JP2517088B2 - 光ディスク原盤、光ディスク記録装置及び光ディスク記録方法 - Google Patents
光ディスク原盤、光ディスク記録装置及び光ディスク記録方法Info
- Publication number
- JP2517088B2 JP2517088B2 JP63312297A JP31229788A JP2517088B2 JP 2517088 B2 JP2517088 B2 JP 2517088B2 JP 63312297 A JP63312297 A JP 63312297A JP 31229788 A JP31229788 A JP 31229788A JP 2517088 B2 JP2517088 B2 JP 2517088B2
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- Japan
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- master
- groove
- optical disc
- spindle
- laser
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、予め信号記録部分が決められた光ディスク
原盤上に信号を記録するための光ディスク原盤、光ディ
スク製造装置及び、光ディスク製造方法に関するもので
ある。
原盤上に信号を記録するための光ディスク原盤、光ディ
スク製造装置及び、光ディスク製造方法に関するもので
ある。
従来の技術 高密度、大容量の媒体である光ディスクはCDやレーザ
ーディスクとして実用化されている。この従来の光ディ
スクの製造方法を次に示す。第４図（ａ）のようにガラ
ス盤１を研磨し、その上にフォトレジスト２を塗布する
（第４図（ｂ））。Arレーザー３で信号を記録し（第４
図（ｃ））、現像すれば原盤が出来上がる（第４図
（ｄ））。この原盤からメッキ等の方法でスタンパを作
り、大量のレプリカが複製される。
ーディスクとして実用化されている。この従来の光ディ
スクの製造方法を次に示す。第４図（ａ）のようにガラ
ス盤１を研磨し、その上にフォトレジスト２を塗布する
（第４図（ｂ））。Arレーザー３で信号を記録し（第４
図（ｃ））、現像すれば原盤が出来上がる（第４図
（ｄ））。この原盤からメッキ等の方法でスタンパを作
り、大量のレプリカが複製される。
この従来例では、ガラス平面上にArレーザーで記録す
る時、レーザースポットをガラス盤上に焦点制御する
が、一定間隔の信号トラックの形成は記録装置の機械的
精度だけで行う。
る時、レーザースポットをガラス盤上に焦点制御する
が、一定間隔の信号トラックの形成は記録装置の機械的
精度だけで行う。
また、より高密度で高品質の信号を再生する事が望ま
れ、Ｖ溝を用いる方法が提案されている（特開昭60−21
3836号公報）。それは、１つの高品質な信号を２つに分
けてＶ溝の隣合う２つの斜面に記録しておき、その２信
号を同時にかつ独立に再生する方法である。この方法を
用いる事でレーザーディスクにハイビジョン信号を記録
できる様になる。
れ、Ｖ溝を用いる方法が提案されている（特開昭60−21
3836号公報）。それは、１つの高品質な信号を２つに分
けてＶ溝の隣合う２つの斜面に記録しておき、その２信
号を同時にかつ独立に再生する方法である。この方法を
用いる事でレーザーディスクにハイビジョン信号を記録
できる様になる。
第５図にそのＶ溝ディスクを作る方法を示す。まず第
５図（ａ）の様に銅盤４にダイヤモンドのバイト５でＶ
溝を形成する。その上にフォトレジスト２を塗布する
（第５図（ｂ））。この原盤のＶ溝斜面上にArレーザー
３を絞って信号を記録し（第５図（ｃ））、現像して信
号記録部のフォトレジストを除去する（第５図
（ｄ））。次に信号記録部の銅にイオンビームを照射し
てイオンミリング法で100nm程度掘り（第５図
（ｅ））、フォトレジストを除去して光ディスク原盤が
できあがる。
５図（ａ）の様に銅盤４にダイヤモンドのバイト５でＶ
溝を形成する。その上にフォトレジスト２を塗布する
（第５図（ｂ））。この原盤のＶ溝斜面上にArレーザー
３を絞って信号を記録し（第５図（ｃ））、現像して信
号記録部のフォトレジストを除去する（第５図
（ｄ））。次に信号記録部の銅にイオンビームを照射し
てイオンミリング法で100nm程度掘り（第５図
（ｅ））、フォトレジストを除去して光ディスク原盤が
できあがる。
従来ディスクに比べて、原盤作製には多くの工程を必
要とするが、第５図（ｆ）の原盤からは多くのスタンパ
が作られる事は利点である。
要とするが、第５図（ｆ）の原盤からは多くのスタンパ
が作られる事は利点である。
発明が解決しようとする課題 しかし、このＶ溝方法では第５図（ｃ）のレーザー記
録の段階でArレーザースポットを、焦点制御だけではな
く、Ｖ溝斜面に沿ってトラッキングする事も必要であ
る。
録の段階でArレーザースポットを、焦点制御だけではな
く、Ｖ溝斜面に沿ってトラッキングする事も必要であ
る。
光ディスク原盤の製造ではArレーザーを絞るには0.8
以上のNA（開口数）の高い対物レンズが必要である。こ
の対物レンズを微動させて高い精度で焦点制御やトラッ
キング制御する。一般に高NAの対物レンズは市販のレー
ザーディスクの再生機に用いられる対物レンズ（NA0.5
位）に比べて重いので、広い周波数範囲にわたって高い
焦点制御利得を得る事は難しい。従って、高い焦点制御
利得を得るには光ディスク原盤の平面度を良くしておく
事が必要であり、また、高トラッキング制御利得を得る
には原盤上のＶ溝の偏心をできるだけ小さくしておく必
要がある。
以上のNA（開口数）の高い対物レンズが必要である。こ
の対物レンズを微動させて高い精度で焦点制御やトラッ
キング制御する。一般に高NAの対物レンズは市販のレー
ザーディスクの再生機に用いられる対物レンズ（NA0.5
位）に比べて重いので、広い周波数範囲にわたって高い
焦点制御利得を得る事は難しい。従って、高い焦点制御
利得を得るには光ディスク原盤の平面度を良くしておく
事が必要であり、また、高トラッキング制御利得を得る
には原盤上のＶ溝の偏心をできるだけ小さくしておく必
要がある。
また、トラッキング制御には対物レンズ自身を微動さ
せずに、対物レンズに入射するレーザービームの方向を
ミラーを微調回転させてもよい。この場合でも高いNAの
レンズでは入射ビームの傾きが大きいとスポットに収差
が生じるので、ミラー回転によるトラッキング制御方法
にも原盤上のＶ溝の偏心は小さくしておかなければなら
ない。
せずに、対物レンズに入射するレーザービームの方向を
ミラーを微調回転させてもよい。この場合でも高いNAの
レンズでは入射ビームの傾きが大きいとスポットに収差
が生じるので、ミラー回転によるトラッキング制御方法
にも原盤上のＶ溝の偏心は小さくしておかなければなら
ない。
Ｖ溝形成装置には高い程度のエアースピンドルを設け
ておく。原盤の高い平面度はその高精度エアースピンド
ルの回転によりＶ溝加工する事で得る事ができるし、ま
た、Ｖ溝形成装置の回転中心に対しては原盤の偏心はな
い。このＶ溝形成装置で作った原盤を装置からはずし、
Arレーザーによる記録装置に着けかえる必要がある。高
い平面度はレーザー記録装置にも高精度エアースピンド
ルを用いて維持できる。しかし、Ｖ溝の偏心はレーザー
記録時の原盤の設置状態に依存するので、何らかの偏心
取りの手段が必要である。
ておく。原盤の高い平面度はその高精度エアースピンド
ルの回転によりＶ溝加工する事で得る事ができるし、ま
た、Ｖ溝形成装置の回転中心に対しては原盤の偏心はな
い。このＶ溝形成装置で作った原盤を装置からはずし、
Arレーザーによる記録装置に着けかえる必要がある。高
い平面度はレーザー記録装置にも高精度エアースピンド
ルを用いて維持できる。しかし、Ｖ溝の偏心はレーザー
記録時の原盤の設置状態に依存するので、何らかの偏心
取りの手段が必要である。
本発明が、このような従来技術の課題を解決すること
を目的とする。
を目的とする。
課題を解決するための手段 本発明において、レーザー記録装置には光ディスク原
盤を回転させるスピンドル、信号を記録するレーザー、
そのレーザーを光ディスク原盤上に絞る光学系、その光
学系をスピンドルの半径方向に移動させる移送系、それ
に加えてスピンドルの近くに顕微鏡を設けておく、ま
た、光ディスク原盤をスピンドル上で設置位置を微調す
る手段も設ける。
盤を回転させるスピンドル、信号を記録するレーザー、
そのレーザーを光ディスク原盤上に絞る光学系、その光
学系をスピンドルの半径方向に移動させる移送系、それ
に加えてスピンドルの近くに顕微鏡を設けておく、ま
た、光ディスク原盤をスピンドル上で設置位置を微調す
る手段も設ける。
光ディスク原盤にはスパイラル状のＶ溝を形成し、こ
のＶ溝斜面に沿ってArレーザーを絞り信号を記録する
が、信号記録のためのＶ溝形成領域の最内周より内周
に、または、その信号記録領域の最外周より外周に新た
に偏心取り用にＶ溝を形成しておく。その時、信号記録
用のＶ溝の偏心取り用のＶ溝を同心にしておく。
のＶ溝斜面に沿ってArレーザーを絞り信号を記録する
が、信号記録のためのＶ溝形成領域の最内周より内周
に、または、その信号記録領域の最外周より外周に新た
に偏心取り用にＶ溝を形成しておく。その時、信号記録
用のＶ溝の偏心取り用のＶ溝を同心にしておく。
そして、光ディスク原盤をスピンドル上に設置する
際、顕微鏡で光ディスク原盤上の偏心取り用のＶ溝を観
察しながら原盤のスピンドル上の設置位置を調整して偏
心を小さくする。
際、顕微鏡で光ディスク原盤上の偏心取り用のＶ溝を観
察しながら原盤のスピンドル上の設置位置を調整して偏
心を小さくする。
作用 偏心取り用のＶ溝の偏心を小さくする事で、それと同
心の信号記録用のＶ溝の偏心も小さくできるので、トラ
ッキング制御に利得を高くできる。従って、収差の小さ
いレーザースポットを高い精度でＶ溝斜面に絞り、信号
記録できるようになる。
心の信号記録用のＶ溝の偏心も小さくできるので、トラ
ッキング制御に利得を高くできる。従って、収差の小さ
いレーザースポットを高い精度でＶ溝斜面に絞り、信号
記録できるようになる。
実施例 以下に、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
光ディスク原盤から説明する。アルミ盤に銅メッキし
たものにダイヤモンドのバイトでＶ溝をを形成する。こ
のＶ溝の斜面に信号を記録する。そのＶ溝が形成された
信号記録領域の最内周より内側、または、最外周より外
側に、信号記録領域のＶ溝と同じ回転中心を持つ同心円
またはスパイラルのＶ溝を予め形成しておく、これらが
偏心取り用のＶ溝である。直径300mmのディスクを作る
時の例を第１図に示す。原盤11の大きさは直径350mmで
あり、センター穴12をＶ溝形成装置やレーザー記録装置
のセンターボスにはめ込んで回転させる。信号記録領域
13にはＶ溝が形成されている。信号トラックのピッチが
0.8μｍとすればＶ溝ピッチは1.6μｍである。領域13の
最内周14は直径110mm、最外周15は直径290mmであり、直
径294mmのところに更に偏心取り用のＶ溝16が形成され
る。信号記録領域13のＶ溝と偏心取り用のＶ溝16は同じ
Ｖ溝形成装置で作るので、それらの中心は同じである。
Ｖ溝16は数回転分で十分である。
たものにダイヤモンドのバイトでＶ溝をを形成する。こ
のＶ溝の斜面に信号を記録する。そのＶ溝が形成された
信号記録領域の最内周より内側、または、最外周より外
側に、信号記録領域のＶ溝と同じ回転中心を持つ同心円
またはスパイラルのＶ溝を予め形成しておく、これらが
偏心取り用のＶ溝である。直径300mmのディスクを作る
時の例を第１図に示す。原盤11の大きさは直径350mmで
あり、センター穴12をＶ溝形成装置やレーザー記録装置
のセンターボスにはめ込んで回転させる。信号記録領域
13にはＶ溝が形成されている。信号トラックのピッチが
0.8μｍとすればＶ溝ピッチは1.6μｍである。領域13の
最内周14は直径110mm、最外周15は直径290mmであり、直
径294mmのところに更に偏心取り用のＶ溝16が形成され
る。信号記録領域13のＶ溝と偏心取り用のＶ溝16は同じ
Ｖ溝形成装置で作るので、それらの中心は同じである。
Ｖ溝16は数回転分で十分である。
最外周より外側に形成されたＶ溝16の代わりに、最内
周より内側に、例えば、直径106mmの位置に同様のＶ溝
を形成しておいてもよい。
周より内側に、例えば、直径106mmの位置に同様のＶ溝
を形成しておいてもよい。
次にレーザー記録装置について第２図を用いて説明す
る。Arレーザー21からレーザービームａをハーフミラー
22でビームb,ビームｃの２つに分ける。それぞれをイー
オー（EO）変調器23、23′で記録信号に合わせてビーム
強度を変調し、ビーム拡大器24、24′に導く。ビームス
プリッタ25でビームｂとビームｃを合成し、トラッキン
グミラー26で反射されて、対物レンズ27でディスク原盤
11上に絞られる。28はエアースピンドルであり、29はス
ピンドル28をＸ方向に移動させる移送系である。スピン
ドル28の近傍には顕微鏡30を備え、原盤11上の信号を観
測できるようになっている。この図では焦点制御やトラ
ッキング制御のための光学系は省略してある。
る。Arレーザー21からレーザービームａをハーフミラー
22でビームb,ビームｃの２つに分ける。それぞれをイー
オー（EO）変調器23、23′で記録信号に合わせてビーム
強度を変調し、ビーム拡大器24、24′に導く。ビームス
プリッタ25でビームｂとビームｃを合成し、トラッキン
グミラー26で反射されて、対物レンズ27でディスク原盤
11上に絞られる。28はエアースピンドルであり、29はス
ピンドル28をＸ方向に移動させる移送系である。スピン
ドル28の近傍には顕微鏡30を備え、原盤11上の信号を観
測できるようになっている。この図では焦点制御やトラ
ッキング制御のための光学系は省略してある。
顕微鏡30で原盤11上の信号を観測しながら、原盤のス
ピンドル28上での設置位置を微調する。その方法の例を
紹介する。スピンドル28はエアーを吹き出して原盤11を
浮かせる事も、また、エアーを吸着して原盤11を固定す
る事もできるようになっている。原盤11には偏心取り用
のＶ溝16が形成されている。この原盤をを浮かせながら
顕微鏡30でＶ溝16を観測して、原盤を回転させながら偏
心が小さくなるように原盤の位置を微調する。
ピンドル28上での設置位置を微調する。その方法の例を
紹介する。スピンドル28はエアーを吹き出して原盤11を
浮かせる事も、また、エアーを吸着して原盤11を固定す
る事もできるようになっている。原盤11には偏心取り用
のＶ溝16が形成されている。この原盤をを浮かせながら
顕微鏡30でＶ溝16を観測して、原盤を回転させながら偏
心が小さくなるように原盤の位置を微調する。
スピンドル上の原盤11の微調には第３図の様な器具を
使えば便利である。この偏心取り具31をスピンドル28上
に設置する。この器具31の中には原盤11がはまり、顕微
鏡30でエアーで浮いた原盤上のＶ溝１を観察しながら、
８方向からビスをしめながら偏心をちいさくする。偏心
我小さくなればエアーで原盤11を吸着する。その後、こ
の器具31をスピンドルから取り外す。
使えば便利である。この偏心取り具31をスピンドル28上
に設置する。この器具31の中には原盤11がはまり、顕微
鏡30でエアーで浮いた原盤上のＶ溝１を観察しながら、
８方向からビスをしめながら偏心をちいさくする。偏心
我小さくなればエアーで原盤11を吸着する。その後、こ
の器具31をスピンドルから取り外す。
原盤11上のＶ溝16と記録領域13のＶ溝は同心であるか
ら、以上のようにする事で記録領域13のＶ溝の偏心も小
さくする事ができて、高いトラッキング制御の利得が得
られて高い精度で信号を記録できる。
ら、以上のようにする事で記録領域13のＶ溝の偏心も小
さくする事ができて、高いトラッキング制御の利得が得
られて高い精度で信号を記録できる。
発明の効果 本発明は、光ディスク原盤の信号記録領域の最内周よ
り内周に、または、最外周より外周に偏心取り用の溝を
設けておく。レーザー記録装置のディスク回転用スピン
ドルの近くに顕微鏡を有し、原盤をスピンドル上に設置
する際、その顕微鏡で原盤上の偏心取り用溝を観察しな
がら原盤をスピンドル上の設置位置を調整して、その溝
の偏心を少なくする事で信号記録領域の案内溝の偏心も
小さくする事ができて、精度の高い信号記録が達成でき
る。
り内周に、または、最外周より外周に偏心取り用の溝を
設けておく。レーザー記録装置のディスク回転用スピン
ドルの近くに顕微鏡を有し、原盤をスピンドル上に設置
する際、その顕微鏡で原盤上の偏心取り用溝を観察しな
がら原盤をスピンドル上の設置位置を調整して、その溝
の偏心を少なくする事で信号記録領域の案内溝の偏心も
小さくする事ができて、精度の高い信号記録が達成でき
る。
第１図は本発明のディスク原盤の一実施例を示す平面
図、第２図は本発明のレーザー記録装置の一実施例のブ
ロック図、第３図は同実施例の偏心取り用の器具を示す
図、第４図は従来ディスクの製造プロセスを説明する
図、第５図は高密度Ｖ溝ディスクの製造プロセスを説明
する図である。 11……原盤、12……センター穴、13……信号領域、14…
…最内周、15……最外周、16……偏心取り用溝。
図、第２図は本発明のレーザー記録装置の一実施例のブ
ロック図、第３図は同実施例の偏心取り用の器具を示す
図、第４図は従来ディスクの製造プロセスを説明する
図、第５図は高密度Ｖ溝ディスクの製造プロセスを説明
する図である。 11……原盤、12……センター穴、13……信号領域、14…
…最内周、15……最外周、16……偏心取り用溝。
Claims (3)
- 【請求項１】レーザーを絞り信号を記録する光ディスク
原盤において、予め、案内溝が同心円またはスパイラル
状に形成された信号記録領域を設け、前記信号記録領域
の最内周より内周に、または、前記信号記録領域の最外
周より外周に、前記信号記録領域の案内溝と同心の連続
溝を形成した事を特徴とする光ディスク原盤。 - 【請求項２】光ディスク原盤上にレーザーを絞って信号
を記録する光ディスル製造装置において、光ディスク原
盤を回転させるスピンドル、信号を記録するレーザー、
前記レーザーを前記光ディスク原盤上に絞る光学系、前
記光学系を前記スピンドルの半径方向に移動させる移送
系及び、前記スピンドルの近くに顕微鏡を有し、光ディ
スク原盤を前記スピンドル上に配置する際、前記顕微鏡
で前記光ディスク原盤上の溝を観察しながら前記原盤の
スピンドル上の設置位置を調整できる事を特徴とする光
ディスク製造装置。 - 【請求項３】光ディスク原盤上にレーザーを絞って信号
を記録する光ディスク製造方法において、光ディスク原
盤を回転させるスピンドル、信号を記録するレーザー、
前記レーザーを前記光ディスク原盤上に絞る光学系、前
記光学系を前記スピンドルの半径方向に移動させる移送
系及び、前記スピンドルの近くに顕微鏡を準備し、予め
溝が形成された光ディスク原盤を前記スピンドル上に設
置する際、前記顕微鏡で前記光ディスク原盤上に溝を観
察する事で前記溝の偏心を少なくする事を特徴とする光
ディスク製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63312297A JP2517088B2 (ja) | 1988-12-09 | 1988-12-09 | 光ディスク原盤、光ディスク記録装置及び光ディスク記録方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63312297A JP2517088B2 (ja) | 1988-12-09 | 1988-12-09 | 光ディスク原盤、光ディスク記録装置及び光ディスク記録方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02158934A JPH02158934A (ja) | 1990-06-19 |
| JP2517088B2 true JP2517088B2 (ja) | 1996-07-24 |
Family
ID=18027555
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63312297A Expired - Lifetime JP2517088B2 (ja) | 1988-12-09 | 1988-12-09 | 光ディスク原盤、光ディスク記録装置及び光ディスク記録方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2517088B2 (ja) |
-
1988
- 1988-12-09 JP JP63312297A patent/JP2517088B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02158934A (ja) | 1990-06-19 |
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