JPH11135412A - Projection aligner and method for holding reticule - Google Patents
Projection aligner and method for holding reticuleInfo
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- JPH11135412A JPH11135412A JP9312798A JP31279897A JPH11135412A JP H11135412 A JPH11135412 A JP H11135412A JP 9312798 A JP9312798 A JP 9312798A JP 31279897 A JP31279897 A JP 31279897A JP H11135412 A JPH11135412 A JP H11135412A
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Landscapes
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はウエハやガラスプレ
ートなどの基板上に転写されるパターンが形成されたレ
チクルの保持方法及びレチクル上のパターンを基板に投
影露光する投影露光装置に関する。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a method for holding a reticle having a pattern transferred onto a substrate such as a wafer or a glass plate, and a projection exposure apparatus for projecting and exposing a pattern on the reticle to the substrate.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来のレチクルは下面の周縁部を真空吸
着して保持する方式を採用するのが一般的であった。吸
着力を確保するためにはある程度の吸着面積が必要とな
る。しかし、レチクルは透過式であるためパターン部は
吸着できない。図１０（Ａ）と図１０（Ｂ）にレチクル
ホルダの一例を示す。図１０に示されたレチクルホルダ
１８は平行に同じ平面上に配置された一対の断面矩形の
棒状部材１８ａ、１８ｂを有し、それらの棒状部材１８
ａ、１８ｂの平坦な上面に、レチクル４（破線で示す）
が載置される。レチクルホルダ１８は上面が平坦な多孔
板を含んで構成され、その多数の孔（不図示）は多孔板
の下面の空洞（不図示）に貫通しており、その空洞は真
空ライン（不図示）につながれている。2. Description of the Related Art A conventional reticle generally employs a method of holding a peripheral portion of a lower surface by vacuum suction. In order to secure the suction force, a certain suction area is required. However, since the reticle is of a transmission type, the pattern portion cannot be sucked. FIGS. 10A and 10B show an example of a reticle holder. The reticle holder 18 shown in FIG. 10 has a pair of rectangular bar-shaped members 18a and 18b arranged in parallel on the same plane.
a, a reticle 4 (shown by a broken line) on the flat upper surface of 18b
Is placed. The reticle holder 18 is configured to include a perforated plate having a flat upper surface, and a number of holes (not shown) penetrate through cavities (not shown) on the lower surface of the perforated plate, and the cavities are formed by vacuum lines (not shown). Is connected to
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】ところが、図１０
（Ａ）及び図１０（Ｂ）に示すようなレチクルホルダ１
８によってレチクル４を真空吸着すると、実際には図１
１に示されるように重力によるレチクル４のたわみと、
それを阻止しようとする吸着力があいまって、レチクル
４が変形することが知られている。また棒状部材１８
ａ、１８ｂの吸着部の高さまたは傾きに差が存在する
と、高さまたは傾きによってレチクル４は複雑にたわむ
（図１２、図１３参照））。さらに、レチクルホルダ１
８の左右の高さ、及び傾きが適切であってもレチクル４
の平面度にずれがあることによってもレチクル４のたわ
み方は複雑となる。なお、図１１〜図１３では、レチク
ル４のたわみは誇張して示されている。また、図１１、
図１２において、レチクル４のレチクルホルダ１８にお
ける接触面に平行な直線を二点鎖線で示してある。However, FIG.
(A) and reticle holder 1 as shown in FIG. 10 (B)
When the reticle 4 is vacuum-sucked by the reticle 8, the actual
As shown in FIG. 1, the deflection of the reticle 4 due to gravity,
It is known that the reticle 4 is deformed in combination with the suction force for preventing the reticle. Also, the rod-shaped member 18
If there is a difference between the height or the inclination of the suction portions a and 18b, the reticle 4 is flexibly bent by the height or the inclination (see FIGS. 12 and 13). Further, the reticle holder 1
Reticle 4 even if height and inclination of right and left of 8 are proper
Of the reticle 4 also becomes complicated due to the deviation in the flatness of the reticle 4. 11 to 13, the deflection of the reticle 4 is exaggerated. FIG.
12, a straight line parallel to the contact surface of the reticle 4 on the reticle holder 18 is indicated by a two-dot chain line.
【０００４】そこで、本発明はレチクルのたわみを単純
な態様にし、レチクルホルダの加工精度及びレチクルの
平面度の影響を受けないようにレチクルを保持する投影
露光装置を提供することを目的とする。Accordingly, an object of the present invention is to provide a projection exposure apparatus that holds a reticle so that the deflection of the reticle is simplified and the reticle is not affected by the processing accuracy of the reticle holder and the flatness of the reticle.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１に記載の投影露光装置１は、図１に示され
るように、レチクル４上に形成されたパターンを基板７
上に投影する投影光学系５と；前記投影光学系５の光軸
に直交する面に対して傾斜した保持面１０を有し、該保
持面１０で前記レチクル４のエッジ部分９を保持するレ
チクルホルダ８とを備えたことを特徴とする。In order to achieve the above object, a projection exposure apparatus according to a first aspect of the present invention uses a pattern formed on a reticle as shown in FIG.
A projection optical system 5 for projecting thereon; a reticle having a holding surface 10 inclined with respect to a plane orthogonal to the optical axis of the projection optical system 5, and holding the edge portion 9 of the reticle 4 with the holding surface 10. And a holder (8).
【０００６】レチクルホルダ８の保持面１０が傾斜して
いるので、この保持面１０の傾斜によってレチクルホル
ダ８を構成する棒状部材８ａ、８ｂの高さの差、保持面
１０の傾斜の差の影響を避けて、レチクルをレチクルホ
ルダ８上に全体として水平に載置することができる。す
なわち、レチクル４は自重によってたわむが、（レチク
ル４のエッジ部分に面取りがある場合）レチクル４のレ
チクルホルダ８と接触する面取り部分９に対応するレチ
クル４の上面の部分はほぼ同じ高さとなる。さらにこの
レチクルホルダ８の保持面１０の傾斜によって、レチク
ル４とレチクルホルダ８の保持面１０の接触面積を小さ
くすることができ、しかもレチクル４を接触部において
単純支持とすることができる。即ち、レチクル４は保持
面との接触部においてＹ，Ｚ方向の位置は拘束される
が、Ｘ軸回りのモーメントはほとんどあるいは全くかか
らな。Since the holding surface 10 of the reticle holder 8 is inclined, the inclination of the holding surface 10 affects the difference in height between the rod members 8a and 8b constituting the reticle holder 8, and the difference in the inclination of the holding surface 10. , The reticle can be placed horizontally on the reticle holder 8 as a whole. That is, the reticle 4 bends due to its own weight, but the upper surface of the reticle 4 corresponding to the chamfered portion 9 of the reticle 4 that comes into contact with the reticle holder 8 has substantially the same height (when the edge portion of the reticle 4 is chamfered). Further, by the inclination of the holding surface 10 of the reticle holder 8, the contact area between the reticle 4 and the holding surface 10 of the reticle holder 8 can be reduced, and the reticle 4 can be simply supported at the contact portion. That is, the position of the reticle 4 in the Y and Z directions is restricted at the contact portion with the holding surface, but little or no moment about the X axis is applied.
【０００７】請求項２に記載の投影露光装置１では、請
求項１に記載の投影露光装置１において、保持面１０の
傾斜の角度が前記レチクル４のエッジ部分９の面取り角
度とほぼ等しく形成されていることを特徴とする。保持
面１０の傾斜の角度とレチクル４の面取り角度がほぼ等
しく形成されているので、容易にレチクル４を全体とし
て水平にレチクルホルダ８上に載置することができる。In the projection exposure apparatus according to the second aspect, in the projection exposure apparatus according to the first aspect, the angle of inclination of the holding surface is formed to be substantially equal to the chamfer angle of the edge portion of the reticle. It is characterized by having. Since the angle of inclination of the holding surface 10 and the angle of chamfering of the reticle 4 are substantially equal, the reticle 4 can be easily placed horizontally on the reticle holder 8 as a whole.
【０００８】請求項３に記載の投影露光装置１では、請
求項１または請求項２に記載の投影露光装置１におい
て、レチクルホルダ８は、保持面１０として対向する一
対の保持面１０を有し、対向する保持面１０の間隔が調
整可能に構成されていることを特徴とする。保持面１０
の間隔が調整可能であるため、サイズの異なるレチクル
を保持することができる。In the projection exposure apparatus 1 according to the third aspect, in the projection exposure apparatus 1 according to the first or second aspect, the reticle holder 8 has a pair of holding surfaces 10 facing each other as the holding surface 10. The distance between the opposed holding surfaces 10 is adjustable. Holding surface 10
Are adjustable, so that reticles of different sizes can be held.
【０００９】請求項４に記載の投影露光装置１では、請
求項３に記載の投影露光装置１において、レチクルホル
ダ８は、保持面１０をさらにもう一対備え、二対の保持
面１０がお互いに投影光学系５の光軸回りに９０°回転
した位置に配置されていることを特徴とする。保持面１
０が互いに９０°回転した位置に二対あるので、レチク
ル４を確実に保持することができる。また、保持面１０
の間隔が調整可能であるので、全ての保持面１０がレチ
クル４に接触するようにレチクルホルダ８の間隔を調整
することができる。また、レチクル４のたわみを小さく
することができる。In the projection exposure apparatus 1 according to the fourth aspect, in the projection exposure apparatus 1 according to the third aspect, the reticle holder 8 further includes another pair of holding surfaces 10, and the two pairs of holding surfaces 10 are mutually connected. It is characterized in that it is arranged at a position rotated by 90 ° around the optical axis of the projection optical system 5. Holding surface 1
Since there are two pairs of zeros at positions rotated by 90 °, reticle 4 can be held securely. Also, the holding surface 10
Of the reticle holder 8 can be adjusted such that all the holding surfaces 10 are in contact with the reticle 4. Further, the deflection of the reticle 4 can be reduced.
【００１０】請求項５に記載の投影露光装置１では、請
求項１から請求項４のいずれかに記載の投影露光装置１
において、レチクル４を前記保持面１０に押し付ける押
し付け部材１１（図６）をさらに備えたことを特徴とす
る。レチクルホルダ８を急に動かすことによりレチクル
４に傾斜面の摩擦力では保持できない水平方向の加速度
が働いた場合にも、押し付け部材により、レチクル４を
確実に保持することができる。According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the projection exposure apparatus according to any one of the first to fourth aspects.
, A pressing member 11 (FIG. 6) for pressing the reticle 4 against the holding surface 10 is further provided. Even when the reticle holder 8 is suddenly moved and a horizontal acceleration that cannot be held by the frictional force of the inclined surface acts on the reticle 4, the reticle 4 can be reliably held by the pressing member.
【００１１】請求項６に記載の投影露光装置１では、請
求項１に記載の投影露光装置１において、前記レチクル
と前記基板とを同期移動しながら前記レチクルのパター
ン像を前記基板上に転写するように構成され、前記レチ
クルホルダは前記レチクルの移動方向とほぼ直行する方
向に関して対向する一つの保持面を有することを特徴と
する。レチクルホルダがレチクルの移動方向とほぼ直行
する方向に関して対向する一つの保持面を有するので、
レチクルホルダは移動に際してさらに確実にレチクルを
保持することができる。According to a sixth aspect of the present invention, in the projection exposure apparatus of the first aspect, the pattern image of the reticle is transferred onto the substrate while the reticle and the substrate move synchronously. The reticle holder has one holding surface facing in a direction substantially perpendicular to the direction of movement of the reticle. Since the reticle holder has one holding surface facing in a direction substantially perpendicular to the direction of movement of the reticle,
The reticle holder can more reliably hold the reticle when moving.
【００１２】上記目的を達成するために、請求項７に記
載のレチクル保持方法は、基板上に転写されるパターン
が形成されたレチクルを保持するための方法であって、
前記レチクルのパターン形成面に対して傾斜した保持面
で前記レチクルのエッジ部分を保持することを特徴とす
る。In order to achieve the above object, a reticle holding method according to claim 7 is a method for holding a reticle having a pattern transferred onto a substrate formed thereon,
The edge portion of the reticle is held by a holding surface inclined with respect to a pattern forming surface of the reticle.
【００１３】[0013]
【発明の実施の形態】図１を参照して、本発明による第
１の実施の形態の走査型の投影露光装置１を説明する。
投影露光装置１において光源（図示せず）から発せられ
た光は照明光学系３を通りレチクル４を照明し、レチク
ル４上のパターンは投影光学系５を介して、ステージ６
上の基板であるウエハ７上に投影される。レチクル４は
レチクルホルダ８上に載せられ、所定の位置にセットさ
れる。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A scanning projection exposure apparatus 1 according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
Light emitted from a light source (not shown) in the projection exposure apparatus 1 illuminates the reticle 4 through the illumination optical system 3, and the pattern on the reticle 4 is transmitted through the projection optical system 5 to the stage 6.
It is projected on a wafer 7 which is an upper substrate. The reticle 4 is placed on the reticle holder 8 and set at a predetermined position.
【００１４】レチクル４のパターン像でウエハ７を走査
露光するときには、レチクル４をＹ方向へ、ウエハ７を
−Ｙ方向へ、投影光学系５の投影倍率に対応する速度比
で同期移動する。レチクル４を載置するレチクルホルダ
８は一対のほぼ平行に配設された断面が直角三角形の棒
状部材８ａ、８ｂを有する。棒状部材８ａ、８ｂは、レ
チクル４の移動方向に直角（Ｘ方向）で、傾斜面１０が
互いに対向するように配置され、傾斜面１０にてレチク
ル４の下面（パターン形成面）のエッジの面取り部９を
支持している。なお、断面の前記直角三角形の直角を挟
む一辺がほぼ水平になるよう棒状部材８ａ、８ｂは設置
されている。When scanning and exposing the wafer 7 with the pattern image of the reticle 4, the reticle 4 is synchronously moved in the Y direction and the wafer 7 in the -Y direction at a speed ratio corresponding to the projection magnification of the projection optical system 5. The reticle holder 8 on which the reticle 4 is mounted has a pair of substantially parallel bar-shaped members 8a and 8b which are disposed in parallel and whose cross section is a right triangle. The rod members 8a and 8b are arranged so that the inclined surfaces 10 face each other at a right angle (X direction) to the moving direction of the reticle 4, and chamfer the edge of the lower surface (pattern forming surface) of the reticle 4 at the inclined surface 10. The part 9 is supported. The bar-shaped members 8a and 8b are installed so that one side of the cross section of the right triangle of the right triangle is substantially horizontal.
【００１５】図２にレチクル４とレチクルホルダ８の側
面断面図を示す。レチクル４の移動方向は投影光学系５
の光軸に直交する平面内でレチクルホルダ８に直角な方
向、即ち図面上の矢印ＡまたはＢ方向である。レチクル
４は一般的に正方形または長方形であり、図２に示され
るように、その下面の外周囲４辺のエッジに面取り部９
を有し、この面取り部９でレチクルホルダ８の一対の棒
状部材８ａ、８ｂの傾斜面１０に接触する。なお、棒状
部材８ａ、８ｂの断面の直角三角形の直角を挟む一辺は
水平、他の辺は垂直に配置され、斜辺が前記傾斜面１０
に対応するように配置されている。FIG. 2 is a side sectional view of the reticle 4 and the reticle holder 8. The moving direction of the reticle 4 is the projection optical system 5
Is a direction perpendicular to the reticle holder 8 in a plane perpendicular to the optical axis of FIG. The reticle 4 is generally a square or a rectangle, and as shown in FIG.
The chamfered portion 9 makes contact with the inclined surfaces 10 of the pair of rod members 8a and 8b of the reticle holder 8. In addition, one side sandwiching the right angle of the right-angled triangle of the cross section of the rod-shaped members 8a and 8b is arranged horizontally, the other side is arranged vertically, and the oblique side is
Are arranged to correspond to.
【００１６】この面取り部９の面取りの角度を４５度と
する場合は、レチクルホルダ８の傾斜面１０の傾斜角度
も同じく４５度とすることが望ましく（４０度なら同じ
く４０度とすることが望ましく）、これによりレチクル
４をレチクルホルダ８上に載置した場合レチクル４を全
体として水平に載置することが容易となる。しかし、レ
チクル４の面取り部９の角度とレチクルホルダ８の傾斜
角度を等しくすることは必須の条件ではない。以下で説
明するように両角度がほぼ等しければ、レチクル４及び
レチクルホルダ８の局部的弾性変形により問題なくレチ
クル４は保持される。When the angle of the chamfer of the chamfered portion 9 is set to 45 degrees, the inclination angle of the inclined surface 10 of the reticle holder 8 is also desirably set to 45 degrees. Thus, when the reticle 4 is placed on the reticle holder 8, it becomes easy to place the reticle 4 horizontally as a whole. However, it is not an essential condition that the angle of the chamfer 9 of the reticle 4 and the inclination angle of the reticle holder 8 are equal. As described below, if the two angles are substantially equal, the reticle 4 is held without any problem due to local elastic deformation of the reticle 4 and the reticle holder 8.
【００１７】いずれにせよレチクルホルダ８のレチクル
４に接触する部分を傾斜面としたことから、図１２及び
図１３に示されるような、レチクルホルダの高さの差、
載置面の水平度の差の影響を大きく受けて複雑なたわみ
を生じることなく、レチクル４をレチクル全体としてほ
ぼ水平に載置することができる。In any case, since the portion of the reticle holder 8 which comes into contact with the reticle 4 is formed as an inclined surface, the difference in height of the reticle holder as shown in FIGS.
The reticle 4 can be placed substantially horizontally as a whole reticle without being affected by the difference in the horizontality of the placement surface and causing complicated bending.
【００１８】図３に示されるようにレチクル４の面取り
部９の角度が４５度であり、レチクルホルダ８の加工精
度に多少の問題があって傾斜面１０の傾斜角度が４５度
ではなく、かつ左右で傾き角度に誤差がある場合であっ
ても、同様にレチクル４全体としてほぼ水平にレチクル
ホルダに載置することができる。角度の誤差が微少であ
れば、レチクルの弾性変形によって吸収し、面取り部９
と傾斜面１０の接触を面接触とすることができるが、角
度の差が大きい場合はこの接触が線接触に近い接触形態
となることにより水平載置が可能である。なお、図３に
おいては、レチクル４の中央部二点鎖線により挟まれる
部分を省略して示してある。As shown in FIG. 3, the angle of the chamfer 9 of the reticle 4 is 45 degrees, and there is some problem in the processing accuracy of the reticle holder 8, so that the inclination angle of the inclined surface 10 is not 45 degrees, and Even if there is an error in the tilt angle between the left and right, the entire reticle 4 can be similarly placed almost horizontally on the reticle holder. If the angle error is small, it is absorbed by the elastic deformation of the reticle, and the chamfer 9
When the angle difference is large, the contact becomes a contact form close to a line contact, thereby enabling horizontal mounting. In FIG. 3, a portion sandwiched between two-dot chain lines at the center of the reticle 4 is omitted.
【００１９】さらに、レチクル４のレチクルホルダ８に
接触する部分がレチクル４の下平面の外周エッジ部分の
対向する２辺であり、かつ接触面積が小さく、支持部の
回転方向の動きがほとんど拘束されない単純支持である
ので素直にたわむことが期待出来る。Furthermore, the portions of the reticle 4 that contact the reticle holder 8 are the two opposing sides of the outer peripheral edge of the lower surface of the reticle 4, and the contact area is small, so that the movement of the support in the rotational direction is hardly restricted. Since it is simple support, it can be expected that it will flex flexibly.
【００２０】また、たわみは重力に主として起因するも
のであるので、その大きさを容易に予測することができ
る。さらに、レチクル４の支持部が単純支持であるの
で、レチクル４が完全に平面でない場合でも真空吸着に
おける拘束支持の場合と違いさらにゆがみを生ずるよう
なことはない。予測容易なたわみは、修正も用意であ
り、また予測されるたわみに応じて投影光学系５の合焦
も調節できる。Since the deflection is mainly caused by gravity, its size can be easily predicted. Furthermore, since the supporting portion of the reticle 4 is simply supported, even when the reticle 4 is not completely flat, there is no further distortion unlike the case of the restrained support in vacuum suction. The easily predictable deflection can be corrected, and the focus of the projection optical system 5 can be adjusted according to the predicted deflection.
【００２１】さらに、図４に示されるようにレチクルホ
ルダ８の傾斜面１０の高さに差があっても、レチクル４
のレチクルホルダ８の傾斜面に接触する面取り部の接触
部の高さに差をほとんど生じることなく載置できる。図
４においては、レチクル４の中央部二点鎖線により挟ま
れる部分を省略して示してある。Further, as shown in FIG. 4, even if the height of the inclined surface 10 of the reticle holder 8 is different,
Can be mounted with almost no difference in the height of the contact portion of the chamfered portion that contacts the inclined surface of the reticle holder 8. In FIG. 4, a portion sandwiched between two-dot chain lines at the center of the reticle 4 is omitted.
【００２２】また、図５に示されるようにレチクルホル
ダ８の傾斜面１０の傾斜角に差があり、レチクル４のレ
チクルホルダ８の傾斜面１０に接触する部分が一方は面
取り部の上部であり他方が面取り部の下部であっても、
面取りの幅は小さいので、面取り部の上部と下部の位置
の差は小さく、したがって、レチクル４を全体として水
平に載置することができる。図５においても、レチクル
４の二点鎖線により挟まれる部分を省略して示してあ
る。As shown in FIG. 5, there is a difference in the inclination angle of the inclined surface 10 of the reticle holder 8, and one portion of the reticle 4 that contacts the inclined surface 10 of the reticle holder 8 is an upper part of the chamfered portion. Even if the other is below the chamfer,
Since the width of the chamfer is small, the difference between the positions of the upper and lower portions of the chamfer is small, so that the reticle 4 can be placed horizontally as a whole. Also in FIG. 5, the portion of the reticle 4 sandwiched between the two-dot chain lines is omitted.
【００２３】図３から図５に示した場合、たとえわずか
にレチクル上面の左右端部に高さの差が生じることがあ
っても、通常は、この高さの補正は何らかのアクチュエ
ータ（図３から図５に図示せず）で左右のレチクルホル
ダ８の棒状部材８ａ、８ｂごとに上下することによって
行うことができる。In the case shown in FIGS. 3 to 5, even if a slight difference in height occurs between the left and right ends of the upper surface of the reticle, this height is usually corrected by some actuator (from FIG. 3). 5 (not shown in FIG. 5), it can be performed by raising and lowering each of the bar-shaped members 8a and 8b of the left and right reticle holders 8.
【００２４】上記において、レチクルホルダ８に問題が
あることにより、レチクルホルダ８の高さの差、傾斜面
の傾きの差がある場合を述べてきたが、レチクル４の面
取り部９に、面取り部の大小、面取り部の角度に差があ
る場合でも同様の効果が得られる。In the above description, a case has been described in which there is a difference in height of the reticle holder 8 and a difference in inclination of the inclined surface due to a problem with the reticle holder 8, but the chamfered portion 9 of the reticle 4 has a chamfered portion. The same effect can be obtained even when there is a difference in the size of the angle and the angle of the chamfered portion.
【００２５】また、レチクルホルダ８の構成部材である
棒状部材８ａ、８ｂは互いにほぼ平行に配置されている
が、各棒状部材８ａ、８ｂを水平面内で回転可能とし、
平行からのずれ角度を調整できるようにするとよい。こ
れによって、レチクル４が微視的には正方形または長方
形に製作されておらず対向する辺が平行に仕上がってい
ない場合、または面取り加工が不十分で面取り部が面対
称でない場合等でも、レチクル４が全体として水平に載
置されるように棒状部材８ａ、８ｂを回転調整すること
によって、レチクルホルダ８を調整することができる。Although the rod members 8a and 8b, which are constituent members of the reticle holder 8, are arranged substantially parallel to each other, the rod members 8a and 8b are rotatable in a horizontal plane.
It is preferable that the angle of deviation from parallel can be adjusted. Accordingly, even when the reticle 4 is not microscopically manufactured in a square or rectangular shape and the opposing sides are not finished in parallel, or when the chamfering process is insufficient and the chamfered portion is not plane-symmetric, the reticle 4 can be used. The reticle holder 8 can be adjusted by rotating and adjusting the rod-shaped members 8a and 8b so that the whole is placed horizontally.
【００２６】図１１の従来例の場合、レチクル４との接
触面積を具体的に計算すれば、例えば従来のレチクルホ
ルダ１８の接触面が幅１０ｍｍ×長さ１４０ｍｍとして
１４００ｍｍ2 、これが左右で２８００ｍｍ2 となる。
一方、本発明によるレチクルホルダ８は、幅１ｍｍ×長
さ１４０ｍｍとしても１４０ｍｍ2 、左右で２８０ｍｍ
2 であり、接触面積は従来の１／１０である。真空吸着
装置によりレチクル４が吸着されたとき、レチクル４は
レチクルホルダ１８との接触面に押し付けられ、この接
触面がレチクル４を拘束するするのでレチクル４のたわ
みは、両端固定支持の梁と同等であって、そのような梁
の支持部の高さ、傾きが違う場合と同様に複雑となる
が、真空吸着を行わない本発明の場合は、レチクル４の
レチクルホルダ８への接触部は回転方向に拘束されず、
自由支持のはりの場合と同様であり、レチクル４のたわ
みは単純で予測が可能である。In the case of the conventional example shown in FIG. 11, if the contact area with the reticle 4 is specifically calculated, for example, the contact surface of the conventional reticle holder 18 is 1400 mm 2 as 10 mm wide × 140 mm long, which is 2800 mm 2 on the left and right. Becomes
On the other hand, the reticle holder 8 according to the present invention has a width of 1 mm × a length of 140 mm, 140 mm 2 , and a width of 280 mm.
2 and the contact area is 1/10 of the conventional one. When the reticle 4 is sucked by the vacuum suction device, the reticle 4 is pressed against the contact surface with the reticle holder 18, and this contact surface restrains the reticle 4, so that the deflection of the reticle 4 is equal to that of the beam fixed at both ends. However, in the case of the present invention in which vacuum suction is not performed, the contact portion of the reticle 4 to the reticle holder 8 is rotated. Not constrained by the direction
As in the case of a freely supported beam, the deflection of the reticle 4 is simple and can be predicted.
【００２７】図６に第２の実施の形態を示す。図２と同
様にレチクル４の移動方向はレチクル４がレチクルホル
ダ８と接触している面取り部９が加工されている側面に
垂直な矢印Ａまたは矢印Ｂの方向である。レチクルステ
ージが走査露光を開始するときレチクル４に加速度αｍ
ｍ／ｓ2 が加わり、レチクル４を傾斜面に沿って持ち上
げようとする方向に力が働く。FIG. 6 shows a second embodiment. 2, the moving direction of the reticle 4 is the direction of the arrow A or the arrow B perpendicular to the side surface on which the chamfered portion 9 where the reticle 4 is in contact with the reticle holder 8 is machined. When the reticle stage starts scanning exposure, an acceleration αm is applied to the reticle 4.
m / s 2 is applied, and a force acts in a direction to lift the reticle 4 along the inclined surface.
【００２８】レチクル４に作用する力を図７に示す。レ
チクルホルダ８は図面上で右から左に移動するとする。
レチクル４に作用する力は、常にレチクル４の重心に作
用している重力Ｇによる力ｍｇ、及び加速度αによって
作用する力ｍα、レチクルホルダ８からの反力Ｆ１、Ｆ
２、レチクル４が移動することにより生じる摩擦による
抵抗力μＦ１、μＦ２である。ここで、レチクル４の質
量をｍ、重力加速度をｇ、レチクル４とレチクルホルダ
８間の摩擦係数をμとする。Ｆ１及びＦ２はレチクルホ
ルダ８の傾斜面１０に垂直である。FIG. 7 shows the force acting on the reticle 4. It is assumed that the reticle holder 8 moves from right to left on the drawing.
The force acting on the reticle 4 includes a force mg due to gravity G constantly acting on the center of gravity of the reticle 4, a force mα acting due to the acceleration α, and reaction forces F1 and F from the reticle holder 8.
2. Resistance forces μF1 and μF2 due to friction generated by movement of reticle 4. Here, the mass of the reticle 4 is m, the gravitational acceleration is g, and the friction coefficient between the reticle 4 and the reticle holder 8 is μ. F1 and F2 are perpendicular to the inclined surface 10 of the reticle holder 8.
【００２９】加速度αｍｍ／ｓ2 によりレチクルが移動
する寸前の移動方向側のレチクルのレチクルホルダへの
接触部に働く力が前述のように図７に示されている。加
速度αが所定の値を超えるとレチクル４は図面上で右側
のレチクルホルダ８の傾斜面１０上をせり上がり、図面
上で左側の傾斜面１０上をずり落ちる。これを抑えるの
が押し付け部材としてのクランパ１１（図６）である。
クランパ１１はレチクルホルダ８にヒンジ等にて取り付
けられ、その個数は各レチクルホルダ８の棒状部材８
ａ、８ｂごとに２個であり、これらのクランパ１１はレ
チクル４の４隅近傍にてレチクル４をクランプしてい
る。FIG. 7 shows the force acting on the contact portion of the reticle with the reticle holder on the moving direction side just before the reticle is moved by the acceleration α mm / s 2 as described above. When the acceleration α exceeds a predetermined value, the reticle 4 rises on the inclined surface 10 of the reticle holder 8 on the right side in the drawing, and slides down on the inclined surface 10 on the left side in the drawing. The clamper 11 (FIG. 6) as a pressing member suppresses this.
The clampers 11 are attached to the reticle holders 8 by hinges or the like.
Each of the clampers 11 clamps the reticle 4 near four corners of the reticle 4.
【００３０】図８に第３の実施の形態のレチクルホルダ
８を示す。第１の実施の形態、第２の実施の形態との主
要な違いはレチクル（図示せず）はレチクルホルダ８と
四辺で接触する点である。このときレチクルのたわみ方
はレチクル中央が最も下がり、Ｘ方向Ｙ方向にそれぞれ
レチクルホルダとの接触部に行くにしたがってたわみ量
は小さくなる。図８には、二対の対向する棒状部材はお
互いに一体的に構成されている場合が示されているが、
対向した棒状部材間の間隔を調整可能とすると、種々の
サイズのレチクルを載置できるだけでなく、アクチュエ
ータによって高さを補正できるようにすれば、矩形のレ
チクルが４辺で接触し全体として水平に載置されるよう
にすることができる。FIG. 8 shows a reticle holder 8 according to the third embodiment. The main difference between the first embodiment and the second embodiment is that a reticle (not shown) contacts the reticle holder 8 on four sides. At this time, the reticle bends at the center of the reticle at the lowest position, and the amount of deflection becomes smaller as it goes to the contact portion with the reticle holder in the X and Y directions. FIG. 8 shows a case where the two pairs of opposing rod members are integrally formed with each other,
If the distance between the opposing rod-shaped members can be adjusted, not only can reticles of various sizes be placed, but if the height can be corrected by the actuator, the rectangular reticle will contact on four sides and be horizontal as a whole. It can be mounted.
【００３１】レチクルホルダ８の加工精度には十分注意
する必要があるが、本実施の形態によるレチクルホルダ
８はレチクルに４辺で接触しているのでたわみ自体を小
さくすることが可能である。Although it is necessary to pay close attention to the processing accuracy of the reticle holder 8, the deflection itself can be reduced because the reticle holder 8 according to the present embodiment is in contact with the reticle on four sides.
【００３２】また、レチクルホルダが一対の場合で説明
するが、本発明ではレチクルを載せる位置がレチクルホ
ルダ上でその移動方向にずれると、レチクルにこの方向
の傾きが生じる。よって、レチクル４の傾きを検出する
ための位置モニタ１２を取り付け（図９参照）、各レチ
クルホルダ８の高さを上下方向調整可能にするとよい。
モニタ１２の数は３個以上必要であり、レチクルの４隅
近辺を計測するように合計４個取り付けるとよい。位置
モニタ１２は非接触型が望ましく、用いることの出来る
位置モニタ１２としては、例えばリニヤエンコーダ、干
渉計、または静電容量型センサがある。棒状部材８ａ、
８ｂの材料としては、硬度の高いセラミックス、例えば
ＳｉＣがあり、あるいは温度による変形が少なくなるよ
うに、線膨張係数の小さい金属、例えばインバー等が用
いられる。In the present invention, a case will be described in which the reticle holder is paired. In the present invention, if the position on which the reticle is mounted is shifted in the moving direction on the reticle holder, the reticle is inclined in this direction. Therefore, it is preferable to attach a position monitor 12 for detecting the inclination of the reticle 4 (see FIG. 9) so that the height of each reticle holder 8 can be adjusted in the vertical direction.
The number of monitors 12 is required to be three or more, and a total of four monitors 12 may be attached so as to measure the vicinity of four corners of the reticle. The position monitor 12 is desirably a non-contact type, and examples of the position monitor 12 that can be used include a linear encoder, an interferometer, and a capacitance type sensor. Rod-shaped member 8a,
As the material of 8b, there is used a ceramic having a high hardness, for example, SiC, or a metal having a small linear expansion coefficient, for example, Invar so as to reduce deformation due to temperature.
【００３３】[0033]
【発明の効果】以上のような発明によれば、レチクルの
たわみを主として重力によるものとしこれを単純で予測
可能なものとすることができ、さらにレチクルのたわみ
がレチクルホルダの加工精度およびレチクルの平面度に
影響を受けないようにすることができる。また、レチク
ルホルダの保持面の傾斜角度をレチクルの下面のエッジ
部分の面取り部の角度とほぼ等しくすれば、重力による
中央のたわみは若干生じてもレチクルを容易に全体的に
水平にレチクルホルダ上に載置することができる。According to the above-described invention, the deflection of the reticle is mainly caused by gravity, which can be made simple and predictable. Further, the deflection of the reticle can be improved in the processing accuracy of the reticle holder and the reticle. It is possible not to be affected by the flatness. Also, if the angle of inclination of the holding surface of the reticle holder is made substantially equal to the angle of the chamfered portion of the edge portion on the lower surface of the reticle, the reticle can be easily and horizontally moved over the reticle holder easily even if a slight center deflection due to gravity occurs. Can be placed on
【００３４】また、レチクルホルダの間隔を調整可能に
すれば、サイズのことなるレチクルを載置することがで
きる。レチクルホルダを互いに９０度回転させた位置に
二対設ければ、レチクルを４辺で支持することができた
わみを小さくすることができる。さらに、レチクルを押
し付け部材で押し付ければ、レチクルホルダの走行によ
る加速度によりレチクルがレチクルホルダ上を動くこと
を防止しレチクルを確実に保持することができる。If the distance between the reticle holders is adjustable, reticles of different sizes can be placed. If two pairs of reticle holders are provided at positions rotated by 90 degrees with respect to each other, the reticle can be supported on four sides and the deflection can be reduced. Furthermore, if the reticle is pressed by the pressing member, it is possible to prevent the reticle from moving on the reticle holder due to the acceleration caused by the travel of the reticle holder, and to securely hold the reticle.
【図１】本発明による第１の実施の形態の投影露光装置
を示した概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a projection exposure apparatus according to a first embodiment of the present invention.
【図２】第１の実施の形態のレチクルホルダとレチクル
ホルダ上に載置されたレチクルの断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the reticle holder according to the first embodiment and a reticle mounted on the reticle holder.
【図３】傾斜角が違うレチクルホルダにレチクルを載置
した場合の断面図である。FIG. 3 is a sectional view when a reticle is placed on a reticle holder having a different inclination angle.
【図４】高さが違うレチクルホルダにレチクルを載置し
た場合の断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view when a reticle is placed on a reticle holder having a different height.
【図５】傾斜角が違うレチクルホルダにレチクルを載置
した別の場合の断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of another case where a reticle is placed on a reticle holder having a different inclination angle.
【図６】本発明の第２の実施の形態レチクルホルダとレ
チクルホルダ上に載置されたレチクルの断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of a reticle holder and a reticle mounted on the reticle holder according to a second embodiment of the present invention.
【図７】本発明の第２の実施の形態のレチクルホルダに
おいて、レチクルが走査されるときに加速度が生じた場
合の、力の作用する様子を説明する説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram illustrating how a force acts when acceleration occurs when a reticle is scanned in a reticle holder according to a second embodiment of the present invention.
【図８】本発明の第３の実施の形態によるレチクルホル
ダの斜視図である。FIG. 8 is a perspective view of a reticle holder according to a third embodiment of the present invention.
【図９】第２の実施の形態にレチクルの傾きを検出する
モニタを取り付けた場合の説明図である。FIG. 9 is an explanatory diagram in the case where a monitor for detecting the inclination of a reticle is attached to the second embodiment.
【図１０】（Ａ）はレチクルを従来のレチクルホルダに
載置した場合の平面図であり、（Ｂ）は側面図である。FIG. 10A is a plan view when a reticle is placed on a conventional reticle holder, and FIG. 10B is a side view.
【図１１】従来のレチクルホルダに載せられたレチクル
が重力によりたわんでいる様子を示す側面図である。FIG. 11 is a side view showing a state in which a reticle placed on a conventional reticle holder is bent by gravity.
【図１２】従来のレチクルホルダの左右の接触面の高さ
に差がある場合を示す側面図である。FIG. 12 is a side view showing a case where there is a difference in height between left and right contact surfaces of a conventional reticle holder.
【図１３】従来のレチクルホルダの左右の接触面が傾い
ている場合を示す側面図である。FIG. 13 is a side view showing a case where left and right contact surfaces of a conventional reticle holder are inclined.
１ 投影露光装置 ３ 照明光学系 ４ レチクル ５ 投影光学系 ６ ステージ ７ ウエハ ８ レチクルホルダ ８ａ 棒状部材 ８ｂ 棒状部材 ９ 面取り部 １０ 傾斜面 １１ クランパ １２ 位置モニタ １８ レチクルホルダ １８ａ 棒状部材 １８ｂ 棒状部材 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Projection exposure apparatus 3 Illumination optical system 4 Reticle 5 Projection optical system 6 Stage 7 Wafer 8 Reticle holder 8a Bar-shaped member 8b Bar-shaped member 9 Chamfered portion 10 Inclined surface 11 Clamper 12 Position monitor 18 Reticle holder 18a Bar-shaped member 18b Rod-shaped member
Claims (7)
に投影する投影光学系と；前記投影光学系の光軸に直交
する面に対して傾斜した保持面を有し、該保持面で前記
レチクルのエッジ部分を保持するレチクルホルダとを備
えたことを特徴とする投影露光装置。A projection optical system for projecting a pattern formed on a reticle onto a substrate; and a holding surface inclined with respect to a plane orthogonal to an optical axis of the projection optical system. A projection exposure apparatus comprising a reticle holder for holding an edge portion of a reticle.
エッジ部分の面取り角度とほぼ等しく形成されているこ
とを特徴とする請求項１に記載の投影露光装置。2. The projection exposure apparatus according to claim 1, wherein an angle of inclination of said holding surface is formed substantially equal to a chamfer angle of an edge portion of said reticle.
対向する一対の保持面を有し、前記対向する保持面の間
隔が調整可能に構成されていることを特徴とする請求項
１または請求項２に記載の投影露光装置。3. The reticle holder according to claim 1, wherein the reticle holder has a pair of opposing holding surfaces as the holding surfaces, and the distance between the opposing holding surfaces is adjustable. 3. The projection exposure apparatus according to 2.
にもう一対備え、前記二対の保持面がお互いに前記投影
光学系の光軸回りに９０°回転した位置に配置されてい
ることを特徴とする請求項３に記載の投影露光装置。4. The reticle holder further comprises another pair of the holding surfaces, and the two pairs of holding surfaces are arranged at positions rotated by 90 ° about the optical axis of the projection optical system with respect to each other. The projection exposure apparatus according to claim 3, wherein:
し付け部材をさらに備えたことを特徴とする請求項１乃
至請求項４のいずれかに記載の投影露光装置。5. The projection exposure apparatus according to claim 1, further comprising a pressing member for pressing said reticle against said holding surface.
がら前記レチクルのパターン像を前記基板上に転写する
ように構成され、 前記レチクルホルダは前記レチクルの移動方向とほぼ直
行する方向に関して対向する一つの保持面を有すること
を特徴とする請求項１に記載の投影露光装置。6. A reticle holder is configured to transfer a pattern image of the reticle onto the substrate while synchronously moving the reticle and the substrate, wherein the reticle holder faces in a direction substantially perpendicular to a direction in which the reticle moves. The projection exposure apparatus according to claim 1, wherein the projection exposure apparatus has one holding surface.
レチクルを保持するための方法であって、 前記レチクルのパターン形成面に対して傾斜した保持面
で前記レチクルのエッジ部分を保持することを特徴とす
るレチクル保持方法。7. A method for holding a reticle on which a pattern to be transferred onto a substrate is formed, wherein an edge portion of the reticle is held on a holding surface inclined with respect to a pattern forming surface of the reticle. A reticle holding method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9312798A JPH11135412A (en) | 1997-10-28 | 1997-10-28 | Projection aligner and method for holding reticule |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9312798A JPH11135412A (en) | 1997-10-28 | 1997-10-28 | Projection aligner and method for holding reticule |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11135412A true JPH11135412A (en) | 1999-05-21 |
Family
ID=18033538
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9312798A Pending JPH11135412A (en) | 1997-10-28 | 1997-10-28 | Projection aligner and method for holding reticule |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11135412A (en) |
Cited By (5)
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-
1997
- 1997-10-28 JP JP9312798A patent/JPH11135412A/en active Pending
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