JP2535628Y2 - Wafer suction device - Google Patents

Wafer suction device

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JP2535628Y2
JP2535628Y2 JP1990001973U JP197390U JP2535628Y2 JP 2535628 Y2 JP2535628 Y2 JP 2535628Y2 JP 1990001973 U JP1990001973 U JP 1990001973U JP 197390 U JP197390 U JP 197390U JP 2535628 Y2 JP2535628 Y2 JP 2535628Y2
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Japan
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holder
wafer
shaft
pin
suction
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雅邦 塩澤
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Seiko Epson Corp
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Description

【考案の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本考案は、ウエハー搬送装置等に設けられるウエハー
吸着装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a wafer suction device provided in a wafer transfer device or the like.

[従来の技術] 従来のウエハー搬送装置に設けられているウエハー吸
着装置は、第3図(a),第3図(b)の如くであっ
た。即ち、第3図(b)において、ワイヤー取り付けホ
ルダー25と、バネ性をそなえているワイヤー26により吸
着部取り付けホルダー27と連結させる事により吸着部28
に回動変位およびねじり変位効果を持たせるものであ
る。吸着部28は、ウエハーWを真空吸着させる働きを持
つ。
[Prior Art] A wafer suction device provided in a conventional wafer transfer device is as shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b). That is, in FIG. 3 (b), the suction unit 28 is connected to the wire mounting holder 25 and the suction unit mounting holder 27 by the wire 26 having spring properties.
Have a rotational displacement and a torsional displacement effect. The suction unit 28 has a function of vacuum-sucking the wafer W.

[考案が解決しようとする課題] しかし前述の従来技術では、第3図(b)において、
28の吸着部がウエハーWに接触することにより吸着させ
る時に、前記ウエハーWの保持器に変形等が生じ、傾き
を持った状態で保持された場合においては、平面状態で
の接触ができず、前記吸着部28とウエハーWの間にすき
間が生じ真空吸着できない状態となる。
[Problem to be solved by the invention] However, in the above-described conventional technology, in FIG.
When the suction portion of the wafer W is sucked by contacting the wafer W, deformation and the like occur in the holder of the wafer W, and when the wafer W is held in a tilted state, contact in a planar state cannot be performed. A gap is generated between the suction unit 28 and the wafer W, and a state where vacuum suction cannot be performed is obtained.

またワイヤー26によりすき間を生じさせない為の回動
変位及びねじり変位効果を期待するものであるが、剛性
の低いものにしなければいけない必要があり、その場合
には、寿命的に短い物となり、あるいは、安定した保持
性がない物となる。さらに前記回動変位及びねじり変位
効果により、すき間の無い状態で真空吸着が行われた場
合でも、ウエハー搬送装置により保持器より、前記ウエ
ハーWを取り出した時に、前記ワイヤー26のバネ作用に
より元の状態に戻ろうとする力が働く為に、ウエハーW
をはじき飛ばしてしまうという問題があった。
In addition, it is expected to have a rotational displacement and a torsional displacement effect for preventing a gap from being generated by the wire 26.However, it is necessary to make the rigidity low, in which case, the life becomes short, or , Resulting in no stable retention. Furthermore, even when vacuum suction is performed in a state where there is no gap due to the rotational displacement and torsional displacement effects, when the wafer W is taken out of the holder by the wafer transfer device, the original action is performed by the spring action of the wire 26. In order for the force to return to the state to work, the wafer W
There was a problem that would be repelled.

本考案はこのような従来技術の問題点を解決するもの
で、その目的は、保持器の状態にかかわらず、確実にウ
エハーを真空吸着でき搬送できる状態にある装置を提供
するものである。
The present invention solves such a problem of the prior art, and an object of the present invention is to provide an apparatus in which a wafer can be reliably vacuum-sucked and conveyed regardless of the state of a holder.

[課題を解決するための手段] 上記課題を解決するため、本考案のウエハ吸着装置
は、吸着部、前記吸着部を保持する第1のピンホルダ
ー、前記第1のピンホルダーを支持する第1の軸、前記
第1の軸を介し前記第1のピンホルダーを軸支する第1
のホルダー、前記第1のホルダーを保持し搬送装置に取
り付けられた第2のホルダー、前記第2のホルダーに第
2の軸で固着された第2のピンホルダー、前記第2のホ
ルダーに固着された保持装置からなるウエハ吸着装置に
おいて、 前記第1のピンホルダーを前記第1のホルダーに回転
自在に第1の軸で軸支し、前記第2のピンホルダーを前
記第2のホルダーに回転自在に第2の軸で固着し、前記
保持装置が前記第2のピンホルダーを任意の回転位置に
保持することを特徴とする。
[Means for Solving the Problems] In order to solve the above problems, a wafer suction device of the present invention includes a suction unit, a first pin holder that holds the suction unit, and a first pin holder that supports the first pin holder. A first shaft that supports the first pin holder via the first shaft
A holder, a second holder holding the first holder and attached to a transfer device, a second pin holder fixed to the second holder with a second shaft, and a second pin holder fixed to the second holder. A wafer suction device comprising a holding device, wherein the first pin holder is rotatably supported on the first holder by a first shaft, and the second pin holder is rotatable on the second holder. And a second shaft, and the holding device holds the second pin holder at an arbitrary rotation position.

[実施例] 以下に本考案の実施例を図面にもとづいて説明する。
第1図(a)は本考案の一実施例の側面図、第1図
(b)は第1図(a)の正面図である。図面中1は吸着
部で2の吸引パイプを有し、第1の軸5に支持されるプ
ッシャーピン4を持つ第1のピンホルダー3に取り付け
られている。軸7に支持される回転体6は、スプリング
8によって加圧され、ストッパー9によってつりあいを
保つ。この回転体6は互いに独立のものが2個有り、そ
れぞれストッパー9とスプリング8が互い違いに配置さ
れており一方は時計方向、一方は反時計方向に回転でき
る機構となっている。これによりプッシャーピン4を回
転体6に接することで、第1のピンホルダー3は第1の
軸5の回転方向の時計方向、反時計方向の両方向に対し
て一定の圧力を持って回転ができ、回転方向に力が働か
ない時は、所定の位置で静止状態を維持できる。側板1
0,側板11は、第1の軸5,軸7を保持し、第1のホルダー
12に取り付けられている。
Embodiment An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
FIG. 1 (a) is a side view of one embodiment of the present invention, and FIG. 1 (b) is a front view of FIG. 1 (a). In the drawing, reference numeral 1 denotes a suction unit which has two suction pipes and is attached to a first pin holder 3 having a pusher pin 4 supported on a first shaft 5. The rotating body 6 supported on the shaft 7 is pressurized by the spring 8 and is kept in balance by the stopper 9. The rotating body 6 has two independent members. The stoppers 9 and the springs 8 are alternately arranged. One of them is a mechanism capable of rotating clockwise, and the other is capable of rotating counterclockwise. By contacting the pusher pin 4 with the rotating body 6, the first pin holder 3 can rotate with a constant pressure in both the clockwise and counterclockwise directions of rotation of the first shaft 5. When no force acts in the rotation direction, the stationary state can be maintained at a predetermined position. Side plate 1
0, the side plate 11 holds the first shaft 5 and the shaft 7, and the first holder
Attached to 12.

同様にプッシャーピン14を持つ第2のピンホルダー13
が、第2の軸15に固着されている。軸17に支持される回
転体16は、スプリング18によって加圧され、ストッパー
19によってつりあいを保つ。この回転体16は互いに独立
のものが2個有り、それぞれストッパー19とスプリング
18が互い違いに配置されており一方向は時計方向、一方
は反時計方向に回転できる機構となっている。これによ
りプッシャーピン14を回転体16に接することで、第2の
ピンホルダー13は第2の軸15の回転方向の時計方向、反
時計方向の両方向に対して一定の圧力を持って回転がで
き、回転方向に力が働かない時は、所定の位置で静止状
態を維持できる。側板20,側板21に軸17が固着され、第
2の軸15は側板20,側板21に対して回転できるよう支持
されている。尚側板20,側板21は第2のホルダー22に取
り付けられ搬送装置に取り付けられる。保持装置である
電磁ブレーキ23は一部側板20に取り付けられ一部は第2
の軸15に取り付けられており、励磁することにより側板
20に対して第2の軸15が任意の回転位置に保持できる。
また第2の軸15は第1のホルダー12に対して固着してい
る。
Second pin holder 13 with pusher pin 14
Are fixed to the second shaft 15. The rotating body 16 supported on the shaft 17 is pressurized by a spring 18,
Keep balance by 19. The rotating body 16 has two independent members, each having a stopper 19 and a spring.
18 are alternately arranged so that one direction can rotate clockwise and one can rotate counterclockwise. This allows the second pin holder 13 to rotate with a constant pressure in both the clockwise and counterclockwise directions of rotation of the second shaft 15 by bringing the pusher pin 14 into contact with the rotating body 16. When no force acts in the rotation direction, the stationary state can be maintained at a predetermined position. The shaft 17 is fixed to the side plates 20 and 21, and the second shaft 15 is supported so as to be rotatable with respect to the side plates 20 and 21. The side plate 20 and the side plate 21 are attached to a second holder 22 and attached to a transport device. An electromagnetic brake 23 as a holding device is partially attached to the side plate 20 and partially
The shaft 15 is attached to the
The second shaft 15 can be held at an arbitrary rotation position with respect to 20.
Further, the second shaft 15 is fixed to the first holder 12.

以上の様に吸着部1に力が加わった場合に、第1の軸
5の回転方向と第2の軸15の回転方向に対して自由度を
持ち、第2の軸15の回転方向に対しては任意の回転位置
で保持することができる。また吸着部1に力が加わらな
い時は、静止状態を維持できる。
As described above, when a force is applied to the suction unit 1, it has a degree of freedom in the rotation direction of the first shaft 5 and the rotation direction of the second shaft 15, and Can be held at any rotational position. When no force is applied to the suction unit 1, the stationary state can be maintained.

第2図(a)はウエハーWの保持器24の正面図で、第
2図(b)は第2図(a)の側面図である。図面中
θ,θは保持器24の変形等によるウエハーWの傾き
の方向を示す。
FIG. 2 (a) is a front view of the holder 24 for the wafer W, and FIG. 2 (b) is a side view of FIG. 2 (a). In the drawing, θ 1 and θ 2 indicate directions of inclination of the wafer W due to deformation of the holder 24 and the like.

以下、動作を説明すると第2図(a),第2図(b)
のように保持器24によりウエハーWが傾いて保持されて
いる場合、ウエハーW間に本考案の第1図(a),第1
図(b)の吸着部1を挿入しウエハーW方向に水平移動
させることにより、第2図(b)の傾きθに対しては
第1図(a)の第1の軸5の回転方向に回転することに
より吸着部1をθだけ傾けることができる。第2図
(a)の傾きθに対しては第1図(a)の第2の軸15
の回転方向に回転することにより吸着部1をθだけ傾
けることができる。ここで第2図(a)のθの傾きに
対しては、第1図(a)の電磁ブレーキ23により吸着部
1をその傾きθに保持する。その状態で第1図(a)
に示すウエハー吸着装置を水平移動し、挿入した方向に
戻し、第1図(a)の第1のピンホルダー3にスプリン
グ8の力が加わらない状態にする。そしてウエハーWを
吸着した状態で第2図(a)の保持器24から確実に取り
出しを行うことができる。
The operation will be described below with reference to FIGS. 2 (a) and 2 (b).
When the wafer W is held inclined by the holder 24 as shown in FIG.
By horizontally moving the inserted wafer W direction adsorption unit 1 of FIG. (B), with respect to the inclination theta 2 of FIG. 2 (b) the rotation direction of the first axis 5 in FIG. 1 (a) You can tilt the suction unit 1 only theta 2 by rotating. For the inclination theta 1 of FIG. 2 (a) second axis of FIG. 1 (a) 15
The suction unit 1 can be tilted only theta 1 by rotating in the direction of rotation of the. Here for the theta 1 of the inclination of the second view (a), to hold the suction portion 1 to the inclination theta 1 by the electromagnetic brake 23 of FIG. 1 (a). Fig. 1 (a)
Is moved horizontally and returned to the insertion direction, so that the force of the spring 8 is not applied to the first pin holder 3 in FIG. 1 (a). Then, it is possible to reliably take out the wafer W from the holder 24 shown in FIG.

[考案の効果] 以上の如く本考案によれば、ウエハー搬送装置におけ
るウエハー吸着に際し、ウエハー保持器の変形により傾
きをもってウエハーが保持されている様な場合において
もそれぞれ独立した2方向へ回転自在に支持する機構
と、任意の回転位置で保持することにより確実にウエハ
ーを吸着し搬送できる効果を有する。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, when a wafer is held by a wafer transfer device, the wafer can be freely rotated in two independent directions even when the wafer is held with a tilt due to deformation of the wafer holder. There is an effect that the wafer can be surely sucked and transported by holding the supporting mechanism and an arbitrary rotation position.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図(a)は本考案の実施例におけるウエハー吸着装
置の側面図。第1図(b)は第1図(a)の正面図。第
2図(a)はウエハー保持器の正面図。第2図(b)は
第2図(a)の側面図。第3図(a)は従来のウエハー
吸着装置の側面図。第3図(b)は第3図(a)の正面
図。 1……吸着部 2……吸引パイプ 3……第1のピンホルダー 4,14……プッシャーピン 5……第1の軸 6,16……回転体 7,17……軸 8,18……スプリング 9,19……ストッパー 10,11,20,21……側板 12……第1のホルダー 13……第2のピンホルダー 15……第2の軸 22……第2のホルダー 23……電磁ブレーキ 24……保持器 25……ワイヤ取り付けホルダー 26……ワイヤー 27……吸着部取り付けホルダー 28……吸着部 W……ウエハー θ,θ……傾き
FIG. 1A is a side view of a wafer suction device according to an embodiment of the present invention. FIG. 1 (b) is a front view of FIG. 1 (a). FIG. 2A is a front view of the wafer holder. FIG. 2 (b) is a side view of FIG. 2 (a). FIG. 3A is a side view of a conventional wafer suction device. FIG. 3 (b) is a front view of FIG. 3 (a). DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Suction part 2 ... Suction pipe 3 ... First pin holder 4,14 ... Pusher pin 5 ... First shaft 6,16 ... Rotating body 7,17 ... Shaft 8,18 ... Spring 9,19 Stopper 10,11,20,21 Side plate 12 First holder 13 Second pin holder 15 Second shaft 22 Second holder 23 Electromagnetic Brake 24… Cage 25… Wire holder 26… Wire 27… Suction unit holder 28… Suction unit W… Wafer θ 1 , θ 2 … Tilt

Claims (1)

(57)【実用新案登録請求の範囲】(57) [Scope of request for utility model registration] 【請求項1】吸着部、前記吸着部を保持する第1のピン
ホルダー、前記第1のピンホルダーを支持する第1の
軸、前記第1の軸を介し前記第1のピンホルダーを軸支
する第1のホルダー、前記第1のホルダーを保持し搬送
装置に取り付けられた第2のホルダー、前記第2のホル
ダーに第2の軸で固着された第2のピンホルダー、前記
第2のホルダーに固着された保持装置からなるウエハ吸
着装置において、 前記第1のピンホルダーを前記第1のホルダーに回転自
在に第1の軸で軸支し、前記第2のピンホルダーを前記
第2のホルダーに回転自在に第2の軸で固着し、前記保
持装置が前記第2のピンホルダーを任意の回転位置に保
持することを特徴とするウエハー吸着装置。
A first pin holder for holding the suction portion; a first shaft for supporting the first pin holder; and a support for the first pin holder via the first shaft. A first holder, a second holder holding the first holder and attached to a transfer device, a second pin holder fixed to the second holder with a second shaft, and the second holder A wafer suction device comprising a holding device fixed to the first holder, wherein the first pin holder is rotatably supported on the first holder by a first shaft, and the second pin holder is supported by the second holder. A wafer holding device, wherein the holding device holds the second pin holder at an arbitrary rotation position.
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