JP2526190B2 - サファイヤ人工結晶合成装置 - Google Patents

サファイヤ人工結晶合成装置

Info

Publication number
JP2526190B2
JP2526190B2 JP3355814A JP35581491A JP2526190B2 JP 2526190 B2 JP2526190 B2 JP 2526190B2 JP 3355814 A JP3355814 A JP 3355814A JP 35581491 A JP35581491 A JP 35581491A JP 2526190 B2 JP2526190 B2 JP 2526190B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
artificial crystal
sapphire
base material
crystal
plasma
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP3355814A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH05170596A (ja
Inventor
邦夫 四方
信幸 山地
秀久 橘
順 岡田
藤原 エミリオ
裕康 村田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sansha Electric Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Sansha Electric Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sansha Electric Manufacturing Co Ltd filed Critical Sansha Electric Manufacturing Co Ltd
Priority to JP3355814A priority Critical patent/JP2526190B2/ja
Publication of JPH05170596A publication Critical patent/JPH05170596A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2526190B2 publication Critical patent/JP2526190B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明はサファイヤ人工結晶合
成装置に係り、高温基材上に溶融アルミナ粉体を溶射し
て単結晶を得るに用いるインダクションプラズマ溶射装
置と径の大きい単結晶を得るために高温基材下部に連設
せしめる回転機構、昇降機構、偏角機構とよりなるサフ
ァイヤ人工結晶合成装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、サファイヤ人工結晶の合成法とし
ては、ベルヌーイ法、結晶引上げ法、FZ(Float
ing‐Zone Melt)法などが知られており、
なかでもアルミナを電気炉内で溶融し、溶融したアルミ
ナの中に種結晶の一端を接触させて晶出させ、回転しな
がら徐々に引上げる結晶引上げ法が多く実施されてい
る。
【0003】しかしながら、上記した合成法ではアルミ
ナの溶融に数時間を要し、引上げ、即ち育成速度が0.
5〜1.5mm/hrを要するなど、その合成に長時間
を必要とすることが難点とされている。
【0004】上記に鑑みて、本発明者らはさきにインダ
クションプラズマ溶射装置のプラズマ炎内にアルミナを
投入し、溶融して該プラズマ炎の下部に配置した高温基
材上に溶融アルミナを溶射したのち、徐冷するサファイ
ヤ人工結晶合成法を提案した。さらにその合成に最適な
インダクションプラズマトーチも提案した。
【0005】即ち、窒化ほう素焼結体よりなり、内部に
多段の同心円状挿着孔を形成した円筒状支持体に、窒化
ほう素焼結体製のキャリアガス導入管、中間管および外
側管を順次嵌合螺着させるとともに、前記支持体内の中
間管と外側管の先端に該管に対して接線方向にガスを導
入するガス供給管を嵌合螺着した構造のインダクション
プラズマトーチである。
【0006】このトーチの構成を図4の縦断面図を参照
して説明すると、図において1は窒化ほう素焼結体を加
工して得た円筒形状の支持体である。この支持体1の内
部には1a〜1eの多段の挿着孔が支持体1を旋盤等に
て孔加工、ネジ切りを繰返すことにより同心円状に設け
られており、これらの挿着孔にキャリアガス導入管4、
中間管3、外側管2が嵌合螺着により固定されている。
【0007】この円筒状支持体1に対する挿着孔の形成
は、まず、キャリアガス導入管4を貫通挿着するための
挿着孔1aを支持体1に貫通形成し、次に中間管3の挿
着孔1bを支持体1のほぼ中間の位置に挿着孔1aと同
心形状に形成し、その後外側管2の挿着孔1cを挿着す
る。次いで、中間管3支持用挿着孔1bの上方に中間管
3の内径と同じか又は若干小径の挿着孔1dを、また外
側管2支持用挿着孔1cの上方に外側管2の内径と同じ
か又は若干小径の挿着孔1eを形成する。
【0008】このようにして内部に同心円状の1a〜1
eを形成した窒化ほう素焼結体製の円筒状支持体1に、
同じく窒化ほう素焼結体を用いて夫々円筒形状に作った
外側管2、中間管3、キャリアガス導入管4およびプラ
ズマガス供給管5、シースガス供給管6を取り付けるに
は、まず挿着孔1aに下方からキャリアガス導入管4を
貫通させ、ネジ9で螺着固定する。その後同様にして挿
着孔1bに中間管3を、挿着孔1cに外側管2を順次螺
着し、次いでプラズマガス供給管5、シースガス供給管
6を夫々挿着孔1d、1eに接線方向に設けたネジ部1
f、1gに挿着し螺着する。なお、外側管2の内周面と
中間管3の外周面との間は供給するガスの速度を増して
冷却効率を高めるため約1mmの小間隙となっている。
【0009】このようにして窒化ほう素焼結体を用いて
同心円状に構成したインダクションプラズマトーチを用
い、プラズマガス供給管5からキャリアガス導入管4と
中間管3との間にアルゴンガスなどのプラズマガスを5
リッター/分で供給し、シースガス供給管6から中間管
3と外側管2との間にアルゴンガスなどのシースガスを
20リッター/分で供給し、キャリアガス導入管4から
5%の水素ガスを含んだアルゴンガスを2リッター/分
で供給し、このキャリアガスとともに粒径5〜100μ
m(好ましくは30μm)のアルミナ粉体を1〜2g/
分供給する状態で誘導コイル11に5KW、13.56
MHzの高周波を印加すると、左右にバランスのとれた
正常なプラズマ炎12が発生してアルミナ粉体が溶融さ
れ、プラズマ炎12の下方に配置したタングステン、タ
ンタル、モリブデンなどの高温基材10上にキャリアガ
スの力で溶射されてサファイヤ13の単結晶が生成され
る。このサファイヤの生成は0.5〜2.0mm/分の
速度で行なわれ、この時同じ速度で高温基材10を降下
させて行く。
【0010】かくして生成したサファイヤの単結晶は、
その後1〜3℃/分で徐冷して直径約8mm、長さ約6
0mmのサファイヤの人工結晶を得た。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
サファイヤ人工結晶の合成法における問題点を解決する
方法として本発明者らがさきに提案した上記した合成法
においても、得られるサファイヤ人工結晶の大きさは、
溶射装置の外側管2の内径が30mmのものでは直径1
0mmのものが限度であって、それ以上の大きさの人工
結晶を得ることは困難であった。また溶融アルミナの溶
射によって人工結晶が生成されるとき、外側に溶射され
た溶融アルミナの一部が種となって成長し、生成したサ
ファイヤ人工結晶13の周囲に図4に示すように角のよ
うな突起14が生じ、完全に柱状な人工結晶を得ること
ができなかった。また径の大きい柱状の人工結晶を得る
には大きな溶射装置を用いなければならないという問題
があった。
【0012】
【課題を解決するための手段】この発明は従来のサファ
イヤ人工結晶の合成における上記した問題点を解消する
べく検討の結果、得られたものであって、インダクショ
ンプラズマ溶射装置とその下方に配置した被溶射物であ
る高温基材の下部に回転機構と昇降機構あるいはさらに
回転機構の上部に偏角機構を連設したサファイヤ人工結
晶合成装置を提供するものである。
【0013】
【作用】この発明は、上記のようにインダクションプラ
ズマ溶射装置とその下方に配置した人工結晶を生成する
高温基材の下部に回転機構と昇降機構あるいはさらに回
転機構の上方に偏角機構を配設したサファイヤ人工結晶
合成装置を用いて、溶融アルミナの溶射時に高温基材を
回転、昇降あるいは偏角回転させることによって、外周
に突起のない完全に柱状のしかも径の大きい人工結晶を
得ることができるのである。
【0014】
【実施例】以下、この発明を図1〜3により詳細に説明
する。なお、図中1〜12の符号で示す部位は従来法の
図4におけるそれらと同部位を示し、またその機能も同
じであるので説明は省略する。
【0015】実施例1 図1は請求項1に係る第1の発明を示すものであり、イ
ンダクションプラズマ溶射装置Aと回転機構Bと昇降機
構Cからなる構成である。即ち、高温基材10の下方に
ロッド16が取り付けられている。そして該ロッド16
の中途にギヤ17が設けられている。またギヤ17には
回転用モータ18が連結されていて、該モータ18の駆
動によりギヤ17が作動し、ロッド16の回転に伴って
高温基材10が回転するようになっている。以上が回転
機構Bである。
【0016】次に昇降機構Cについてのべると、19は
ロッド16の下部に該ロッド16を回転支持するように
設けられている第2ロッドであり、この第2ロッド19
には歯(図示省略)が設けられている。21は第2ロッ
ド19を昇降させる昇降用モータであって、第2ロッド
19に設けた歯と噛合するギヤ20に接続されており、
該昇降モータ21の駆動によって第2ロッド19が昇降
し、それに応じて高温基材10が昇降するようになって
いる。
【0017】このような構成からなるこの発明のサファ
イヤ人工結晶合成装置を用いてサファイヤ人工結晶を合
成するには、まずインダクションプラズマ溶射装置Aの
プラズマガス供給管5からキャリアガス導入管4と中間
管3との間にプラズマガスとしてアルゴンガスを5リッ
ター/分で供給し、シースガス供給管6から中間管3と
外側管2との間にアルゴンガス(シースガス)を20リ
ッター/分で供給し、またキャリアガス導入管4から5
%の水素ガスを含むアルゴンガスを2リッター/分で供
給するとともに、このキャリアガスと一緒に粒径5〜1
00μm、好ましくは30μmのアルミナ粉体を1〜2
g/分供給する状態で誘導コイル11に5KW、13.
56MHzの高周波を印加すると、左右によくバランス
のとれた正常なプラズマ炎12が発生してアルミナ粉体
が溶融される。
【0018】一方、この溶融アルミナが溶射されるプラ
ズマ炎12下方に配置した種結晶をセットした高温基材
10は、上記プラズマガス、シースガス、キャリアガ
ス、アルミナ粉体の溶射装置A内への供給と同時に回転
用モータ18の駆動によりギヤ17を作動させてロッド
16を介して回転させておく。
【0019】これにより、プラズマ炎12で溶融された
アルミナが回転している高温基材10の種結晶の上にキ
ャリアガスの力で溶射されてサファイヤ13の単結晶が
0.3〜2.0mm/分の速度で生成される。この時、
溶融アルミナの高温基材上への溶射の進行とともに昇降
機構Cの昇降用モータ21を駆動させ、ギヤ20を介し
て第2ロッド19により高温基材10を回転させたまま
単結晶生成速度の0.3〜2.0mm/分で降下させて
いき、プラズマ炎12から遠ざけていく。
【0020】この高温基材10の回転と降下によって、
従来法においては溶射時に突起が形成される種となって
いた外側に溶射される部分が基材上に形成される単結晶
から外される結果、生成した単結晶の1〜3℃/分での
徐冷後には周囲に全く突起のみられない直径約12m
m、長さ約60mmの柱状のサファイヤ人工結晶が得ら
れた。
【0021】実施例2 図2は請求項2に係る第2の発明を示すものであり、図
1の第1発明の回転機構Bの上部に偏角機構Dを設けた
ものである。即ち、高温基材22の中央部下方に形成し
た凹部24とロッド16との間にユニバーサルジョイン
ト23を偏角機構Dとして係着したものであり、このユ
ニバーサルジョイント23はその下方が回転機構Bのロ
ッド16に連結されていて、回転用モータ18の駆動に
よりロッド16が回転すると、高温基材22をその垂直
軸がキャリアガス導入管4に対して偏角をもって揺動回
転させることができるため、偏角機構Dを有しない実施
例1の装置において柱状になる外側の溶融された粉体も
人工結晶に供することができ、より径の大きい単結晶を
得ることができる。
【0022】また、図2の装置で人工結晶を生成する場
合、高温基材22上に予めセットする種結晶25を図3
(a)または(b)のように方位を合わせて配置すれ
ば、角のない柱状の人工結晶をより確実に生成すること
ができる。なお、人工結晶生成時における昇降機構Dの
操作は実施例1の場合と同様である。
【0023】この発明の装置を用い、粉体として酸化鉄
を用いれば高温基材上にフェライト人工結晶を生成する
ことができる。
【0024】
【発明の効果】以上のように、この発明はアルミナ粉体
を溶融、溶射するインダクションプラズマ溶射装置と、
被溶射体である高温基材の下方に該基材に連接して回転
機構、昇降機構あるいはさらに偏角機構を備えたサファ
イヤ人工結晶合成装置であって、高温基材上の種結晶に
溶融アルミナを溶射して人工結晶を生成する時、高温基
材に単なる回転あるいは偏角回転と降下操作を加えるこ
とにより角のない柱状で径の大きな人工結晶が得られる
ことが認められた。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例を示すサファイヤ人工結晶
合成装置の断面図である。
【図2】この発明の他の実施例を示すサファイヤ人工結
晶合成装置の断面図である。
【図3】(a)および(b)は図2の装置による人工結
晶合成時の種結晶配置の状態を示す説明図である。
【図4】従来のサファイヤ人工結晶合成にて用いるイン
ダクションプラズマ溶射装置と合成したサファイヤ人工
結晶を示す断面図である。
【符号の説明】
A インダクションプラズマ溶射装置 B 回転機構 C 昇降機構 D 偏角機構 10 高温基材 12 プラズマ炎 13 人工結晶 16 ロッド 17 ギヤ 18 回転用モータ 19 ロッド 20 ギヤ 21 昇降用モータ 22 高温基材 23 ユニバーサルジョイント 24 凹部 25 種結晶
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岡田 順 大阪府大阪市東淀川区淡路2丁目14番3 号 株式会社三社電機製作所内 (72)発明者 エミリオ 藤原 大阪府大阪市東淀川区淡路2丁目14番3 号 株式会社三社電機製作所内 (72)発明者 村田 裕康 大阪府大阪市東淀川区淡路2丁目14番3 号 株式会社三社電機製作所内 (56)参考文献 特開 昭64−72413(JP,A) 特開 昭60−90813(JP,A)

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 インダクションプラズマ溶射装置のプラ
    ズマ炎内に投入したアルミナ粉体を溶融し、該プラズマ
    炎の下部に配置した高温基材上に溶射してサファイヤ人
    工結晶を合成する装置であって、前記インダクションプ
    ラズマ溶射装置と、前記高温基材の下部中央に連設した
    回転機構と昇降機構とよりなることを特徴とするサファ
    イヤ人工結晶合成装置。
  2. 【請求項2】 インダクションプラズマ溶射装置のプラ
    ズマ炎内に投入したアルミナ粉体を溶融し、該プラズマ
    炎の下部に配置した高温基材上に溶射してサファイヤ人
    工結晶を合成する装置であって、前記インダクションプ
    ラズマ溶射装置と、前記高温基材の下部中央に連設した
    偏角機構、回転機構と昇降機構とよりなることを特徴と
    するサファイヤ人工結晶合成装置。
JP3355814A 1991-12-20 1991-12-20 サファイヤ人工結晶合成装置 Expired - Lifetime JP2526190B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3355814A JP2526190B2 (ja) 1991-12-20 1991-12-20 サファイヤ人工結晶合成装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3355814A JP2526190B2 (ja) 1991-12-20 1991-12-20 サファイヤ人工結晶合成装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05170596A JPH05170596A (ja) 1993-07-09
JP2526190B2 true JP2526190B2 (ja) 1996-08-21

Family

ID=18445890

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3355814A Expired - Lifetime JP2526190B2 (ja) 1991-12-20 1991-12-20 サファイヤ人工結晶合成装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2526190B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
PL1910246T3 (pl) * 2005-08-02 2012-03-30 Radion Mogilevsky Sposób wytwarzania zwartych bloków

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6090813A (ja) * 1983-10-19 1985-05-22 Seiko Epson Corp ジエイダイト結晶製造法
JPS6472413A (en) * 1987-09-12 1989-03-17 Univ Tokai Superconducting material

Also Published As

Publication number Publication date
JPH05170596A (ja) 1993-07-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2004262684A (ja) β−Ga2O3系単結晶成長方法
KR20020029335A (ko) 석영유리 도가니의 제조방법
JP2526190B2 (ja) サファイヤ人工結晶合成装置
JPH069236A (ja) 光学品位の二酸化ケイ素ガラスインゴット製品の製造方法および製造装置
JP4416952B2 (ja) 石英ガラスるつぼの白点欠陥を最小限にする方法及び装置
US5961715A (en) Method for pulling a single crystal
JP2012116714A (ja) シリカガラスルツボの製造方法および製造装置
JP5068753B2 (ja) 緻密なブロックの精製及び製造方法
JP5122128B2 (ja) 単結晶棒を製造する装置および方法
JPH08143391A (ja) チョクラルスキ結晶引上げ装置に使用する螺旋加熱器
JP3505597B2 (ja) 炭化珪素単結晶
JP2005053722A (ja) 単結晶製造装置及び単結晶の製造方法
US2970895A (en) Process for crystalline growth employing collimated electrical energy
JP2952733B2 (ja) シリコン単結晶製造方法
US4289572A (en) Method of closing silicon tubular bodies
JP3687166B2 (ja) 単結晶引上げ装置の整流筒昇降方法、及び単結晶引上げ装置の整流筒昇降機構
JP3069656B1 (ja) 球状の金属チタン及びチタン化合物の製造方法
JPH06299209A (ja) 磁性材料の粉粒体の生成方法
JP2003277031A (ja) カーボンナノチューブの製法
JPH1192276A (ja) 半導体単結晶の製造装置及び半導体単結晶の製造方法
JPH0643277B2 (ja) 石英ルツボの製法
US3950479A (en) Method of producing hollow semiconductor bodies
JPH0748200A (ja) 単結晶の製造方法
JP2614004B2 (ja) 活性金属の溶解・注入方法及びその装置
JPH0337181A (ja) 希土類金属と遷移金属とからなる巨大磁歪合金ロツドの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19960312