JP2508841Y2 - フオトマスクブランクス用保持具 - Google Patents
フオトマスクブランクス用保持具Info
- Publication number
- JP2508841Y2 JP2508841Y2 JP1884590U JP1884590U JP2508841Y2 JP 2508841 Y2 JP2508841 Y2 JP 2508841Y2 JP 1884590 U JP1884590 U JP 1884590U JP 1884590 U JP1884590 U JP 1884590U JP 2508841 Y2 JP2508841 Y2 JP 2508841Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- holder
- substrate
- film
- view
- shielding film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1884590U JP2508841Y2 (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | フオトマスクブランクス用保持具 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1884590U JP2508841Y2 (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | フオトマスクブランクス用保持具 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03110439U JPH03110439U (pl) | 1991-11-13 |
JP2508841Y2 true JP2508841Y2 (ja) | 1996-08-28 |
Family
ID=31521988
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1884590U Expired - Lifetime JP2508841Y2 (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | フオトマスクブランクス用保持具 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2508841Y2 (pl) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4803576B2 (ja) * | 2004-09-29 | 2011-10-26 | Hoya株式会社 | マスクブランク用基板、マスクブランク、露光用マスク、半導体デバイスの製造方法、及びマスクブランク用基板の製造方法 |
DE102005046135B4 (de) * | 2004-09-29 | 2017-04-13 | Hoya Corp. | Substrat für Maskenrohling, Maskenrohling, Belichtungsmaske und Herstellungsverfahren für Maskenrohlingssubstrat |
JP4190523B2 (ja) | 2005-07-22 | 2008-12-03 | シャープ産業株式会社 | 応援用打ち鳴らし具 |
JP5393972B2 (ja) * | 2007-11-05 | 2014-01-22 | Hoya株式会社 | マスクブランク及び転写用マスクの製造方法 |
-
1990
- 1990-02-28 JP JP1884590U patent/JP2508841Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH03110439U (pl) | 1991-11-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7976633B2 (en) | Device and method of forming film | |
US20050168718A1 (en) | Apparatus for kinematic registration of a reticle | |
JP2863131B2 (ja) | フォトマスクブランクスの製造方法 | |
JP2508841Y2 (ja) | フオトマスクブランクス用保持具 | |
KR100779956B1 (ko) | 포토마스크 블랭크 및 포토마스크 제조방법 | |
JPH06326174A (ja) | ウェハ真空吸着装置 | |
EP1005065A2 (en) | Method of forming wiring pattern | |
JPH0590391A (ja) | 金属パタン形成用蒸着装置及び蒸着方法 | |
JP2000216233A (ja) | 基板支持チャックにウェ―ハスぺ―シングマスクを製作する方法及び装置 | |
JP6299575B2 (ja) | スパッタリング装置及びスパッタリング方法 | |
KR100526527B1 (ko) | 포토마스크와 그를 이용한 마스크 패턴 형성 방법 | |
JPH01217349A (ja) | ブランク板、ブランク板を用いたフォトマスクおよびそれらの製造方法 | |
US7252911B2 (en) | ESD-resistant photomask and method of preventing mask ESD damage | |
JPH025597Y2 (pl) | ||
JPH042754Y2 (pl) | ||
CN213316699U (zh) | 一种玻璃基版固定装置 | |
US4588379A (en) | Configuration for temperature treatment of substrates, in particular semi-conductor crystal wafers | |
JPS5878151A (ja) | フオトマスク | |
JP2807893B2 (ja) | マスク保持機構 | |
KR20230172838A (ko) | 쌍극형 정전척 캐리어의 제조방법 | |
JPS61262741A (ja) | マスク基板 | |
JPH05275319A (ja) | X線リソグラフィマスクの製造方法およびx線リソグラフィマスク | |
EP0289595A1 (en) | Multilayer resist structure | |
JPH0437293Y2 (pl) | ||
JPH03264664A (ja) | スパッタリングによる被膜形成の改善方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |