水が送り管を介して冷却装置に供
給される。冷却装置において純水が使用された後、冷却
装置から戻し管を介してタンクに戻る。戻し管内におい
ては純水は外気と遮断され、密閉状態となっている。そ
して、純水は重力で戻し管内を落下するので、戻し管の
内部全空間を純水で満たすことができず、戻し管内に真
空が発生しようとする。
【0011】この時、窒素供給管内の窒素が戻し管の最
高所部を介して、戻し管内に取り込まれ、戻し管内は純
水と窒素で満たされる。純水が窒素とともに戻し管を介
して気水分離タンク内に戻され、さらに、気水分離タン
クにおいては、窒素と純水が分離され、窒素は窒素供給
管に戻る一方、純水は気水分離タンクの純水用出口に導
かれる。このようにして、純水は、送り管,戻し管を介
して冷却装置と気水分離タンクの間を循環する。請求項
2記載の考案においては、純水受け室内に純水がたまっ
てその水位が上昇すると、仕切板を越え、純水回収室に
流れる。
【0012】
【実施例】以下、図面により本考案の実施例について説
明する。図1は本考案の実施例に係わる純水封入循環装
置を示す。
【0013】図において、符号1は 気水分離タンク
で、仕切板1Aを有し、純水Wが頂面1Bに満たない状
態で収容されており、気水分離タンク1には、純水Wの
上方に気圧室2が形成されている。気水分離タンク1
は、仕切板1Aにより、純水受け室1Bと、純水回収室
1Cに分割されている。
【0014】3は半導体工場における冷却装置で、この
冷却装置3は、コイル3Cを有し、気水分離タンク1よ
り上方に配置されている。そして、冷却装置3の純水用
入口3Aと気水分離タンク1の純水用出口1Dは送り管
4により連結されている。送り管4の途中にポンプ5が
介装されている。冷却装置3の純水用出口3Bと気水分
離タンク1の気圧室2内は、戻し管6により連結されて
いる。戻し管6は、水平管6Aと立管6Bとから構成さ
れている。
【0015】7は窒素供給管で、垂直部7Aと、水平部
7Bと、立下げ部7Cとから構成されている。この窒素
供給管7により、気水分離タンク1の気圧室2内と、戻
し管6の最も位置が高い最高所部6Cとが連結されてい
る。窒素供給管7の立下げ部7Cと戻し管6の立管6B
は直線状態となって連結している。
【0016】また、気水分離タンク1には冷却循環回路
8が接続され、この冷却循環回路8の途中に、気水分離
タンク1内の純水を冷却する冷却器9及びポンプ10が
介装されている。
【0017】なお、図中、11は補助窒素供給管であ
る。しかして、本実施例においては、ポンプ5により気
水分離タンク1から純水Wが送り管4を介して冷却装置
3に供給される。冷却装置3において純水Wが使用され
た後、冷却装置3から戻し管6を介して気水分離タンク
1に戻る。戻し管6内においては純水Wは外気と遮断さ
れ、密閉状態となっている。そして、純水Wは重力で戻
し管6内を落下するので、戻し管の内部全空間を純水6
で満たすことができず、戻し管6内に真空が発生しよう
とする。
【0018】この時、窒素供給管7内の窒素が、戻し管
6の最高所部6Cを介して、戻し管6内に取り込まれ、
戻し管6は純水Wと窒素で満たされる。純水Wが窒素と
ともに戻し管6を介して気水分離タンク1の気圧室2内
に戻される。窒素の一部は、気圧室2から窒素供給管7
に流れ、窒素の一部は、純水Wとともに気水分離タンク
1の純水受け室1Bに混ざった状態で落下する。窒素は
純水Wに溶解し難い性質をもっているので、純水Wから
ちぎれて気圧室2内に上昇し、窒素供給管7へと流れ
る。また、純水受け室1B内に純水Wがたまってその水
位が上昇すると、仕切板1Aを越え、純水回収室1Cに
流れる。
【0019】このようにして、純水Wは、送り管4,戻
し管6を介して冷却装置3と気水分離タンク1の間を循
環するが、気水分離タンク1においては、窒素と純水W
が分離され、窒素は窒素供給管7に戻り、また、純水W
は気水分離タンク1の純水用出口1Dに導かれる。
【0020】以上の如き構成によれば、気水分離タンク
1と、戻し管6の最も位置が高い最高所部6Cとが、内
部に窒素を満たした窒素供給管7で連結されているの
で、窒素供給管7内の窒素が、戻し管の最高所部6Cを
介して、戻し管6内に取り込まれ、戻し管6は純水Wと
窒素で満たされる。従って、戻し管6中の落水による生
じる真空化現象を、窒素雰囲気により防ぎ、戻し管6に
連結する冷却装置3における冷却水出口3Bの圧力を、
該冷却装置3内のコイル3Cに無理な力をかけないよ
に設定することができる。また、冷却装置3,気水分離
タンク1,送り管4,戻し管6からなる純水Wの循環系
は、密閉系に構成されているので、純水W中に大気中の
炭酸ガス等のガスが溶解することを防止し、純水Wの純
度を高く保つことができる。
【0021】さらに、階高の異なる循環系が複数設置さ
れている場合、従来は、各戻し管内の負圧が相違するこ
とから、各循環系で戻し管を共通して使用することがで
きなかったが、本実施例においては、戻し管6内は窒素
雰囲気化されているので、各循環系における戻し管6内
の圧力が同一になり、従って、戻し管6の断面積を大き
くすることにより、各循環系に対して共通の戻し管6を
使用することができ、全体の設備を簡単にすることがで
きる。
【0022】そして、もし、窒素供給管7がなければ、
戻し管6内に負圧が発生し、ポンプ5で気水分離タンク
1から送られる純水Wにより、キャビテーションが発生
し、ポンプ5のインペラ等の金属部品に衝撃を与え、純
水中に金属部品が溶解し、純水Wの純度を落とすことに
なるが、窒素供給管7により窒素が戻し管7に供給され
るので、戻し管6内の負圧の発生を防止し、ポンプ5で
のキャビテーションが防止され、ポンプ5の金属部品の
純水W中への混入を防止し、純水Wの純度を高く保こと
ができる。
【0023】そして、また、戻し管6内は窒素雰囲気化
され、循環系内は密閉系となっているので、エアー抜き
等のバルブが不要で、空気混入の可能性を少なくするこ
とができる。
【0024】
【考案の効果】以上説明したように、本考案によれば、
気水分離タンクと戻し管の最も位置が高い最高所部と
が、内部に窒素を満たした窒素供給管で連結されている
ので、窒素供給管内の窒素が戻し管の最高所部を介し
て、窒素が戻し管内に取り込まれ、戻し管内は純水と窒
素で満たされる。従って、戻し管中の落水により生じる
真空化現象を、窒素雰囲気により防ぎ、戻し管に連結す
る冷却装置における冷却水出口の圧力を、該冷却装置内
のコイルに無理な力をかけないように設定することがで
きる。また、冷却装置,気水分離タンク,送り管,戻し
管からなる純水の循環系は、密閉系に構成されているの
で、純水中に大気中の炭酸ガス等のガスが溶解すること
を防止し、純水の純度を高く保つことができる効果を奏
する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の実施例に係わる純水封入循環装置の構
成図である。
【図2】従来における純水封入循環装置の構成図であ
る。
【図3】従来における他の純水封入循環装置の構成図で
ある。
【符号の説明】
1 気水分離タンク 1D 純水用出口 2 気圧室 3 冷却装置 3A 純水用入口 3B 純水用出口 4 送り管 5 ポンプ 6 戻し管 6C 最高所部 7 窒素供給管

Claims (2)

    (57)【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 純水を収容したタンクと、 タンクより上方に配置された冷却装置と、 タンクの純水用出口と冷却装置の純水用入口を連結して
    冷却装置に純水を供給する送り管と、 送り管の途中に介装されたポンプと、 冷却装置の純水用出口とタンク内を連結する戻し管とを
    備えた純水封入循環装置において、 前記タンクを、純水を収容し、純水の上方に気圧室を形
    成してなる気水分離タンクで構成し、 気水分離タンクの気圧室と戻し管の最も位置が高い最高
    所部とを、内部に窒素を満たした窒素供給管で連結した
    ことを特徴とする純水封入循環装置。
  2. 【請求項2】 気水分離タンクは仕切板により純水受け
    室と純水回収室とに分割されていることを特徴とする請
    求項1記載の純水封入循環装置。
JP1991091648U 1991-11-08 1991-11-08 純水封入循環装置 Expired - Lifetime JP2543686Y2 (ja)

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JPH0539692U JPH0539692U (ja) 1993-05-28
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101392820B1 (ko) * 2013-04-23 2014-05-09 주식회사 듀라소닉 온순수 건조장치

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