JP2525728B2 - Semiconductor memory device - Google Patents
Semiconductor memory deviceInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は相補型MOSトランジス
タを用いた半導体記憶装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device using complementary MOS transistors.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来の半導体記憶装置のビット線対の同
電位化・プリチヤージ回路例を図1に示し、この回路が
動作するときのビット線対の電位変化を図2に示す。2. Description of the Related Art FIG. 1 shows an example of a potential equalization / precharge circuit for a bit line pair of a conventional semiconductor memory device, and FIG. 2 shows a potential change of the bit line pair when this circuit operates.
【0003】1はメモリセルであり、T11,T12,
T13はNチヤネル型MOS(以後NMOSと称す)ト
ランジスタであり、Pはプリチヤージ信号線であり、W
はワード線であり、Bはビット線、バーBはBと相補な
関係にあるビット線である。T11,T12,T13の
ゲート電極はPに共通接続されており、メモリセルは、
BとバーBとWに接続されており、T12およびT13
のドレイン電極が電源に接続され、T1IおよびT12
のソース電極がBに接続され、T13のソース電極とT
11のドレイン電極がバーBに接続されている。Reference numeral 1 denotes a memory cell, which has T11, T12,
T13 is an N-channel MOS (hereinafter referred to as NMOS) transistor, P is a precharge signal line, and W
Is a word line, B is a bit line, and bar B is a bit line complementary to B. The gate electrodes of T11, T12, and T13 are commonly connected to P, and the memory cell is
Connected to B and bar B and W, T12 and T13
Drain electrode of T1I and T12 connected to the power supply
The source electrode of T13 is connected to B, and the source electrode of T13 and T
Eleven drain electrodes are connected to bar B.
【0004】[0004]
【発明が解決するための課題】従来の回路の動作を説明
する。ワード線信号によりメモリセルが非選択状態にあ
り、BとバーBにメモリセル内の情報が出力されていな
い状態において、プリチヤージ信号線Pを高レベル電位
とする。この状態においては、NMOSトランジスタの
T12とT13がオン状態となりBとバーBの電位レベ
ルは、電源電圧からT12,T13の各しきい値電圧分
電圧降下した電位に収束する。同時にNMOSトランジ
スタのT11もオン状態となっており、ソースとドレイ
ン間が導通状態で、このT11によりBとバーBは同電
位となる。上記の様な回路においては、BとバーBを同
電位とするT11がNMOSトランジスタから成るため
に、BとバーBがプリチヤージの収束電位に近づくにし
たがい、T11のオン抵抗が増加して同電位となりにく
い。このことにより、プリチヤージの電位レベルが、収
束レベルに近づくにしたがいBとバーBが同電位になり
ずらくなるため、プリチヤージの収束電位レベルに達す
るまでに多くの時間が費やされるという欠点があった。The operation of the conventional circuit will be described. The precharge signal line P is set to a high level potential in the state where the memory cell is in the non-selected state by the word line signal and the information in the memory cell is not output to B and bar B. In this state, the NMOS transistors T12 and T13 are turned on, and the potential levels of B and B are converged to the potentials that have dropped from the power supply voltage by the threshold voltages of T12 and T13. At the same time, T11 of the NMOS transistor is also in the ON state, and the source and the drain are in a conductive state, and B and B have the same potential by this T11. In the circuit as described above, since T11 which makes B and bar B the same potential is composed of an NMOS transistor, as B and bar B approach the convergence potential of precharge, the on resistance of T11 increases and the same potential. It is hard to become. As a result, it becomes difficult for B and bar B to have the same potential as the precharge potential level approaches the convergence level, and there is a disadvantage that much time is spent until reaching the precharge convergence potential level. .
【0005】また、T11がPチヤネル型MOS(以後
PMOSと称す)トランジスタでプリチャージ回路が構
成これている場合においては、BとバーBをプリチヤー
ジ開始時にT11をオン状態にしたとき、BとバーBの
いずれかが低レベル電位にあるため、PMOSトランジ
スタのT11のオン抵抗が高く同電位となりにくい。こ
のことにより、BとバーBに十分な電位差がついた状態
からプリチヤージを開始するとき、BとバーBの双方の
電位レベルが十分上がるまで同電位になりにくいため、
プリチヤージの収束電位レベルに達するまでに多くの時
間が費やされるという欠点があった。Further, in the case where T11 is a P-channel type MOS (hereinafter referred to as PMOS) transistor which constitutes a precharge circuit, B and bar B are connected to B and bar when T11 is turned on at the start of precharge. Since either B is at a low level potential, the on resistance of T11 of the PMOS transistor is high and it is difficult for the PMOS transistor T11 to have the same potential. As a result, when precharge is started from a state where a sufficient potential difference is present between B and bar B, it is difficult for the potentials of both B and bar B to become equal until the potential levels of both are sufficiently increased.
The drawback is that much time is spent before reaching the precharge convergent potential level.
【0006】本発明は上記の様な欠点を解決するもの
で、その目的とするところは、半導体記憶装置におい
て、相補な信号線対の信号線対を同電位化する場合、相
補な信号線対を同電位化するのに必要な時間の短縮をは
かることにある。The present invention solves the above drawbacks, and an object of the present invention is to provide complementary signal line pairs when the signal line pairs of complementary signal line pairs are made to have the same potential in a semiconductor memory device. The purpose is to reduce the time required to bring them to the same potential.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明は、マトリクス状
に配置されたメモリセルと、該メモリセルを選択するワ
ード線と、該ワード線により選択された前記メモリセル
の情報が伝搬される相補な関係にある信号線対とから成
る半導体記憶装置において、前記信号線のそれぞれにチ
ャージ手段を接続し、且つ前記信号線対間に一導電型ト
ランジスタと逆導電型トランジスタを接続し、前記信号
線対を同電位にするために、前記一導電型トランジスタ
と前記逆導電型トランジスタを導通させてなることを特
徴とする。SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, memory cells arranged in a matrix, word lines for selecting the memory cells, and complementary information to which information of the memory cells selected by the word lines is propagated. In a semiconductor memory device including a pair of signal lines having a similar relationship, a charge means is connected to each of the signal lines, and a one conductivity type transistor and a reverse conductivity type transistor are connected between the signal line pairs, In order to make the pair have the same potential, the one conductivity type transistor and the opposite conductivity type transistor are electrically connected.
【0008】[0008]
【実施例】本発明の半導体記憶装置は、マトリクス状に
配置された行方向に延在するワード線と、前記メモリセ
ルに接続された列方向に延在する相補な関係にある信号
線対とから成る半導体記憶装置において、前記信号線対
の第1の信号線に、第1のNMOSトランジスタのドレ
イン電極と第2のNMOSトランジスタのソース電極と
第1のPMOSトランジスタのソース電極を接続し、前
記信号線対の第2の信号線に前記第1のNMOSトラン
ジスタのソース電極と第2のNMOSトランジスタのド
レイン電極と前記第1のPMOSトランジスタのドレイ
ン電極を接続し、前記第2および第3のNMOSトラン
ジスタのドレイン電極を電源に接続し、前記第1、第2
および第3のNMOSトランジスタのゲート電極にタイ
ミング信号線が接続し、前記第1のPMOSトランジス
タのゲート電極に前記タイミング信号線とは相補な関係
にあるタイミング信号線に接続して成る。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In a semiconductor memory device of the present invention, word lines arranged in a matrix extending in a row direction and signal line pairs connected to the memory cells and extending in a column direction in a complementary relationship. In the semiconductor memory device, the drain electrode of the first NMOS transistor, the source electrode of the second NMOS transistor, and the source electrode of the first PMOS transistor are connected to the first signal line of the signal line pair, The source electrode of the first NMOS transistor, the drain electrode of the second NMOS transistor, and the drain electrode of the first PMOS transistor are connected to the second signal line of the signal line pair, and the second and third NMOS transistors are connected. The drain electrode of the transistor is connected to a power source, and the first and second
A timing signal line is connected to the gate electrode of the third NMOS transistor, and a gate electrode of the first PMOS transistor is connected to a timing signal line complementary to the timing signal line.
【0009】以下本発明について実施例に基づき詳細に
説明する。図3は本発明の実施例のビット線対の同電位
化・プリチヤージ回路であり、図4はプリチヤージ回路
が動作するときのビット線対の電位変化である。T2
1,T22,T23はNMOSトランジスタであり、T
24はPチヤネル型MOSトランジスタであり、T21
とT24の相補型MOSトランジスタによりトランスミ
ッションゲートを成し、T22およびT23のドレイン
電極が電源に接続され、T21のドレイン電極とT22
およびT24のソース電極がBに接続され、T21およ
びT22のソース電極とT24のドレイン電極がバーB
に接続されている。Pはプリチヤージ信号線であり、バ
ーPはPとは相術な関係にあるプリチヤージ信号線であ
り、T21,T22およびT23のゲート電極にPの信
号線が共通接続され、T24のゲート電極にバーPの信
号線が接続されている。The present invention will be described in detail below based on examples. FIG. 3 shows a potential equalization / precharge circuit for a bit line pair according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 shows a potential change of the bit line pair when the precharge circuit operates. T2
1, T22, T23 are NMOS transistors,
24 is a P-channel type MOS transistor, T21
And a complementary MOS transistor of T24 form a transmission gate, the drain electrodes of T22 and T23 are connected to a power source, and the drain electrode of T21 and T22
And the source electrodes of T24 are connected to B, and the source electrodes of T21 and T22 and the drain electrode of T24 are bar B.
It is connected to the. P is a precharge signal line, and bar P is a precharge signal line having a syntactic relationship with P. The signal line of P is commonly connected to the gate electrodes of T21, T22, and T23, and the bar of P is connected to the gate electrode of T24. The signal line of is connected.
【0010】本発明の実施例の回路の動作を説明する。
ワード線信号によりメモリセルが非選択状態にあり、B
とバーBにメモリセル内の情報が出力されていない状態
において、プリチヤージ信号線Pを高レベル電位とする
と、T22とT23がオン状態となりBとバーBは電源
電圧からT22,T23の各しきし値電圧分電圧降下し
た電位に収束する。同時にT21もオン状態となり、T
24もバーPの信号線によりオン状態となっている。上
記の様な回路においては、BとバーBを同電位とする回
路が、NMOSおよびPMOSトランジスタから成るト
ランスミッションゲートであるから、プリチヤージ開始
のBとバーBのいずれかが低レベル電位にあるときは、
トランスミッションゲートのNMOSトランジスタがオ
ン抵抗が低くビット線対を同電位とするのに働き、プリ
チヤージが進みビット線対の電位レベルが上がると、P
MOSトランジスタのオン抵抗が低くなり、ビット線対
を同電位とするのに働き、プリチヤージの電位レベルを
高速に同電位レベルとする。The operation of the circuit according to the embodiment of the present invention will be described.
When the memory cell is in the non-selected state by the word line signal,
When the precharge signal line P is set to a high level potential in a state where the information in the memory cell is not output to B and B, T22 and T23 are turned on, and B and B are set to T22 and T23 from the power supply voltage. It converges to the potential dropped by the value voltage. At the same time, T21 is turned on and T
24 is also turned on by the signal line of bar P. In the circuit as described above, since the circuit for setting B and bar B to the same potential is the transmission gate composed of NMOS and PMOS transistors, when either B or bar B at the precharge start is at the low level potential. ,
When the NMOS transistor of the transmission gate has a low on-resistance and works to make the bit line pair have the same potential, the precharge progresses and the potential level of the bit line pair rises.
The on-resistance of the MOS transistor is lowered, which works to bring the bit line pair to the same potential, and the potential level of the precharge is quickly brought to the same potential level.
【0011】以上本発明の実施例をビット線対を用いて
説明してきたが、これに限られることなく、データ線
対、センスアンプ回路入出力線対のプリチヤージ回路に
も同様に応用することができる。Although the embodiment of the present invention has been described using the bit line pair, the present invention is not limited to this, and can be similarly applied to the precharge circuit of the data line pair and the sense amplifier circuit input / output line pair. it can.
【0012】[0012]
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、チャ
ージ手段でプルアップされた相補な関係にある信号線対
を相補型MOSトランジスタで構成されたトランスミッ
ションゲートにより同電位とするために、NMOSまた
はPMOSトランジスタのみによる同電位化回路に比べ
て信号線対の電位レベルを高速に同電位にすることがで
き、同電位化のための時間を高速化することができる。As described above, according to the present invention, in order to make the pair of signal lines in a complementary relationship pulled up by the charging means have the same potential by the transmission gate composed of the complementary MOS transistor, The potential level of the signal line pair can be set to the same potential faster than in the same potentializing circuit using only NMOS or PMOS transistors, and the time required for equalizing the potential can be shortened.
【0013】半導体記憶装置においては、高速動作が要
求されており、データの読み出し時間であるアクセス時
間の短縮が重要視されている。同電位化のための時間を
短縮することは、そのままこのアクセス時間を短縮する
ことができるという効果を有する。In the semiconductor memory device, high-speed operation is required, and it is important to shorten the access time which is a data read time. Reducing the time for equalizing the potential has the effect that the access time can be shortened as it is.
【図1】従来のビット線対のブリチヤージ回路を示す
図。FIG. 1 is a diagram showing a conventional britage circuit of a pair of bit lines.
【図2】従来のブリチヤージ回路によるビット線対の電
位変化を示す図。FIG. 2 is a diagram showing a potential change of a bit line pair by a conventional british circuit.
【図3】本発明の実施例のビット線対のブリチヤージ回
路を示す図。FIG. 3 is a diagram showing a bridging circuit for a bit line pair according to an embodiment of the present invention.
【図4】本発明のプリチヤージ回路によるビット線対の
電位変化を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a potential change of a bit line pair by the precharge circuit of the present invention.
TI1,T12,T13,T21,T22,T23・・
・・・・Nチヤネル型MOSトランジスタ、 T24・・・・・Pチヤネル型MOSトランジスタ 1・・・・・メモリセル、 W・・・・・ワード線、 B,バーB・・ビット線、 P,バーP・・プリチヤージ信号線TI1, T12, T13, T21, T22, T23 ...
.... N channel type MOS transistor, T24 ... P channel type MOS transistor 1 ... memory cell, W ... word line, B, bar B ... bit line, P, Bar P ... Precharge signal line
Claims (1)
該メモリセルを選択するワード線と、該ワード線により
選択された前記メモリセルの情報が伝搬される相補な関
係にある信号線対とから成る半導体記憶装置において、
前記信号線のそれぞれにチャージ手段を接続し、且つ前
記信号線対間に一導電型トランジスタと逆導電型トラン
ジスタを接続し、前記信号線対を同電位にするために、
前記一導電型トランジスタと前記逆導電型トランジスタ
を導通させてなることを特徴とする半導体記憶装置。1. Memory cells arranged in a matrix,
In a semiconductor memory device comprising a word line for selecting the memory cell and a signal line pair having a complementary relationship for transmitting information of the memory cell selected by the word line,
In order to connect the charging means to each of the signal lines, and to connect a transistor of one conductivity type and a transistor of opposite conductivity type between the pair of signal lines to make the pair of signal lines have the same potential,
A semiconductor memory device characterized in that the one conductivity type transistor and the opposite conductivity type transistor are electrically connected.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6137472A JP2525728B2 (en) | 1994-06-20 | 1994-06-20 | Semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6137472A JP2525728B2 (en) | 1994-06-20 | 1994-06-20 | Semiconductor memory device |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59011693A Division JPS60154393A (en) | 1984-01-24 | 1984-01-24 | Semiconductor storage |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07141878A JPH07141878A (en) | 1995-06-02 |
JP2525728B2 true JP2525728B2 (en) | 1996-08-21 |
Family
ID=15199415
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6137472A Expired - Lifetime JP2525728B2 (en) | 1994-06-20 | 1994-06-20 | Semiconductor memory device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2525728B2 (en) |
-
1994
- 1994-06-20 JP JP6137472A patent/JP2525728B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07141878A (en) | 1995-06-02 |
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EXPY | Cancellation because of completion of term |