JP2539757B2 - Pvt測定方法及びその測定装置 - Google Patents

Pvt測定方法及びその測定装置

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JP2539757B2
JP2539757B2 JP5350115A JP35011593A JP2539757B2 JP 2539757 B2 JP2539757 B2 JP 2539757B2 JP 5350115 A JP5350115 A JP 5350115A JP 35011593 A JP35011593 A JP 35011593A JP 2539757 B2 JP2539757 B2 JP 2539757B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、サンプル試料の圧力−
容積−温度の関係(以下、PVT特性と略記する。)を
測定する方法及びその測定装置に関するものであり、特
に、自由度が3となる複合型のPID制御によるPVT
測定方法及びその測定装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】熱可塑性及び熱硬化性樹脂の成形技術分
野においては、近年、コンピュータ・シミュレーション
による流れ解析・金型設計が盛んに行われている。樹脂
のPVT特性は、そのコンピュータ・シミュレーション
の基礎となる重要なデータである。そして、PVT測定
装置をコンピュータ制御することにより、その特性デー
タを取得している。図4は、従来のPVT測定装置の制
御系を示す概略図である。また、図5は、その制御信号
のフローを示すブロック図であり、図4と同一要素には
同一符号が付されている。
【0003】ここで、従来のPVT測定装置のコンピュ
ータ制御を、図4及び図5を参照しつつ説明する。図示
したPVT測定装置は、測定対象のサンプル試料101
を封入した圧力容器102と、該圧力容器102に近接
して配設され、この圧力容器102を加熱するためのヒ
ータ103と、この圧力容器102の上部に介装された
差動トランス104と、サンプル試料101の温度制御
を行うマイクロコンピュータ105と、温度制御プログ
ラムを出力するプログラム発生器110とを備えてい
る。上記圧力容器102の内部には、測定対象のサンプ
ル試料101が充填されたベローズ106と、該ベロー
ズ106を包囲して外部より所定の圧力で加圧して充填
された圧力媒体107とが封入されており、更に、ベロ
ーズ106の可動部には、先端にコア108を有するロ
ッド109が取り付けられ、このコア108は、上記差
動トランス104のほぼ中央に位置するように介装され
ている。また、上記ベローズ106には、サンプル試料
101の温度を検出する熱電対等の温度検出器111を
備えている。
【0004】このような構成から成るPVT測定装置に
おいて、マイクロコンピュータ105は、温度制御プロ
グラムにより指示された温度と、マイクロコンピュータ
105にフィードバックされた上記サンプル試料101
の温度との差に基づき、PID制御部105aに指示し
て、ヒータ103の加熱量をPID制御する。これによ
り、サンプル試料101の所定の温度において、外部よ
り加圧された所定の圧力におけるこのサンプル試料10
1の容積の変化が、ベローズ106の伸縮による、ベロ
ーズ106に取付けたロッド109の先端のコア108
の上下変位量として、差動トランス104で検出される
ので、サンプル試料101の比容積が測定され、その繰
り返しによりサンプル試料101のPVT特性が測定さ
れる。図6は、上述したPID制御下におけるサンプル
試料101の温度の、単純なステップ入力温度に対する
過渡応答を示すものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、PVT
測定における従来のPID制御においては、図6からも
わかるように、昇温状態から所定保持温度への移行時に
オーバーシュートを生じるため、比容積変化を測定して
も、それがヒータからの熱による温度変化に基づくもの
であるのか、或いはサンプル試料の化学反応に基づく比
容積変化であるのかを区別することが困難であり、その
ため、サンプル試料の化学反応に基づく比容積変化を精
密に測定することができなかった。また、上記オーバー
シュート後に続くハンチング現象は、上記比容積の波状
の変化として現れるため、この点でも比容積変化を精度
よく測定することができなかった。
【0006】さらに、上記オーバーシュートやハンチン
グ現象により圧力容器やベローズ、ロッド等に生じた非
定常な温度分布は、これらの圧力容器等に部分的な熱歪
みを生ぜしめるため、検出されたコアの変位がサンプル
試料を封入したベローズの長手方向の伸縮を正確に表わ
さなくなり、その結果、上記比容積変化を精度よく測定
することができなかった。さらにまた、圧力容器等の肉
厚により、温度制御プログラムにより指示される温度に
対する実際のサンプル試料の温度の応答遅れが生ずるた
め、時々刻々変化する入力温度に対応する比容積変化を
迅速に測定することができず、特に設定温度の変化率に
変動がある測定条件での精密な測定は不可能であった。
【0007】本発明の技術的課題は、上述した不具合を
解消したPVT測定方法及びその測定装置を提供するこ
とにあり、さらに具体的には、サンプル試料のPVT特
性を応答よく高精度に測定することができ、それによっ
て設定温度の変化率に変動がある測定条件でのPVT特
性の精密な測定を可能にしたPVT測定方法及びその測
定装置を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明のPVT測定方法は、圧力容器に測定対象の
サンプル試料を封入し、この圧力容器を加熱装置により
加熱するに際し、その加熱温度を、温度制御プログラム
による指示温度に基いて制御し、上記サンプル試料のP
VT特性を測定するPVT測定方法において、上記指示
温度の入力信号を遅延制御した信号と上記サンプル試料
の温度に対応する出力信号との差に対しPID制御する
と共に、該PID制御された信号と上記入力信号に対し
PD制御された信号の和と上記加熱装置の温度に対応す
る出力信号の差に対しPID制御して、上記サンプル試
料のPVT特性を測定することを特徴とするものであ
る。
【0009】また、本発明のPVT測定装置は、測定対
象のサンプル試料を封入する圧力容器と、該圧力容器を
加熱するための加熱装置と、該加熱装置を、温度制御プ
ログラムによる指示温度に基いて制御する制御手段とを
備えたPVT測定装置において、上記指示温度の入力信
号を遅延制御した信号を出力する遅延制御手段と、該遅
延制御手段からの出力信号と上記サンプル試料の温度に
対応する出力信号との差に対しPID制御する第1のP
ID制御手段と、上記入力信号に対しPD制御するPD
制御手段と、上記PD制御手段から出力される出力信号
と、上記第1のPID制御手段から出力される出力信号
との和、及び上記加熱装置の温度に対応する出力信号と
の差に対し、PID制御する第2のPID制御手段とを
備えたことを特徴とするものである。
【0010】
【作用】圧力容器に測定対象のサンプル試料を封入し、
この圧力容器を加熱装置により加熱してサンプル試料の
温度制御を行うに際し、プログラム発生器からの温度制
御プログラムによる指示温度の入力信号を遅延制御し、
この遅延制御した信号と上記サンプル試料の温度に対応
する出力信号との差に対しPID制御すると共に、さら
にこのPID制御した信号と上記入力信号に対しPD制
御した信号の和と上記加熱装置の温度に対応する出力信
号の差に対しPID制御するようにしたので、オーバー
シュートやハンチング現象、或いは温度の応答遅れが生
ずることなく、サンプル試料の比容積変化が精度よく測
定でき、それによって設定温度の変化率に変動がある測
定条件でもサンプル試料のPVT特性を高精度に測定す
ることができる。
【0011】
【実施例】以下、本発明の実施例を図1〜図3を参照し
て説明する。図1は、本発明の実施例に係るPVT測定
装置の制御系を示す概略図である。また、図2は、その
制御信号のフローを示すブロック図であり、図1と同一
要素には同一符号が付されている。
【0012】図1及び図2を参照して本発明の実施例に
係るPVT測定装置について説明するに、先ず、図示し
たPVT測定装置は、測定対象のサンプル試料1を封入
した圧力容器2と、該圧力容器2に近接して配設され、
その圧力容器2を加熱するためのヒータ3(加熱装置)
と、上記圧力容器2に付設されてサンプル試料1の容積
を測定する差動トランス4と、サンプル試料1の温度制
御を行うマイクロコンピュータ5と、温度制御プログラ
ムを出力するプログラム発生器10とから構成されてい
る。
【0013】上記圧力容器2は、その内部に、測定対象
のサンプル試料1が充填されるベローズ6と、該ベロー
ズ6を包囲して外部より所定の圧力で加圧して充填され
る圧力媒体7を封入可能にしたものである。更に、ベロ
ーズ6の可動部には、先端にコア8を有するロッド9が
取り付けられ、このコア8は、上記差動トランス4のほ
ぼ中央に位置するように配設されている。また、上記ベ
ローズ6及びヒータ3には、サンプル試料温度及びヒー
タ温度を検出する熱電対等の温度検出器11,12を備
えている。
【0014】一方、PVT測定装置の制御手段は、プロ
グラム発生器10からの温度制御プログラムによる指示
温度の入力信号に応じて、コンピュータ5において行わ
れ、その制御内容は、自由度が3となる複合型のPID
制御、即ち、上述した従来のPID制御に加えて、後述
するフィードフォアード制御及びカスケード制御を行う
ものである。このコンピュータ5は、図2からもわかる
ように、上述した従来のコンピュータ105が有してい
たPID制御部105aと同様な機能を有する第1のP
ID制御部5aと、プログラム発生器10から送られる
指示温度の入力信号に対しPD制御するPD制御部(P
D制御手段)5bと、上記入力信号を遅延制御する遅延
制御部(遅延制御手段)5cと、上記PD制御部5bか
らの出力信号と上記第1のPID制御部5aからの出力
信号との和及び上記ヒータ3の温度に対応する出力信号
との差に対してPID制御する第2のPID制御部(第
2のPID制御手段)5dからなり、上記第1のPID
制御部5aにおいては、遅延制御部5cから出力される
出力信号と上記サンプル試料1の温度に対応する出力信
号との差に対しPID制御を行うように構成している。
【0015】指示温度の温度制御プログラムを出力する
上記プログラム発生器10と、その指示温度の信号を
延制御する遅延制御部5cとに代えて、プログラム発生
器10内において遅延時間に相当する所定時間後の設定
値を算出し、この算出した設定値に相当する信号を別系
統で第1のPID制御部5aに供給するように構成した
り、さらにまた、二つのプログラム発生器を用意して、
同一プログラムを遅延時間に相当する時間だけずらせて
運転し、遅延させた信号を第1のPID制御部5aに供
給するように構成することもできる。本明細書における
遅延制御手段とは、かかる構成を意味するものである。
【0016】次に、上記PVT測定装置の制御について
説明する。コンピュータ5は、基本的には、サンプル試
料1の温度が、上記温度制御プログラムで指示される温
度に追従するように制御すると共に、上述したオーバー
シュートやハンチング現象を生じないように、また温度
の応答遅れを生じないように制御するものである。ま
ず、上記入力信号の変化を予知し、オーバーシュートや
ハンチング現象を生じないように制御するため、上述の
ようにプログラム発生器10の出力側にPD制御部5b
を接続してPD制御することで応答信号の安定性を高め
ると共に、上述のようにプログラム発生器10の出力側
に遅延制御部5cを接続して、温度制御プログラムによ
り指示される温度に対する実際のサンプル試料の温度の
応答遅れに見合う時間を補償する。
【0017】また、温度制御プログラムによる指示温度
に対する実際のサンプル試料1の温度の応答遅れを小さ
くするために、ヒータ3の温度に対応する出力信号を第
2のPID制御部5dにフィードバックして、この第2
のPID制御部5dにおいてヒータ3の加熱温度をPI
D制御する。
【0018】このようにして、コンピュータ5により自
由度が3となる複合型のPID制御を構成して制御する
と、オーバーシュートやハンチング現象或いは温度の応
答遅れを生ずることなく、サンプル試料1の所定の温度
において、外部より加圧された所定の圧力におけるサン
プル試料1の容積の変化を、ベローズ6の伸縮によるベ
ローズ6に取付けたロッド9の先端のコア8の上下変位
量として、差動トランス4で検出すれば、サンプル試料
1の比容積変化が精度よく測定でき、その繰り返しによ
りサンプル試料1のPVT特性が高精度に測定できる。
【0019】図3は、上記制御下におけるサンプル試料
1の温度の、上記図6と同一入力に対する過渡応答を示
すものである。同図からもわかるように、サンプル試料
1の過渡応答曲線に、図6に示すようなオーバーシュー
トやハンチング現象或いは温度の応答遅れは出現してい
ない。よって、従来例のような不具合を生ずることな
く、サンプル試料1の比容積変化が精度よく測定でき、
それによって設定温度の変化率に変動がある測定条件で
もPVT特性の精密な測定が可能になる。
【0020】尚、本実施例では、サンプル試料1の比容
積変化を、コア8の上下変位を検出することにより間接
的に測定する場合について説明したが、これに限るもの
でなく、より簡易に、例えばシリンダに装填されたサン
プル試料1をピストンにより所定の圧力で加圧してお
き、その圧力下におけるピストンの変位を直接測定する
ようにしたものであってもよい。
【0021】
【発明の効果】以上に詳述した本発明のPVT測定方法
及びその測定装置によれば、オーバーシュートやハンチ
ング現象或いは温度の応答遅れが生ずることなく、サン
プル試料のPVT特性を応答よく高精度に測定すること
ができ、それによって、設定温度の変化率に変動がある
測定条件でもPVT特性を高精度に測定することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例に係るPVT測定装置を示す概
略図である。
【図2】図1の装置における制御信号のフローを示すブ
ロック図である。
【図3】図1の制御下におけるサンプル試料の入力温度
に対する過渡応答特性を示す特性図である。
【図4】従来のPVT測定装置の制御系を示す概略図で
ある。
【図5】図4の制御信号のフローを示すブロック図であ
る。
【図6】図4の制御下におけるサンプル試料の入力温度
に対する過渡応答特性を示す特性図である。
【符号の説明】
1 サンプル試料 2 圧力容器 3 ヒータ 5 マイクロコンピュータ 5a 第1のPID制御部 5b PD制御部 5c 遅延制御部 5d 第2のPID制御部 10 プログラム発生器

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】圧力容器に測定対象のサンプル試料を封入
    し、この圧力容器を加熱装置により加熱するに際し、そ
    の加熱温度を、温度制御プログラムによる指示温度に基
    いて制御し、上記サンプル試料のPVT特性を測定する
    PVT測定方法において、 上記指示温度の入力信号を遅延制御した信号と上記サン
    プル試料の温度に対応する出力信号との差に対しPID
    制御すると共に、 該PID制御された信号と上記入力信号に対しPD制御
    された信号の和と上記加熱装置の温度に対応する出力信
    号の差に対しPID制御して、上記サンプル試料のPV
    T特性を測定する、 ことを特徴とするPVT測定方法。
  2. 【請求項2】測定対象のサンプル試料を封入する圧力容
    器と、該圧力容器を加熱するための加熱装置と、該加熱
    装置を、温度制御プログラムによる指示温度に基いて制
    御する制御手段とを備えたPVT測定装置において、 上記指示温度の入力信号を遅延制御した信号を出力する
    遅延制御手段と、 該遅延制御手段からの出力信号と上記サンプル試料の温
    度に対応する出力信号との差に対しPID制御する第1
    のPID制御手段と、 上記入力信号に対しPD制御するPD制御手段と、 上記PD制御手段から出力される出力信号と、上記第1
    のPID制御手段から出力される出力信号との和、及び
    上記加熱装置の温度に対応する出力信号との差に対し、
    PID制御する第2のPID制御手段と、 を備えたことを特徴とするPVT測定装置。
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