JP2527176B2 - Fringe scanning shearing interferometer - Google Patents
Fringe scanning shearing interferometerInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 (技術分野) 本発明は、縞走査シアリング干渉測定装置に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a fringe scanning shearing interferometer.
(従来技術) 縞走査シアリング干渉測定装置では測定光束即ち、測
定波面を有する光束が2光路に分割され、分割された光
束の一方が他方に対して横ずらし即ちシアされる。この
シアにおける横ずらし量即ちシア量は、測定精度に直接
に影響するので、これを高精度に知る必要がある。(Prior Art) In a fringe scanning shearing interferometer, a measurement light beam, that is, a light beam having a measurement wavefront is divided into two optical paths, and one of the divided light beams is offset or sheared with respect to the other. Since the lateral shift amount, that is, the shear amount in the shear directly affects the measurement accuracy, it is necessary to know this with high accuracy.
シアを行う方法として、従来、平行平面ガラスの表裏
面の反射を利用する方法、平行平面ガラスを斜めに透過
するときの、屈折による横ずれを利用する方法、コーナ
ーキューブプリズムを用いる方法等が知られている。し
かし、これらは、何れもシアされる光束が平面波であ
り、このためこれらを干渉させても干渉縞が生ぜず、こ
のため干渉を利用した高精度のシア量測定が出来ない。As a method of performing shear, conventionally, a method of utilizing reflection on the front and back surfaces of a plane-parallel glass, a method of utilizing lateral displacement due to refraction when obliquely transmitting through a plane-parallel glass, a method of using a corner cube prism, etc. are known. ing. However, in all of these, the light flux sheared is a plane wave, and therefore interference fringes do not occur even if they interfere with each other, and therefore high-precision shear amount measurement using interference cannot be performed.
(目的) 本発明は上述した事情に鑑みてなされたものであっ
て、その目的とするところは、シア量を高精度に知るこ
とが出来、従って高精度の測定が可能である新規な、縞
走査シアリング干渉測定装置の提供にある。(Object) The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and an object of the present invention is to provide a novel stripe pattern in which the amount of shear can be known with high accuracy and therefore high-accuracy measurement is possible. It is to provide a scanning shearing interferometer.
(構成) 以下、本発明を説明する。(Configuration) Hereinafter, the present invention will be described.
本発明は、縞走査シアリング干渉測定装置である。こ
の装置は、選択光学系と、1組のア・フォーカルレンズ
系と、ビームスプリッターと、2個の平面ミラーと、ピ
エゾ素子と、回転駆動手段とを有する。The present invention is a fringe scanning shearing interferometer. This device has a selection optical system, a set of a-focal lens system, a beam splitter, two plane mirrors, a piezo element, and a rotation driving means.
選択光学系は、測定波面と基準平面波面とを任意に選
択するための光学系である。The selection optical system is an optical system for arbitrarily selecting the measurement wavefront and the reference plane wavefront.
1組のア・フォーカルレンズ系は、測定波面が選択さ
れたとき、測定光束を受光面へリレーするためのレンズ
系である。The set of a-focal lens system is a lens system for relaying the measurement light beam to the light receiving surface when the measurement wavefront is selected.
ビームスプリッターは、このア・フォーカルレンズ系
のレンズに挟まれた光路内で、光束を2分割する。The beam splitter splits the light beam into two in the optical path sandwiched by the lenses of the a-focal lens system.
2個の平面ミラーは、上記2分割された光束をそれぞ
れ反射し、上記ビームスプリッターを介して再度合流さ
せる。The two plane mirrors respectively reflect the two divided light beams and combine them again via the beam splitter.
ピエゾ素子は、平面ミラーの一方を変位させることに
より、フリンジスキャンを行う。The piezo element performs fringe scanning by displacing one of the plane mirrors.
回転駆動手段は、他方の平面ミラーを微小回転させ
る。この微小回転の回転軸は、他方の平面ミラーの鏡面
を通り、この鏡面への入射光軸に直交する。The rotation driving means slightly rotates the other plane mirror. The rotation axis of this minute rotation passes through the mirror surface of the other plane mirror and is orthogonal to the incident optical axis to this mirror surface.
1組のア・フォーカルレンズ系の集光点位置は、上記
2個の平面ミラーの鏡面に一致する。従って、上記回転
軸は他方の平面ミラーにおける集光点位置を通る。The focal point positions of the set of a focal lens systems coincide with the mirror surfaces of the two plane mirrors. Therefore, the rotation axis passes through the focal point position on the other plane mirror.
(実施例) 以下、図面を参照しながら具体的に説明する。(Example) Hereinafter, a specific description will be given with reference to the drawings.
第1図は、本発明の1実施例を要部のみ説明図的に略
示している。この実施例は物体の表面形状を測定するた
めの装置である。図中、符号10はレーザー光源を示す。
レーザー光源10から放射された光束は、ビームエキスパ
ンダー12により、ビーム径を拡大され、ミラー14により
反射されたのち、ビームスプリッター16に入射する。レ
ーザー光源10、ビームエキスパンダー12、ミラー14は、
測定装置の光源光学系を構成している。FIG. 1 is an explanatory diagram schematically showing only a main part of one embodiment of the present invention. This embodiment is an apparatus for measuring the surface shape of an object. In the figure, reference numeral 10 indicates a laser light source.
The light beam emitted from the laser light source 10 has its beam diameter expanded by the beam expander 12, reflected by the mirror 14, and then enters the beam splitter 16. Laser light source 10, beam expander 12, mirror 14,
It constitutes the light source optical system of the measuring device.
ビームスプリッター16に入射した光束は2光束に分離
され、一方は、被検体Oすなわち形状を測定すべき被検
面を有する物体の上記被検面に入射し、他方は、ミラー
Nの基準面に入射する。基準面は高精度に仕上げられた
平面である。被検面、基準面からの反射光はビームスプ
リッター16を透過し、もしくはビームスプリッター16に
反射されて、ビームスプリッター16から射出しミラー18
に反射されて測定系へと入射する。ビームスプリッター
16と被検体O、ミラーNの間には、シャッターS1,S2が
設けられており、これらを選択的に開閉することによ
り、上記測定系へ入射する反射光を選択できる。すなわ
ち、ビームスプリッター16,ミラーN,18,シャッターS1,S
2は、この実施例において、選択光学系を構成し、この
選択光学系により、被検面からの反射光として基準面か
らの反射光のうちの任意の一方を選択して測定系へ入射
させることができる。被検面からの反射光は測定光束で
あって測定波面を有する。基準面からの反射光はその波
面が基準平面波面である。The light beam that has entered the beam splitter 16 is split into two light beams, one of which is incident on the above-described test surface of the object O, that is, an object having a test surface whose shape is to be measured, and the other is on the reference surface of the mirror N. Incident. The reference plane is a plane finished with high precision. Light reflected from the surface to be inspected or the reference surface passes through the beam splitter 16 or is reflected by the beam splitter 16 and is emitted from the beam splitter 16 and is reflected by the mirror 18
Is reflected by and enters the measurement system. Beam splitter
Shutters S1 and S2 are provided between 16 and the object O and the mirror N, and by selectively opening and closing these, reflected light entering the measurement system can be selected. That is, beam splitter 16, mirrors N, 18, shutters S1, S
In the present embodiment, 2 constitutes a selection optical system, and by this selection optical system, any one of the reflected light from the reference surface is selected as the reflected light from the surface to be inspected and made incident on the measurement system. be able to. The reflected light from the surface to be inspected is a measurement light beam and has a measurement wavefront. The wavefront of the reflected light from the reference surface is the reference plane wavefront.
さて、測定系は、1組のア・フォーカルレンズ系を構
成するレンズ20A,20Bと、ビームスプリッター22と、平
面ミラー24,28と、ピエゾ素子26と、回転駆動手段30
と、エリアセンサー32とを有している。Now, the measurement system includes lenses 20A and 20B, a beam splitter 22, plane mirrors 24 and 28, a piezo element 26, and a rotation driving means 30 that constitute one set of a focal lens system.
And an area sensor 32.
ア・フォーカルレンズ系を構成するレンズ20A,20Bの
前者の像側焦点と、後者の物体側焦点とは互いに合致し
て集光点となっている。そしてこのア・フォーカルレン
ズ系の集光点は、平面ミラー24,28の鏡面に一致してい
る。このア・フォーカルレンズ系により、基準面もしく
は被検面がエリアセンサー32の受光面上に結像する。The former image-side focal point and the latter object-side focal point of the lenses 20A and 20B constituting the a-focal lens system coincide with each other to form a focal point. The focal point of this a-focal lens system coincides with the mirror surfaces of the plane mirrors 24 and 28. With this afocal lens system, the reference surface or the surface to be inspected forms an image on the light receiving surface of the area sensor 32.
ビームスプリッター22は、ア・フォーカルレンズ系を
構成するレンズ20A,20Bに挟まれた光路内で光束を2分
割し、2分割された光束の一方は平面ミラー24に、他方
は平面ミラー28に入射する。各平面ミラー24,28により
折り返された光束はビームスプリッター22を介して再び
合流し、レンズ20Bを介してエリアセンサー32に入射す
る。The beam splitter 22 splits the light beam into two in the optical path sandwiched by the lenses 20A and 20B forming the a-focal lens system, and one of the two split light beams enters the plane mirror 24 and the other enters the plane mirror 28. To do. The light fluxes returned by the plane mirrors 24 and 28 merge again via the beam splitter 22 and enter the area sensor 32 via the lens 20B.
また、ピエゾ素子26は平面ミラー24を矢印方向に変位
させて、フリンジスキャンを行う。Further, the piezo element 26 displaces the plane mirror 24 in the direction of the arrow to perform fringe scanning.
回転駆動手段30は、平面ミラー28を入射光軸に直交す
る軸の回りに微小回転させうるようになっていう。この
回転軸は平面ミラー28の鏡面に合致した前述のア・フォ
ーカルレンズ系の集光点を通り、この実施例では図面に
直交する方向となっている。The rotation driving means 30 is said to be capable of finely rotating the plane mirror 28 around an axis orthogonal to the incident optical axis. This axis of rotation passes through the converging point of the afocal lens system described above, which coincides with the mirror surface of the plane mirror 28, and is in the direction orthogonal to the drawing in this embodiment.
測定装置は、これらのほかに、エリアセンサー32の出
力にたいする演算や測定のプロセスを制御する制御演算
手段としてコンピュターシステムを有する。In addition to these, the measuring device has a computer system as a control calculation means for controlling the process of calculation and measurement on the output of the area sensor 32.
以下に、第1図の装置による測定に付き説明する。ま
ず、シア量Sにつき説明する。シャッターS1を閉じ、シ
ャッターS2を開いて、レーザー光源10を発光させると、
前述の如く基準平面波面が選択される。このときレンズ
20A,20Bを光路外へ退避させておくとエリアセンサー32
に入射する光束は平面波である。平面ミラー28の入射光
軸に対する傾き角がθ/2であると、第2図(I)に示す
ように、平面ミラー28により反射された光束L1は、平面
ミラー24に反射された光束L0に対し、角θだけ傾いてエ
リアセンサー32に入射する。従って、光束L0の波面に対
して、光束L1の波面は角θだけ傾く。このため受光面上
では傾き角θに対応する干渉縞が生ずるので、この干渉
縞パターンをフリンジスキャンして縞走査測定を行うこ
とにより、角θを極めて高精度に測定することができ
る。The measurement by the apparatus shown in FIG. 1 will be described below. First, the shear amount S will be described. When the shutter S1 is closed, the shutter S2 is opened, and the laser light source 10 emits light,
The reference plane wavefront is selected as described above. At this time the lens
Area sensor 32 when 20A and 20B are retracted out of the optical path
The light beam incident on is a plane wave. When the inclination angle of the plane mirror 28 with respect to the incident optical axis is θ / 2, the light beam L1 reflected by the plane mirror 28 becomes a light beam L0 reflected by the plane mirror 24, as shown in FIG. 2 (I). On the other hand, the light is incident on the area sensor 32 at an angle of θ. Therefore, the wavefront of the light beam L1 is inclined by the angle θ with respect to the wavefront of the light beam L0. Therefore, an interference fringe corresponding to the tilt angle θ is generated on the light receiving surface, and thus the angle θ can be measured with extremely high accuracy by performing fringe scanning on the interference fringe pattern and performing fringe scanning measurement.
この状態で、レンズ20A,20Bを光路中に配備すると、
平面ミラー24,28に反射された光束L01,L10は、レンズ20
Bを透過した後たがいに平行となり、量光束L01,L10のシ
ア量Sはレンズ20Bの焦点距離をfとしてf tan θで与
えられる。In this state, deploying the lenses 20A and 20B in the optical path,
Light fluxes L01 and L10 reflected by the plane mirrors 24 and 28 are reflected by the lens 20.
After passing through B, the light beams become parallel to each other, and the shear amount S of the quantity light beams L01, L10 is given by f tan θ with f being the focal length of the lens 20B.
平面ミラー24,28の間の相対的な角度が90度+θ/2ま
たは90度−θ/2に固定されていれば、シア量は前述の如
くf tan θであって一定であるが、上記相対的角度に要
求される精度は秒オーダー以下であり、実際には上記角
度が支持体系の熱変形等で変化するので、上記相対的角
度を定数として扱うことはできない。しかし、本発明で
は上述の如きシア量測定を、形状測定に先立って行うこ
とにより、各測定ごとに極めて正確なシア量を知ること
ができる。角θの測定は上述の如くフリンジスキャンに
よる縞走査測定で行うが、具体的には、例えば以下のよ
うにする。即ち、縞走査干渉測定方式により、光束L1の
波面の解析的な方程式を最小2乗法で決定して光束L0の
波面との間の傾き角θを決定するのである。なおフリン
ジスキャンの際の平面ミラー24の変位量は、レーザー光
束の波長程度の微小量であるので、平面ミラー24の鏡面
と集光点との間の実質的な位置ずれは生じない。このよ
うにして、シア量がもとまったら、次には被検体Oの表
面形状の測定を行う。即ち、第1図でシャッターS2を閉
じて、シャッターS1を開くことによって、被検面からの
反射光を選択すると、選択光学系により測定波面が選択
されたことになって、エリアセンサー32には測定波面を
有する2光束がシア量Sだけ互いに横ずれして入射し、
干渉縞を生成する。そこでフリンジスキャンを行って両
光束の位置差ΔWを測定する。そしてこのΔWに対し
て、 W(X)=(1/S)∫ΔWdX(dXはサンプルピッチ)な
る演算を行うことにより、X方向即ち、第1図で上下方
向の測定波面の形状が得られる。If the relative angle between the plane mirrors 24 and 28 is fixed at 90 ° + θ / 2 or 90 ° −θ / 2, the shear amount is f tan θ and is constant as described above. The accuracy required for the relative angle is on the order of seconds or less, and in practice, the above-mentioned angle changes due to thermal deformation of the support system, so that the above-mentioned relative angle cannot be treated as a constant. However, in the present invention, by performing the above-described shear amount measurement prior to the shape measurement, it is possible to know the extremely accurate shear amount for each measurement. The angle θ is measured by the fringe scanning measurement by the fringe scanning as described above, and specifically, for example, the following is performed. That is, by the fringe scanning interferometry method, the analytical equation of the wavefront of the light beam L1 is determined by the method of least squares to determine the tilt angle θ with the wavefront of the light beam L0. The amount of displacement of the plane mirror 24 during the fringe scan is a minute amount of the wavelength of the laser beam, so that there is no substantial displacement between the mirror surface of the plane mirror 24 and the focal point. After the shear amount is obtained in this way, the surface shape of the object O is next measured. That is, when the reflected light from the surface to be inspected is selected by closing the shutter S2 and opening the shutter S1 in FIG. 1, it means that the measurement wavefront is selected by the selection optical system and the area sensor 32 Two light fluxes having a measurement wavefront are laterally displaced from each other by a shear amount S, and
Generate interference fringes. Therefore, fringe scanning is performed to measure the positional difference ΔW between the two light beams. Then, the calculation of W (X) = (1 / S) ∫ΔWdX (dX is the sample pitch) is performed on this ΔW to obtain the shape of the measured wavefront in the X direction, that is, the vertical direction in FIG. .
第1図で図面に直交するY方向の形状は被験面を光軸
に直交する面内で90度回転させるか、あるいは平面ミラ
ー28の回転軸を入射光軸のまわりに90度回転させて上と
同様のプロセスを実行すれば得られ、これら各方向の形
状の合成により、波面形状として被験面の形状を知るこ
とができる。上に説明した実施例ではシア量Sを測定す
る際に、ア・フォーカルレンズ系を光路外へ退避させる
必要があった。第3図の実施例はア・フォーカルレンズ
系を光路上から退避させることなくシア量を測定できる
ようになっている。即ち、この実施例では、選択光学系
がビームスプリッター13,15,16,17,ミラー18,シャッタ
ーS3,S4,S5によって構成されている。また、この実施例
では、ビームエキスパンダー12により、光束径を拡大さ
れて射出する平行光束自体が基準平面波面を有する。The shape in the Y direction perpendicular to the drawing in FIG. 1 is obtained by rotating the test surface by 90 degrees in a plane orthogonal to the optical axis or by rotating the plane mirror 28 by 90 degrees around the incident optical axis. This can be obtained by executing the same process as the above, and the shape of the test surface can be known as the wavefront shape by combining the shapes in these respective directions. In the embodiment described above, when measuring the shear amount S, it was necessary to retract the a-focal lens system from the optical path. In the embodiment of FIG. 3, the shear amount can be measured without retracting the a-focal lens system from the optical path. That is, in this embodiment, the selection optical system is composed of the beam splitters 13, 15, 16, 17, the mirror 18, and the shutters S3, S4, S5. Further, in this embodiment, the parallel light flux itself, which is expanded by the beam expander 12 and has a diameter expanded, has a reference plane wavefront.
シア量を測定するには、シャッターS3,S5を閉じ、シ
ャッターS4を開いてレーザー光源10を発光させればよ
い。このとき、基準平面波面を有する光束は、ビームス
プリッター13,15,22を経て、平面ミラー24,28に入射し
平面ミラー24,28に反射されたのちは、ビームスプリッ
ター22を介して再度合流し、ビームスプリッター15,13,
17を介してエリアセンサー32に入射する。To measure the amount of shear, the shutters S3 and S5 are closed, the shutter S4 is opened, and the laser light source 10 is made to emit light. At this time, the light flux having the reference plane wavefront enters the plane mirrors 24, 28 through the beam splitters 13, 15, 22 and is reflected by the plane mirrors 24, 28, and then joins again via the beam splitter 22. , Beam splitter 15,13,
It is incident on the area sensor 32 via 17.
従って、このとき光束はア・フォーカルレンズ系を通
らないので、波面の平面性を保ったまま、エリアセンサ
ー32に到達するので、先に説明した実施例の場合と同様
にしてシア量Sを正確に知ることができる。シア量を測
定した後、シャッターS4を閉じ、シャッターS3,S5を開
けば測定波面が選択され、このときの測定光路の構成は
第1図の実施例と同様になる。従って、第1図の実施例
と同様にして、測定を実行できる。Therefore, at this time, since the light flux does not pass through the afocal lens system, it reaches the area sensor 32 while maintaining the flatness of the wavefront. Therefore, the shear amount S can be accurately determined in the same manner as in the above-described embodiment. You can know After measuring the amount of shear, the shutter S4 is closed and the shutters S3 and S5 are opened to select the measurement wavefront, and the configuration of the measurement optical path at this time is the same as that of the embodiment of FIG. Therefore, the measurement can be performed in the same manner as the embodiment of FIG.
(効果) 以上、本発明によれば、新規な縞走査シアリング干渉
測定装置を提供できる。この装置は上述の如き構成を有
し、シア量を正確に知りうるので、高精度の測定を実現
できる。また、平面ミラーの微小回転の調整によりシア
量を変化させ得るので測定波面形状のうねり量に応じて
シア量を可変でき、しかもシア量の調整は平面ミラーの
回転のみで行い得るから、極めて容易である。なお、回
転駆動手段は公知の種々のものが利用できるが、回転角
が微小であるので、ピエゾ素子を利用したものが、好適
である。(Effect) As described above, according to the present invention, it is possible to provide a novel fringe scanning shearing interferometer. Since this device has the above-mentioned configuration and the shear amount can be accurately known, highly accurate measurement can be realized. In addition, since the amount of shear can be changed by adjusting the minute rotation of the plane mirror, the amount of shear can be changed according to the amount of waviness of the measured wavefront shape, and since the amount of shear can be adjusted only by rotating the plane mirror, it is extremely easy. Is. Various known rotary drive means can be used. However, since the rotation angle is very small, it is preferable to use a piezo element.
第1図は、本発明の1実施例を要部のみしめす図、第2
図は、上記実施例に即して本発明の作用を説明するため
の図、第3図は、本発明の別実施例を説明するための図
である。 O……被験体、N……基準面を持つミラー、18A,18B…
…シャッター、20A,20B……ア・フォーカルレンズ系を
構成するレンズ、22……ビームスプリッター、24,28…
…平面ミラー、26……ピエゾ素子、30……回転駆動手
段、32……エリアセンサーFIG. 1 is a diagram showing an essential part of one embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 3 is a diagram for explaining the operation of the present invention based on the above embodiment, and FIG. 3 is a diagram for explaining another embodiment of the present invention. O ... Subject, N ... Mirror with reference plane, 18A, 18B ...
… Shutters, 20A, 20B …… A focal lens system lenses, 22 …… Beam splitters, 24,28…
… Plane mirror, 26 …… Piezo element, 30 …… Rotation drive means, 32 …… Area sensor
Claims (1)
できる選択光学系と、 測定波面が選択されたとき測定光束を受光面上へリレー
する1組のア・フォーカルレンズ系と、 このア・フォーカルレンズ系のレンズに挟まれた光路内
で、光束を2分割するビームスプリッターと、 上記2分割された2光束をそれぞれ反射し、上記ビーム
スプリッターを介して再度合流させる2個の平面ミラー
と、 これら2個の平面ミラーの一方を変位させてフリンジス
キャンを行うピエゾ素子と、 他方の平面ミラーを、その鏡面を通り入射光軸に直交す
る軸のまわりに微小回転させる回転駆動手段と、を有
し、 上記ア・フォーカルレンズ系の集光点位置が、上記2個
の平面ミラーの鏡面位置と一致していることを特徴とす
る、縞走査シアリング干渉測定装置。1. A selection optical system capable of arbitrarily selecting a measurement wavefront and a reference plane wavefront, and a set of a focal lens system for relaying a measurement light beam onto a light receiving surface when the measurement wavefront is selected, In the optical path sandwiched by the afocal lens system, a beam splitter that splits the light beam into two and two plane mirrors that respectively reflect the two split light beams and join them again via the beam splitter A piezo element for fringe scanning by displacing one of these two plane mirrors, and a rotation driving means for finely rotating the other plane mirror about an axis passing through the mirror surface and orthogonal to the incident optical axis, And a converging point position of the a-focal lens system coincides with a mirror surface position of the two plane mirrors.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62051656A JP2527176B2 (en) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | Fringe scanning shearing interferometer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62051656A JP2527176B2 (en) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | Fringe scanning shearing interferometer |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63218802A JPS63218802A (en) | 1988-09-12 |
JP2527176B2 true JP2527176B2 (en) | 1996-08-21 |
Family
ID=12892918
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62051656A Expired - Lifetime JP2527176B2 (en) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | Fringe scanning shearing interferometer |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2527176B2 (en) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60196612A (en) * | 1984-03-19 | 1985-10-05 | Ricoh Co Ltd | Surface shape measuring apparatus |
JPS60253945A (en) * | 1984-05-31 | 1985-12-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Shape measuring instrument |
JPS61272607A (en) * | 1985-05-29 | 1986-12-02 | Kyocera Corp | Shearing interferometer |
-
1987
- 1987-03-06 JP JP62051656A patent/JP2527176B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JPS63218802A (en) | 1988-09-12 |
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