JP2531778B2 - 3,3´―スルホニルジプロピオン酸ジアリルエステル及びその製造方法 - Google Patents
3,3´―スルホニルジプロピオン酸ジアリルエステル及びその製造方法Info
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Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はスルホニル基を含有する重合性化合物に関
し、さらに詳しくは合成樹脂特に光学用樹脂素材のモノ
マーとして有用な化合物及びその製造方法に関する。
し、さらに詳しくは合成樹脂特に光学用樹脂素材のモノ
マーとして有用な化合物及びその製造方法に関する。
3,3′−チオジプロピオン酸(以下TDPAと略記する)
は種々の化学製品原料として、特にその高級アルコール
とのエステルは各種合成高分子物質の酸化防止剤として
多用されている。
は種々の化学製品原料として、特にその高級アルコール
とのエステルは各種合成高分子物質の酸化防止剤として
多用されている。
本発明者らは工業的有利に入手可能なTDPAの有効利用
として重合性誘導体の検討を行ない、その一つとしてア
リルアルコールと縮合反応させて、式(III)で表わさ
れる3,3′−チオジプロピオン酸ジアリルエステル(以
下DTPA−DAと略記する)を合成した。
として重合性誘導体の検討を行ない、その一つとしてア
リルアルコールと縮合反応させて、式(III)で表わさ
れる3,3′−チオジプロピオン酸ジアリルエステル(以
下DTPA−DAと略記する)を合成した。
SCH2CH2COOCH2−CH=CH2)2 (III) 然しながら該化合物は一般に重合性基として知られる
ビニル基を2個有しているにも拘らず通常の重合手段で
は重合反応を起さないことが確認された。この事に関し
ては文献にも記載されているところである〔ケミカル・
アブストラクツ,第59巻,11239e(1963)〕。
ビニル基を2個有しているにも拘らず通常の重合手段で
は重合反応を起さないことが確認された。この事に関し
ては文献にも記載されているところである〔ケミカル・
アブストラクツ,第59巻,11239e(1963)〕。
本発明者らはTDPA−DAに重合性を賦与するために種々
検討を加えた結果、TDPA−DAのチオ結合(−S−)をス
ルホニル結合(−SO2−)とすること、即ち式(I)で
表わされる3,3′−スルホニルジプロピオン酸ジアリル
エステル(以下SDPA−DAと略記する)とすることによ
り、良好な重合性が生ずることを見出した。
検討を加えた結果、TDPA−DAのチオ結合(−S−)をス
ルホニル結合(−SO2−)とすること、即ち式(I)で
表わされる3,3′−スルホニルジプロピオン酸ジアリル
エステル(以下SDPA−DAと略記する)とすることによ
り、良好な重合性が生ずることを見出した。
SO2CH2CH2COOCH2CH=CH2)2 (I) さらにSDPA−DAはTDPA−DAを酸化することによっては
得ることが出来ず、式(IV)で表わされる3,3′−スル
ホニルジプロピオン酸(以下SDPAと略記する)とアリル
アルコールとを縮合反応させることにより得られること
を見出し、本発明を完成した。SDPAはTDPAを酸化するこ
とにより得られる。
得ることが出来ず、式(IV)で表わされる3,3′−スル
ホニルジプロピオン酸(以下SDPAと略記する)とアリル
アルコールとを縮合反応させることにより得られること
を見出し、本発明を完成した。SDPAはTDPAを酸化するこ
とにより得られる。
本発明により強度,硬度,耐熱性,耐湿性,成形性等
各種化学的,物理的性質に優位な合成樹脂、特に光学用
素材の原料モノマーとして有用なSDPA−DA及びその製造
方法が提供される。
各種化学的,物理的性質に優位な合成樹脂、特に光学用
素材の原料モノマーとして有用なSDPA−DA及びその製造
方法が提供される。
すなわち、本発明は、式(I)で表わされるSDPA−D
A、 SO2CH2CH2COOCH2−CH=CH2)2 (I) 式(II)で表わされるSDPAとアリルアルコールとを酸
触媒の存在下加熱して縮合反応させることを特徴とする
SDPA−DAの製造方法、 SO2CH2CH2COOH)2 (II) TDPAを酸化してさらに、SDPAとなし、次いでこれとア
リルアルコールとを酸触媒の存在下、加熱して縮合反応
させることを特徴とする、SDPA−DAの製造方法である。
A、 SO2CH2CH2COOCH2−CH=CH2)2 (I) 式(II)で表わされるSDPAとアリルアルコールとを酸
触媒の存在下加熱して縮合反応させることを特徴とする
SDPA−DAの製造方法、 SO2CH2CH2COOH)2 (II) TDPAを酸化してさらに、SDPAとなし、次いでこれとア
リルアルコールとを酸触媒の存在下、加熱して縮合反応
させることを特徴とする、SDPA−DAの製造方法である。
本発明の詳細につき以下に説明する。
本発明の出発原料であるTDPAは各種有機工業薬品、特
に各種合成樹脂用安定化剤の原料として多用されてお
り、例えばアクリロニトリルと硫化水素とから3,3′−
チオジプロピオニトリルを得、これを加水分解すること
により得られる。
に各種合成樹脂用安定化剤の原料として多用されてお
り、例えばアクリロニトリルと硫化水素とから3,3′−
チオジプロピオニトリルを得、これを加水分解すること
により得られる。
チオ結合のスルホニル結合への酸化反応は、アリルエ
ステル化反応の前に行なわれるべきであり、アリルエス
テル化後に行なえば目的物を得ることは困難である。
ステル化反応の前に行なわれるべきであり、アリルエス
テル化後に行なえば目的物を得ることは困難である。
TDPAのSDPAへの酸化反応は、好ましくは不溶性有機溶
媒中で、酸化剤特に好ましくは過酸化水素により行なわ
れる。不活性有機溶媒としてはベンゼン,トルエン,塩
素化ベンゼン,塩素化アルカン,低級脂肪酸及びその低
級アルキルエステル等が用いられるが、好的には酢酸,
プロピオン酸等である。溶媒の使用量はTDPAの重量の0.
5〜10倍量、好ましくは1〜3倍量である。
媒中で、酸化剤特に好ましくは過酸化水素により行なわ
れる。不活性有機溶媒としてはベンゼン,トルエン,塩
素化ベンゼン,塩素化アルカン,低級脂肪酸及びその低
級アルキルエステル等が用いられるが、好的には酢酸,
プロピオン酸等である。溶媒の使用量はTDPAの重量の0.
5〜10倍量、好ましくは1〜3倍量である。
過酸化水素は取り扱いや作業環境、公害等の見地か
ら、又目的物の収率、品質等の点からも酸化剤として最
適であり、工業的に入手可能な30〜60%(重量)濃度の
過酸化水素水が使用される。使用量はTDPA1モル当り2
〜4モル比、好ましくは2.04〜3モル比相当量である。
さらに好適には、反応終点近くから反応混合物の小滴を
ヨウ化カリ澱粉紙で点検しながら過酸化水素の添加を調
整する。
ら、又目的物の収率、品質等の点からも酸化剤として最
適であり、工業的に入手可能な30〜60%(重量)濃度の
過酸化水素水が使用される。使用量はTDPA1モル当り2
〜4モル比、好ましくは2.04〜3モル比相当量である。
さらに好適には、反応終点近くから反応混合物の小滴を
ヨウ化カリ澱粉紙で点検しながら過酸化水素の添加を調
整する。
反応温度は室温〜120℃、好ましくは60〜100℃であ
り、反応時間は各種反応条件にもよるが、通常2〜10時
間である。触媒の使用は特に必要ない。
り、反応時間は各種反応条件にもよるが、通常2〜10時
間である。触媒の使用は特に必要ない。
次にSDPAとアリルアルコールとのエステル化反応は好
ましくは不活性有機溶媒の存在下、反応生成水を反応系
外に除去しながら行なうことが好ましい。このため溶媒
としては、水と共沸するものが選ばれる。ベンゼン,ト
ルエン,キシレン,塩素化ベンゼン,塩素化低級アルカ
ン等が例挙される。
ましくは不活性有機溶媒の存在下、反応生成水を反応系
外に除去しながら行なうことが好ましい。このため溶媒
としては、水と共沸するものが選ばれる。ベンゼン,ト
ルエン,キシレン,塩素化ベンゼン,塩素化低級アルカ
ン等が例挙される。
触媒として通常の酸性触媒を使用することが好まし
い。硫酸,りん酸,ルイス酸,ヘテロポリ酸,有機スル
ホン酸等が例挙される。
い。硫酸,りん酸,ルイス酸,ヘテロポリ酸,有機スル
ホン酸等が例挙される。
反応温度は溶媒の沸点(水との共沸下)で、生成水を
反応系外に除去しながら溶媒を反応系に戻す方式で行な
うのが好ましい。
反応系外に除去しながら溶媒を反応系に戻す方式で行な
うのが好ましい。
反応時間は各種反応条件により異なるが、通常5〜25
時間であり、水と共沸する溶媒を使用する場合は、水の
分離が認められなくなってからさらに2〜4時間熟成す
る。
時間であり、水と共沸する溶媒を使用する場合は、水の
分離が認められなくなってからさらに2〜4時間熟成す
る。
反応混合物は必要ならば脱色剤を添加して熱過し、
場合によっては水洗、濃縮操作を加え、冷却して晶析物
を別、洗浄して目的物を得る。通常はこのまま重合用
モノマーとして使用可能の品質のものが得られるが、必
要ならば精製する。
場合によっては水洗、濃縮操作を加え、冷却して晶析物
を別、洗浄して目的物を得る。通常はこのまま重合用
モノマーとして使用可能の品質のものが得られるが、必
要ならば精製する。
次に本発明の実施例について説明する。
実施例1 3,3′−スルホニルジプロピオン酸の製造 還流冷却器付の2容フラスコにTDPA178g(1モル)
と酢酸360gを仕込み、撹拌下80〜90℃に保ちながら滴加
漏斗から30%過酸化水素231g(2.04モル)を約4時間で
滴加した。滴加終了後同温度で2時間熟成したのち、よ
う化カリ澱粉紙で過酸化水素の残存を確認し、反応混合
物を20℃付近に冷却して析出物を別し、少量の酢酸で
洗浄後、乾燥して白色粉末状のSDPA200gを得た。収率95
%(対TDPA)。融点224℃(示差熱分析計による)。
と酢酸360gを仕込み、撹拌下80〜90℃に保ちながら滴加
漏斗から30%過酸化水素231g(2.04モル)を約4時間で
滴加した。滴加終了後同温度で2時間熟成したのち、よ
う化カリ澱粉紙で過酸化水素の残存を確認し、反応混合
物を20℃付近に冷却して析出物を別し、少量の酢酸で
洗浄後、乾燥して白色粉末状のSDPA200gを得た。収率95
%(対TDPA)。融点224℃(示差熱分析計による)。
このものの元素分析値は次の通りである。
C H S 実測値(%) 34.33 4.85 15.17 計算値(%) 34.28 4.80 15.25 (C6H10O6Sとして) このものの水酸化カリウム規定液による酸アルカリ滴
定による純度は100.2%である。
定による純度は100.2%である。
又このものの赤外線吸収スペクトル(KBr錠剤法)を
第1図に示す。
第1図に示す。
実施例2 3,3′−スルホニルジプロピオン酸ジアリルエステルの
製造 油水分離器付還流冷却器を付設した1容フラスコに
実施例1で得られた3,3′−スルホニルジプロピオン酸1
79g(0.85モル)、トルエン400g、p−トルエンスルホ
ン酸18g及びアリールアルコール128g(2.2モル)を仕込
み、撹拌下昇温して、還流下水を反応系外に除去しトル
エンを反応系に戻しながら反応させた。20時間後水の分
離が認められなくなり、さらに2時間熟成した後、50℃
付近に冷却し、50〜55℃で50mlの温水で1回、次いで50
mlの3%炭酸ナトリウム温水溶液で2回、さらに50mlの
温水で3回洗浄した。無水硫酸ナトリウムで脱水し、活
性白土を添加して過し、10℃以下に冷却し、析出物を
別し、冷トルエンで洗浄,乾燥して白色粉末222gを得
た。収率90%(対3,3′−スルホニルジプロピオン
酸)。融点58℃(示差熱分析計による)。
製造 油水分離器付還流冷却器を付設した1容フラスコに
実施例1で得られた3,3′−スルホニルジプロピオン酸1
79g(0.85モル)、トルエン400g、p−トルエンスルホ
ン酸18g及びアリールアルコール128g(2.2モル)を仕込
み、撹拌下昇温して、還流下水を反応系外に除去しトル
エンを反応系に戻しながら反応させた。20時間後水の分
離が認められなくなり、さらに2時間熟成した後、50℃
付近に冷却し、50〜55℃で50mlの温水で1回、次いで50
mlの3%炭酸ナトリウム温水溶液で2回、さらに50mlの
温水で3回洗浄した。無水硫酸ナトリウムで脱水し、活
性白土を添加して過し、10℃以下に冷却し、析出物を
別し、冷トルエンで洗浄,乾燥して白色粉末222gを得
た。収率90%(対3,3′−スルホニルジプロピオン
酸)。融点58℃(示差熱分析計による)。
このものの元素分析値は次の通りである。
C H S 測測値(%) 49.83 6.32 11.00 計算値(%) 49.64 6.25 11.04 (C12H18O6として) このものの赤外線吸収スペクトルを第2図に示す。
参考例1 3,3′−スルホニルジプロピオン酸179gの代りに3,3′
−チオジプロピオン酸151gを用いた以外は実施例2と同
様に操作して3,3′−チオジプロピオン酸ジアリールエ
ステルを得た。
−チオジプロピオン酸151gを用いた以外は実施例2と同
様に操作して3,3′−チオジプロピオン酸ジアリールエ
ステルを得た。
参考例2 A)実施例2で得られた3,3−スルホニルジプロピオン
酸ジアリルエステル2gとベンゾイルパーオキシド20mgと
を、35ml容試験管に採り、空間を窒素ガス置換して密栓
し、80℃の湯浴中で24時間保温した。
酸ジアリルエステル2gとベンゾイルパーオキシド20mgと
を、35ml容試験管に採り、空間を窒素ガス置換して密栓
し、80℃の湯浴中で24時間保温した。
B)実施例2で得られた3,3′−スルホニルジプロピオ
ン酸ジアリルエステル2.10g、スチレン1.04g及びベンゾ
イルパーオキシド34mgを試験管に採りA)と同様に操作
した。
ン酸ジアリルエステル2.10g、スチレン1.04g及びベンゾ
イルパーオキシド34mgを試験管に採りA)と同様に操作
した。
C)参考例1で得られた3,3′−チオジプロピオン酸ジ
アリルエステル2.0gとベンゾイルパーオキシド20mgを試
験管に採り、A)と同様に操作した。
アリルエステル2.0gとベンゾイルパーオキシド20mgを試
験管に採り、A)と同様に操作した。
その結果A)及びB)は無色透明な重合生成物が得ら
れたが、C)は重合反応が起ったことは認められなかっ
た。
れたが、C)は重合反応が起ったことは認められなかっ
た。
工業的に有利に得られる3,3′−チオジプロピオン酸
のジアリルエステルは通常の方法では重合させることが
出来ないが、3,3′−スルホニルジプロピオン酸ジアリ
ルエステルとすることにより重合反応を起させることが
可能となり、工業的有利に各種合成樹脂特に光学材料用
素材の原料モノマーとして有用性の高い化合物が得られ
る。
のジアリルエステルは通常の方法では重合させることが
出来ないが、3,3′−スルホニルジプロピオン酸ジアリ
ルエステルとすることにより重合反応を起させることが
可能となり、工業的有利に各種合成樹脂特に光学材料用
素材の原料モノマーとして有用性の高い化合物が得られ
る。
第1図は3,3′−スルホニルジプロピオン酸の、第2図
は3,3′−スルホニルジプロピオン酸ジアリルエステル
の、各赤外線吸収スペクトルであり、縦軸は透過率
(%)、横軸は波長(cm-1)を示す。
は3,3′−スルホニルジプロピオン酸ジアリルエステル
の、各赤外線吸収スペクトルであり、縦軸は透過率
(%)、横軸は波長(cm-1)を示す。
Claims (3)
- 【請求項1】式(I)で表わされる3,3′−スルホニル
ジプロピオン酸ジアリルエステル、 SO2CH2CH2COOCH2−CH=CH2)2 (I) - 【請求項2】式(II)で表わされる3,3′−スルホニル
ジプロピオン酸とアリルアルコールとを酸触媒の存在下
加熱して縮合反応させることを特徴とする3,3′−スル
ホニルジプロピオン酸ジアリルエステルの製造方法、 SO2CH2CH2COOH)2 (II) - 【請求項3】3,3′−チオジプロピオン酸を酸化して3,
3′−スルホニルジプロピオン酸となし、次いでこれと
アリルアルコールとを酸触媒の存在下、加熱して縮合反
応させることを特徴とする、3,3′−スルホニルジプロ
ピオン酸ジアリルエステルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1049947A JP2531778B2 (ja) | 1989-03-03 | 1989-03-03 | 3,3´―スルホニルジプロピオン酸ジアリルエステル及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1049947A JP2531778B2 (ja) | 1989-03-03 | 1989-03-03 | 3,3´―スルホニルジプロピオン酸ジアリルエステル及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02229150A JPH02229150A (ja) | 1990-09-11 |
| JP2531778B2 true JP2531778B2 (ja) | 1996-09-04 |
Family
ID=12845219
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1049947A Expired - Lifetime JP2531778B2 (ja) | 1989-03-03 | 1989-03-03 | 3,3´―スルホニルジプロピオン酸ジアリルエステル及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2531778B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5525547A (en) * | 1992-12-16 | 1996-06-11 | Hitachi, Ltd. | Method of fabricating a molded semiconductor device having blocking banks between leads |
-
1989
- 1989-03-03 JP JP1049947A patent/JP2531778B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02229150A (ja) | 1990-09-11 |
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