JP2515020B2 - Gallium arsenide semiconductor integrated circuit - Google Patents

Gallium arsenide semiconductor integrated circuit

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明はガリウム砒素半導体集積回路に関し、特に
ガリウム砒素メモリ装置の回路構成に関するものであ
る。
The present invention relates to a gallium arsenide semiconductor integrated circuit, and more particularly to the circuit configuration of a gallium arsenide memory device.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第2図は例えば1984年ガリウム砒素ICシンポジウム
テクニカルダイジェスト(GaAs IC Symposium Technica
l Digest)117〜120ページに記載の従来のガリウム砒素
メモリの回路構成を示すものであり、1はメモリセルア
レイ、2はXデコーダ、3はYデコーダ、41〜4mはワー
ド線ドライバ、51〜5nはビット線選択信号のドライバで
ある。また6はメモリセルの高い側の電源、7はXデコ
ーダ及びYデコーダの高い側の電源で、メモリセル、X
デコーダ及びYデコーダの低い側の電源はいずれも共通
で接地電位にとられる。
Figure 2 shows, for example, the 1984 Gallium Arsenide IC Symposium
Technical digest (GaAs IC Symposium Technica
1 Digest) shows a circuit configuration of a conventional gallium arsenide memory described on pages 117 to 120, 1 is a memory cell array, 2 is an X decoder, 3 is a Y decoder, 4 1 to 4 m is a word line driver, 5 1 to 5 n are bit line selection signal drivers. Further, 6 is a power source on the high side of the memory cell, 7 is a power source on the high side of the X decoder and the Y decoder, and
The low-side power supplies of the decoder and the Y-decoder are commonly set to the ground potential.

第3図に示すものは、メモリセルアレイ1に含まれる
1つのメモリセルであり、ノーマリオン型MESFET11を負
荷とし、ノーマリオフ型MESFET13をドライバとする第1
のインバータ回路と、ノーマリオン型MESFET12を負荷と
し、ノーマリオフ型MESFET14をドライバとする第2のイ
ンバータを含み、上記第1及び第2のインバータ回路の
入出力が互いに交差接続された構成を有する。ノーマリ
オン型MESFET15は第1のトランスファゲートで、ゲート
にワード線21が入力し、他の2端子には第1のビット線
19と第1のストレージノード17が接続される。同様にノ
ーマリオン型MESFET16は第2のトランスファゲートで、
ゲートにワード線21が入力し、他の2端子には第2のビ
ット線20と第2のストレージノード18が接続される。
FIG. 3 shows one memory cell included in the memory cell array 1, which uses the normally-on type MESFET 11 as a load and the normally-off type MESFET 13 as a driver.
And a second inverter that uses the normally-on MESFET 12 as a load and the normally-off MESFET 14 as a driver, and has a configuration in which the inputs and outputs of the first and second inverter circuits are cross-connected to each other. The normally-on type MESFET15 is the first transfer gate, the word line 21 is input to the gate, and the other two terminals are the first bit line.
19 and the first storage node 17 are connected. Similarly, the normally-on type MESFET 16 is the second transfer gate,
The word line 21 is input to the gate, and the second bit line 20 and the second storage node 18 are connected to the other two terminals.

第4図に示すものは、Xデコーダ2に含まれる1つの
Xデコーダ回路とワード線ドライバ回路である。30はNO
R回路によるデコーダ回路であり、ノーマリオン型MESFE
T22を負荷とし、p個のノーマリオフ型MESFET231〜23p
を並列のドライバ回路として、上記ノーマリオフ型MESF
ET231〜23pのそれぞれのゲートにはXアドレス信号X1
Xpが入力される構成を有する。また31はワード線ドライ
バ回路で、ノーマリオン型MESFET24はドレインが電源
8、ゲートがNOR出力27、ソースがショットキダイオー
ド25のアノードに接続され、ショットキダイオード25の
カソードはノーマリオン型MESFET26のドレイン28に接続
され、ノーマリオン型MESFET26のゲート及びソースは負
の電源29に接続される。ノード28はワード線となる。
FIG. 4 shows one X decoder circuit and word line driver circuit included in the X decoder 2. 30 is NO
Decoder circuit by R circuit, normally-on type MESFE
With T22 as a load, p normally-off MESFETs 23 1 to 23 p
As a parallel driver circuit, the normally-off type MESF
ET23 1 to 23 p gates have X address signals X 1 to
X p is input. Further, 31 is a word line driver circuit, the drain of the normally-on type MESFET 24 is connected to the power source 8, the gate is connected to the NOR output 27, the source is connected to the anode of the Schottky diode 25, and the cathode of the Schottky diode 25 is connected to the drain 28 of the normally-on type MESFET 26. The gate and source of the normally-on type MESFET 26 are connected to the negative power supply 29. The node 28 becomes a word line.

第5図に示すものは、Yデコーダ3に含まれる1つの
Yデコーダ回路とビット線選択信号のドライバ回路であ
る。構成はXデコーダと同様で、39はNOR回路によるデ
コーダ回路であり、ノーマリオン型MESFET32を負荷と
し、q個のノーマリオフ型MESFET331〜33qを並列のドラ
イバ回路とし、上記ノーマリオフ型MESFENT331〜33q
それぞれのゲートにはYアドレス信号Y1〜Yqが入力され
る。また、40はビット線選択信号のドライバ回路で、ノ
ーマリオン型MESFET34はドレインが電源8,ゲートがNOR
出力37、ソースがショットキダイオード35のアノードに
接続され、ショットキダイオード35のカソードはノーマ
リオン型MESFET36のドレイン38に接続され、ノーマリオ
ン型MESFET36のゲート及びソースは負の電源29に接続さ
れる。ノード38はビット線選択信号となる。
FIG. 5 shows one Y decoder circuit included in the Y decoder 3 and a driver circuit for the bit line selection signal. Configuration similar to the X decoder, 39 is a decoder circuit of a NOR circuit, a normally-MESFET32 as a load, and a q-number of normally-off type MESFET33 1 ~33 q and parallel driver circuits, the normally-off MESFENT33 1 ~33 The Y address signals Y 1 to Y q are input to the respective gates of q . Further, 40 is a driver circuit for a bit line selection signal, and in the normally-on type MESFET 34, the drain is the power source 8 and the gate is NOR.
The output 37 and the source are connected to the anode of the Schottky diode 35, the cathode of the Schottky diode 35 is connected to the drain 38 of the normally-on type MESFET 36, and the gate and source of the normally-on type MESFET 36 are connected to the negative power supply 29. The node 38 becomes a bit line selection signal.

次に動作について説明する。まず、ロウ方向の選択は
Xデコーダによって行われる。すなわち30はNOR回路に
より構成されるため、Xアドレス信号X1〜Xpが全てLOW
レベルの時のみNOR出力27はHighレベルとなり、X1〜Xp
のうち少なくとも1つでもHighレベルであればNOR出力2
7はLOWレベルとなる。通常X1〜Xpはそれぞれのアドレス
の組合せについて、m個のXデコーダのただ1つに対し
て全てがLOWレベルとなるように構成されるため、m個
のNOR出力のうちのただ1つがHighレベルとなり、他は
全てLOWレベルとなる。またワード線ドライバ31はソー
スフォロワによるレベルシフト回路として動作するた
め、出力信号28は入力信号27と同相となる。すなわち、
ワード線は、1つのLOWに対してのみHighレベルとな
り、他のロウでは全てLOWレベルとなる。
Next, the operation will be described. First, selection in the row direction is performed by the X decoder. That is, since 30 is composed of a NOR circuit, all X address signals X 1 to X p are LOW.
NOR output 27 becomes High level only when the level is set, and X 1 to X p
NOR output 2 if at least one of them is high level
7 becomes LOW level. Normally, X 1 to X p are configured such that all of them are LOW level for only one of the m X decoders for each address combination, so that only one of the m NOR outputs is High level, all other LOW level. Further, since the word line driver 31 operates as a level shift circuit by the source follower, the output signal 28 has the same phase as the input signal 27. That is,
The word line becomes High level only for one LOW, and becomes Low level for all other rows.

次にカラム方向の選択はYデコーダによって行われる
が、回路構成がXデコーダと全く同様であり、従って同
様の動作によって、ビット線選択信号はn個のうち1つ
のカラムに対してのみHighレベルとなり、他のカラムで
は全てLOWレベルとなる。
Next, the column direction selection is performed by the Y decoder, but the circuit configuration is exactly the same as that of the X decoder. Therefore, by the same operation, the bit line selection signal becomes the high level for only one column out of n. , All other columns are at LOW level.

ワード線21がHighレベルとなるとトランスファゲート
15と16が導通状態となり、ストレージノード17及び18に
蓄えられた一対のデータがビット線19及び20に読み出さ
れる。一本のワード線は、全カラムに共通に入力される
ため、上記読み出し動作は全てのカラムで行われるが、
このうち、ビット線選択信号がHighレベルのカラムにお
いてのみ、外部と接続され、外部へのデータの読み出
し、外部からのデータの書き込みが可能となる。
Transfer gate when word line 21 goes high
15 and 16 become conductive, and the pair of data stored in the storage nodes 17 and 18 are read to the bit lines 19 and 20. Since one word line is commonly input to all columns, the read operation is performed in all columns.
Among these, only in the column in which the bit line selection signal is at the high level, the column is connected to the outside, and it is possible to read the data to the outside and write the data from the outside.

すなわち、各アドレス信号の組み合せに対し、ただ1
つのメモリセルが選択され、データの読み出しあるいは
書き込みが行われる。
That is, for each combination of address signals, only 1
One memory cell is selected and data is read or written.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be Solved by the Invention]

従来のガリウム砒素メモリ装置は以上のような構成を
有するため、メモリセル、Xデコーダ及びYデコーダに
おける電流の流れは次のようになる。
Since the conventional gallium arsenide memory device has the above structure, the current flow in the memory cell, the X decoder and the Y decoder is as follows.

まずメモリセルにおいては、電流は、負荷のノーマリ
オン型MESFET11及び12によって決まるが、この電流値は
ドライバFET13及び14におけるゲートがLOWレベルの際の
ドレインからソースへのリーク電流によって制限され
る。すなわち負荷11あるいは12の電流が、上記ドライバ
FET13あるいは14のリーク電流と同程度かこれを下回る
と、データのHighレベルが低下して、データの保持が不
可能となってしまうからである。通常は、これを回避す
るために、負荷11あるいは12の電流値を上記ドライバFE
T13あるいは14のリーク電流よりも1桁ないし2桁多く
とられるが、ガリウム砒素MESFETにおいては、このリー
ク電流が高温で100nA〜1μA程度と、例えばシリコンM
OSFETに比べて5〜6桁も高いため、上記負荷電流は1
〜50μAが必要となり、従ってメモリセルには常時大量
の貫通電流が流れることになる。この貫通電流は、メモ
リセルの選択、非選択にかかわらず流れ、しかも時間的
に変化しない。
First, in the memory cell, the current is determined by the normally-on type MESFETs 11 and 12 of the load, and this current value is limited by the leakage current from the drain to the source when the gates of the driver FETs 13 and 14 are at the low level. That is, the current of the load 11 or 12 is
This is because if the leak current is equal to or less than the leak current of the FET 13 or 14, the high level of the data is lowered and it becomes impossible to retain the data. Normally, in order to avoid this, the current value of the load 11 or 12 is set to the above driver FE.
It is one or two orders of magnitude higher than the leakage current of T13 or 14, but in the gallium arsenide MESFET, this leakage current is about 100 nA to 1 μA at high temperature, for example, silicon M
The load current is 1 because it is 5 to 6 digits higher than OSFET.
.About.50 .mu.A is required, so that a large amount of through current always flows through the memory cell. This shoot-through current flows regardless of whether the memory cell is selected or not, and does not change with time.

次にXデコーダにおいては、選択されているNOR回路
においてはノーマリオフ型MESFET231〜23pが全てOFF状
態で貫通電流は流れないが、非選択のNOR回路ではノー
マリオフ型MESFET231〜23pのうち少なくとも1つはON状
態であるため電源7からノーマリオン型MESFET22及び上
記ON状態のノーマリオフ型MESFETを通じてGNDへ流れる
貫通電流が流れる。すなわち、選択されている1つのX
デコーダを除く全てのXデコーダで上記貫通電流が流れ
る。この貫通電流も時間的には変化しない。
Next, in the X decoder, in the selected NOR circuit, normally-off type MESFETs 23 1 to 23 p are all in the OFF state and no through current flows, but in the non-selected NOR circuit, at least one of the normally-off type MESFETs 23 1 to 23 p is used. Since one is in the ON state, a through current flows from the power supply 7 to the GND through the normally-on type MESFET 22 and the normally-off type MESFET in the ON state. That is, the selected X
The shoot-through current flows in all X decoders except the decoder. This through current also does not change with time.

またYデコーダについてもXデコーダと同様で、選択
されている1つのYデコーダを除く全てのYデコーダに
おいて時間的に不変な貫通電流が流れる。
The Y decoder is similar to the X decoder, and a time-invariant through current flows in all the Y decoders except one selected Y decoder.

このように従来の構成によるガリウム砒素メモリ装置
では、メモリセル、Xデコーダ及びYデコーダにおい
て、時間的に不変な大量の貫通電流が存在し、この貫通
電流が全体の電流のうちの大部分を占める。電流の増大
は消費電力の増大につながるだけでなく、チップ内の配
線における電圧降下による動作不良や、チップサイズの
増大にもつながり、高集積化を阻む大きな要因となって
いた。
As described above, in the gallium arsenide memory device according to the conventional configuration, a large amount of through current that does not change with time exists in the memory cell, the X decoder, and the Y decoder, and this through current occupies most of the whole current. . The increase in current not only leads to an increase in power consumption, but also leads to a malfunction due to a voltage drop in the wiring in the chip and an increase in the chip size, which is a major factor preventing high integration.

この発明は、上記のような問題点を解消するためにな
されたもので、メモリセル、Xデコーダ、及びYデコー
ダにおける電流の小さい高集積化に適したガリウム砒素
メモリ装置を得ることを目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object thereof is to obtain a gallium arsenide memory device suitable for high integration with small current in the memory cell, the X decoder, and the Y decoder. .

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

この発明に係るガリウム砒素半導体集積回路は、X及
びYデコーダにおけるNOR回路の高い側の電源となるノ
ードと、メモリセルアレイの低い側の電源となるノード
を、共に電源から切り離して共通としたものである。
In the gallium arsenide semiconductor integrated circuit according to the present invention, both the node serving as the high-side power source of the NOR circuit in the X and Y decoders and the node serving as the low-side power source of the memory cell array are separated from the power source and made common. is there.

〔作用〕[Action]

この発明におけるガリウム砒素半導体集積回路は、X
及びYデコーダとメモリセルが電気的に直列に接続され
ることにより、貫通電流が低減される。
The gallium arsenide semiconductor integrated circuit according to the present invention has a structure of X
The through current is reduced by electrically connecting the Y decoder and the memory cell in series.

〔実施例〕〔Example〕

以下、この発明の一実施例を図について説明する。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図において1はメモリセルアレイ、2はXデコー
ダ、3はYデコーダ、41〜4mはワード線ドライバ、51
5nはビット線選択信号のドライバである。6はメモリセ
ルの高い側の電源、8はメモリセルの低い側の電源とな
るノード、Xデコーダの高い側の電源となるノード及び
Yデコーダの高い側の電源となるノードの3つのノード
を電源かり切り離して共通としたものである。また、X
デコーダ及びYデコーダの低い側の電源ノードは共に接
地されている。また本実施例においては、メモリセルア
レイ1における貫通電流の総和と、Xデコーダ及びYデ
コーダにおけるNOR回路の貫通電流の総和を同程度とし
ている。
In FIG. 1, 1 is a memory cell array, 2 is an X decoder, 3 is a Y decoder, 4 1 to 4 m are word line drivers, and 5 1 to
5 n is a driver for the bit line selection signal. 6 is a power supply on the high side of the memory cell, 8 is a power supply node on the low side of the memory cell, 3 nodes are a power supply on the high side of the X decoder and a power supply on the high side of the Y decoder. They are separated and made common. Also, X
The lower power supply nodes of the decoder and the Y decoder are both grounded. Further, in this embodiment, the sum of the through currents in the memory cell array 1 and the sum of the through currents of the NOR circuits in the X decoder and the Y decoder are set to be approximately the same.

本実施例の動作は、従来例と同様であるが、メモリセ
ルアレイとX及びYデコーダが第6図(a)のようにノ
ード8を介して電気的に直列接続されるため、第6図
(b)に示した従来の並列接続に比べ貫通電流は1/2に
なる。また、この貫通電流は時間的に不変であるため、
直列接続しても動作には影響を与えない。
The operation of this embodiment is similar to that of the conventional example, but the memory cell array and the X and Y decoders are electrically connected in series via the node 8 as shown in FIG. The through current is half that of the conventional parallel connection shown in b). Also, since this shoot-through current is time-invariant,
The serial connection does not affect the operation.

なお、上記実施例ではメモリセルアレイにおける貫通
電流の総和とXデコーダ及びYデコーダにおけるNOR回
路の貫通電流の総和を同程度としたが、これらは異なっ
ていてもよい。すなわち、メモリセルアレイにおける貫
通電流の方が多いときは、第7図(a)に示すようにノ
ード8とGNDとの間に電流補償用の電流源41を設けて上
記2種の貫通電流を実質的に同程度とすればよいし、逆
の場合は第7図(b)に示すように電源6とノード8の
間に電流補償用の電流源42を設ければよい。
Although the sum of the through currents in the memory cell array and the sum of the through currents of the NOR circuits in the X decoder and the Y decoder are set to the same level in the above embodiment, they may be different. That is, when there is more shoot-through current in the memory cell array, a current source 41 for current compensation is provided between the node 8 and GND as shown in FIG. However, in the opposite case, a current source 42 for current compensation may be provided between the power source 6 and the node 8 as shown in FIG. 7B.

また上記実施例では、メモリセル及びデコーダのNOR
回路の負荷素子としてノーマリオン型MESFETを用いたも
のを説明したが、抵抗等の他の素子でもよく、上記と同
様の効果を奏する。
Further, in the above embodiment, the NOR of the memory cell and the decoder is
Although the one using the normally-on type MESFET as the load element of the circuit has been described, another element such as a resistor may be used and the same effect as the above is obtained.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上のようにこの発明によれば、X及びYデコーダに
おけるNOR回路の高い側の電源となるノードと、メモリ
セルアレイの低い側の電源となるノードを、共に電源か
ら切り離して共通とすることにより、メモリセルアレイ
とX及びYデコーダとを電気的に直列に接続するように
したので、貫通電流が小さく、動作が安定で、チップサ
イズが小さく高集積化に適したガリウム砒素メモリ装置
が得られる効果がある。
As described above, according to the present invention, the node serving as the high-side power source of the NOR circuit in the X and Y decoders and the node serving as the low-side power source of the memory cell array are separated from the power source and are made common, Since the memory cell array and the X and Y decoders are electrically connected in series, the through current is small, the operation is stable, the chip size is small, and the gallium arsenide memory device suitable for high integration is obtained. is there.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例によるガリウム砒素メモリ装
置の回路ブロック図、第2図は従来のガリウム砒素メモ
リ装置の回路ブロック図、第3図は従来のメモリセルの
回路構成図、第4図は従来のXデコーダの回路構成図、
第5図は従来のYデコーダの回路構成図、第6図(a)
および(b)は、それぞれ本発明実施例および従来にお
ける貫通電流の経路を示す図、第7図は本発明の他の実
施例を示す回路ブロック図である。 1……メモリセルアレイ、2……Xデコーダ、3……Y
デコーダ、41〜4m……ワード線ドライバ、51〜5n……ビ
ット線選択信号のドライバ、6……メモリセルアレイの
電源、7……X及びYデコーダの電源、8……メモリセ
ルの低い側の電源ノード及びXデコーダとYデコーダの
高い側の電源ノード、11,12,15,16,22,24,26,32,34,36
……ノーマリオン型MESFET、13,14,231〜23p,331〜33q
……ノーマリオフ型MESFET、17,18……メモリセルの1
対のストレージノード、19,20……1対のビット線、21,
28……ワード線、X1〜Xp……Xアドレス信号、Y1〜Yq
…Yアドレス信号、25,35……ショットキダイオード、2
7,37……NOR出力ノード、29……第2の電源、30,39……
NOR回路、31……ワード線ドライバ、38……ビット線選
択信号ノード、40……ビット線選択信号のドライバ、4
1,42……電流補償用の電流源。 なお図中同一符号は同一又は相当部分を示す。
FIG. 1 is a circuit block diagram of a gallium arsenide memory device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a circuit block diagram of a conventional gallium arsenide memory device, and FIG. 3 is a circuit configuration diagram of a conventional memory cell. The figure shows the circuit configuration of a conventional X decoder,
FIG. 5 is a circuit configuration diagram of a conventional Y decoder, FIG. 6 (a).
And (b) are diagrams showing the path of the through current in the embodiment of the present invention and the conventional one, respectively, and FIG. 7 is a circuit block diagram showing another embodiment of the present invention. 1 ... Memory cell array, 2 ... X decoder, 3 ... Y
Decoder, 4 1 to 4 m ... word line driver, 5 1 to 5 n ... bit line selection signal driver, 6 ... memory cell array power supply, 7 ... X and Y decoder power supply, 8 ... memory cell Lower power supply node and higher power supply nodes for X decoder and Y decoder, 11,12,15,16,22,24,26,32,34,36
...... Normally type MESFET, 13,14,23 1 to 23 p , 33 1 to 33 q
...... Normally off type MESFET, 17,18 …… 1 of memory cell
Pair of storage nodes, 19, 20 ... Pair of bit lines, 21,
28 …… Word line, X 1 to X p …… X address signal, Y 1 to Y q
… Y address signal, 25,35 …… Schottky diode, 2
7,37 …… NOR output node, 29 …… Second power supply, 30,39 ……
NOR circuit, 31 ... word line driver, 38 ... bit line selection signal node, 40 ... bit line selection signal driver, 4
1,42 …… Current source for current compensation. The same reference numerals in the drawings indicate the same or corresponding parts.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】半絶縁性ガリウム砒素半導体基板上に形成
され、複数のメモリセルと、上記メモリセルを選択する
ためのNOR回路により構成される複数のデコーダ回路を
含むメモリ装置において、 上記複数のメモリセルの全体又は一部が、第1の電源と
第1のノードの間に、上記第1の電源を電流供給源、上
記第1のノードを電流の引き抜きノードとして接続さ
れ、 上記複数のNOR回路の全体又は一部が、上記第1のノー
ドと第2の電源との間に、上記第1のノードを電流供給
源、上記第2の電源を電流の引き抜きノードとして接続
されていることを特徴とするガリウム砒素半導体集積回
路。
1. A memory device comprising: a plurality of memory cells formed on a semi-insulating gallium arsenide semiconductor substrate; and a plurality of decoder circuits each comprising a NOR circuit for selecting the memory cells. All or part of the memory cell is connected between the first power supply and the first node as the current supply source of the first power supply and the first node as a current extraction node, and the plurality of NORs are connected. The whole or part of the circuit is connected between the first node and the second power supply by using the first node as a current supply source and the second power supply as a current extraction node. Characteristic gallium arsenide semiconductor integrated circuit.
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