JP2508625B2 - Semiconductor laser - Google Patents

Semiconductor laser

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JP2508625B2 JP60191718A JP19171885A JP2508625B2 JP 2508625 B2 JP2508625 B2 JP 2508625B2 JP 60191718 A JP60191718 A JP 60191718A JP 19171885 A JP19171885 A JP 19171885A JP 2508625 B2 JP2508625 B2 JP 2508625B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体レーザー特に化合物半導体レーザー
に係わる。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a semiconductor laser, particularly a compound semiconductor laser.

〔発明の概要〕[Outline of Invention]

本発明は、活性層に隣接して設けられるクラッド層の
少なくとも一方を2元素のみによる化合物薄膜半導体に
よる超格子構造として熱放散を良好にする。
According to the present invention, at least one of the cladding layers provided adjacent to the active layer has a superlattice structure made of a compound thin film semiconductor containing only two elements to improve heat dissipation.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

化合物半導体レーザーにおいては、この発光部、すな
わち活性層で発生する熱を、いかに効率良く外部に放散
させるかによってレーザー特性や、寿命に大きな影響を
与える。
In the compound semiconductor laser, the laser characteristics and the lifetime are greatly affected by how efficiently the heat generated in the light emitting portion, that is, the active layer, is dissipated to the outside.

化合物半導体レーザーとしては、種々の構造のものが
提案されているが、基本的には活性層に隣接してこの活
性層に対してキャリアと光の閉じ込めを行なうクラッド
層が設けられた構造とされる。このクラッド層は、活性
層に比してエネルギーバンドギャップが大で屈折率が小
さく、しかも格子整合のとれた3元もしくは4元混晶の
化合物半導体層によって構成される。例えばAlGaAsの3
元系の半導体レーザーの場合、第3図に示すように、Ga
As基板(1)の1の主面に、AlGaAs層より成る第1のク
ラッド層(2)と、GaAs層より成る活性層(3)と、例
えば第1のクラッド層(2)と同一組成の半導体層より
成る第2のクラッド層(4)と、更にこれの上に例えば
GaAsより成るキャップ層(5)とが順次MOCVD(Metalor
gnic Chemical Vapor Deposition)或いはMBE(Molecul
ar Beam Epitaxy)法等によってエピタキシャル成長さ
れて成る。(6)及び(7)は、GaAs基板(1)の他の
主面とキャップ層(5)とに夫々オーミックに被着され
た電極を示す。電極(7)は、これ自体がヒートシンク
としての機能を有するようになされるとか、これとは別
に設けられたヒートシンク(9)すなわち放熱体に、半
田層(8)によって半田付けされる。
Various types of compound semiconductor lasers have been proposed, but basically, the structure is such that a clad layer for confining carriers and light to the active layer is provided adjacent to the active layer. It This clad layer is composed of a compound semiconductor layer of a ternary or quaternary mixed crystal having a larger energy bandgap and a smaller refractive index than the active layer and having a lattice matching. For example, 3 for AlGaAs
In the case of the original semiconductor laser, as shown in FIG.
On the main surface 1 of the As substrate (1), a first clad layer (2) made of an AlGaAs layer, an active layer (3) made of a GaAs layer, and the same composition as, for example, the first clad layer (2). A second cladding layer (4) consisting of a semiconductor layer, and further on top of this, for example
The GaAs cap layer (5) and MOCVD (Metalor)
gnic Chemical Vapor Deposition) or MBE (Molecul
ar Beam Epitaxy) and the like. (6) and (7) show electrodes which are ohmic-deposited on the other main surface of the GaAs substrate (1) and the cap layer (5), respectively. The electrode (7) is designed to have a function as a heat sink by itself, or is soldered to a heat sink (9), that is, a heat radiator provided separately from the electrode, by a solder layer (8).

このようにクラッド層(2)及び(4)は、例えばAl
GaAsの3元混晶によって構成されてGaAsの活性層に対し
て光及びキャリアの閉じ込めをなすものであるが、熱伝
導等の観点からは、混晶の構成元素数が増加するほど熱
抵抗が増大するので、3元混晶のAlGaAsより成るクラッ
ド層は、熱伝導が低い。そして、この傾向は、GaInAsP
系或いはAlGaInP系の4元素半導体レーザーのようにそ
の混晶の構成元素数が増加するにつれ、より顕著とな
る。
Thus, the clad layers (2) and (4) are made of, for example, Al.
It is composed of a ternary mixed crystal of GaAs to confine light and carriers to the active layer of GaAs. From the viewpoint of heat conduction, the thermal resistance increases as the number of constituent elements of the mixed crystal increases. As a result, the cladding layer made of ternary mixed crystal AlGaAs has low thermal conductivity. And this trend is GaInAsP
It becomes more remarkable as the number of constituent elements of the mixed crystal increases, as in the case of a four-element or AlGaInP-based four-element semiconductor laser.

そして、このように活性層に隣接するクラッド層の熱
伝導が低い場合、動作時における活性層から発生する熱
が効果的に発散されないことによって、活性層の温度上
昇が大となり、発振が害われたり、活性層及びその付近
の結晶に転位の発生や、結晶成長による変成が生じ、レ
ーザー特性の安定性や、寿命の低下を来す。
When the thermal conductivity of the clad layer adjacent to the active layer is low as described above, the heat generated from the active layer during operation is not effectively dissipated, so that the temperature rise of the active layer becomes large and the oscillation is impaired. In addition, dislocations are generated in the active layer and crystals in the vicinity of the active layer, and metamorphosis due to crystal growth occurs, resulting in stability of laser characteristics and shortening of life.

化合物半導体において、2元化合物に更に構成元素を
加えて3元混晶にした場合に、熱伝導率が減少するこ
と、すなわち熱抵抗が増大することは、例えばピー・デ
ィー・メイコック:ソリッド−スティト エレクトロニ
ックス,67 10 161−168(P.D.Maycock;Solid−State El
ectronics,Pergamon Press)でその報告がなされている
通りであり、構成元素によっては1桁以上も、その熱伝
導率が低下する系がある。
In the compound semiconductor, when the ternary mixed crystal is formed by adding the constituent elements to the binary compound, the decrease of the thermal conductivity, that is, the increase of the thermal resistance is caused by, for example, P.D. Electronics, 67 10 161-168 (PDMaycock; Solid-State El
ectronics, Pergamon Press) as reported, and there is a system whose thermal conductivity decreases by more than one digit depending on the constituent elements.

また、化合物半導体中での熱は、主としてフォノンに
よって伝搬されることが知られているが、このフォノン
が種々の原因で散乱されていることが熱導電率を減少さ
せる要因となる。このフォノンの散乱の1つの原因とし
ては、例えばIII−V族化合物半導体についていえば、
そのIII族サイトを2種の元素がランダムに占有してい
るいわゆるディスオーダーリングによる効果がある。
Further, it is known that heat in the compound semiconductor is mainly propagated by phonons, and scattering of the phonons due to various causes is a factor that reduces the thermal conductivity. As one cause of this phonon scattering, for example, in the case of III-V group compound semiconductors,
There is an effect due to so-called disordering in which two kinds of elements randomly occupy the group III site.

そして、フォノンの中でも熱の伝導に関わるのは、主
に群速度が大で、長い平均自由行程を有するLAフォノン
である。
Among the phonons, LA phonons, which have a large group velocity and a long mean free path, are mainly involved in heat conduction.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

本発明は、上述した半導体レーザーにおけるクラッド
層におけるLAフォノンの散乱を減少させ、熱伝導率の向
上をはかって、レーザー特性、寿命の改善をはかるもの
である。
The present invention is intended to reduce the scattering of LA phonons in the cladding layer of the above-mentioned semiconductor laser, improve the thermal conductivity, and improve the laser characteristics and life.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は、例えば第1図に示すように、例えばGaAsよ
り成る基板(11)上に、図示しないが必要に応じて同様
にGaAsのバッファ層を介して順次第1のクラッド層(1
2)、活性層(13)、第2のクラッド層(14)、キャッ
プ層(15)をMOCVD法、MBE法等によって連続エピタキシ
ーする。(16)及び(17)は基板(11)の他の主面とキ
ャップ層(15)とに夫々オーミックに被着された電極を
示す。電極(17)はこれ自体がヒートシンクとしての機
能を有するか、或いは図示にように、他のヒートシンク
(19)に半田層(18)によって半田付けされる。
For example, as shown in FIG. 1, the present invention sequentially forms a first clad layer (1) on a substrate (11) made of, for example, GaAs via a GaAs buffer layer (not shown).
2), the active layer (13), the second cladding layer (14) and the cap layer (15) are continuously epitaxially grown by MOCVD, MBE or the like. Reference numerals (16) and (17) denote electrodes that are ohmic-deposited on the other main surface of the substrate (11) and the cap layer (15), respectively. The electrode (17) itself has a function as a heat sink, or is soldered to another heat sink (19) by a solder layer (18) as shown.

本発明においては、3元系以上のクラッド層による半
導体レーザーにおいて第1及び第2のクラッド層(12)
及び(14)、或いはヒートシンク側の第1のクラッド層
(12)を、最も低次元の2元化合物薄膜半導体層の繰返
し周期的積層構造による超格子構造の半導体層とする。
例えばAlGaAsの3元系半導体レーザーにおいては、これ
より低いAlAsおよびGaAsの各2元のn及びm原子層によ
る薄膜半導体の周期的重ね合せによる(AlAs)(GaA
s)の超格子構造とする。そして、この超格子構造の
クラッド層の組成は、その全体の平均的組成が、その本
来の混晶、例えばAlGaAsにおいて、活性層(13)に対し
て、キャリアと光の閉じ込め効果を奏するに必要なだけ
の活性層(13)に対し所要の屈折率差とエネルギーバン
ドギャップ差、すなわち活性層(3)に比し、小なる屈
折率を有し、大なるエネルギーバンドギャップを有する
組成とほぼ同程度の組成となるように選定し、超格子構
造のクラッド層を構成する2元化合物のLAフォノンの分
散が重なりを有することにより熱伝導率を高めるように
する。
In the present invention, the first and second clad layers (12) are used in a semiconductor laser with a clad layer of ternary system or more.
And (14) or the first clad layer (12) on the heat sink side is a semiconductor layer having a superlattice structure of a repetitive periodic laminated structure of the lowest dimensional binary compound thin film semiconductor layers.
For example, in an AlGaAs ternary semiconductor laser, a lower layer of AlAs and GaAs is formed by periodic superposition of thin film semiconductors by binary n and m atomic layers (AlAs) n (GaA
s) Let m be a superlattice structure. The composition of the clad layer having the superlattice structure is required so that the average composition of the whole is effective for confining carriers and light in the active layer (13) in the original mixed crystal such as AlGaAs. The required refractive index difference and energy band gap difference with respect to the active layer (13), that is, a composition having a smaller refractive index and a larger energy band gap than the active layer (3). The composition is selected so that the LA phonons of the binary compound forming the clad layer of the superlattice structure have overlaps to enhance the thermal conductivity.

〔作用〕[Action]

上述した本発明によれば、クラッド層(12)及び(1
4)の双方または一方のクラッド層(12)を超格子構造
として、混晶の次元を低めたので前述した混晶中のディ
スオーダリングによる散乱が減少し、これによってここ
における熱伝導率が高められる。
According to the present invention described above, the cladding layers (12) and (1
Since both or one of the clad layers (12) has a superlattice structure to reduce the dimension of the mixed crystal, the scattering due to the disordering in the mixed crystal described above is reduced, and the thermal conductivity here is increased. .

しかしながら、異種の半導体の境界面であるヘテロ接
合部において、一方の結晶中を伝搬してきたLAフォノン
が、他方の結晶中へ伝搬する際、2種の結晶のLAフォノ
ンの分散関係に重なりを持たなければ、LAフォノンは散
乱され、伝搬することができない。なぜなら運動量とエ
ネルギーの保存が成り立たないからである。したがっ
て、異種の薄い結晶の周期的に重り合っている超格子に
おいてはヘテロ接合が数多く存在するので、LAフォノン
の伝搬についての考察がなされなければないないが、例
えば上述したAlAs層とGaAs層との周期的重ね合せによる
超格子(AlAs)(GaAs)系では両半導体層AlAsと、
GaAsとにおけるLAフォノンの分散関数が殆んど重なり合
っているので、上述したこれに関するLAフォノンの散乱
については特に問題は生じない。そして、他の系につい
てみても、超格子構造を構成する異種の半導体層におい
て夫々LAフォノンの分散曲線が例えば第2図中曲線(2
1)及び(22)に示すように異なっていても、超格子構
造における特長のいわゆるゾーン・フォルディング(zo
ne folding)により、各分散曲線が1/(n+m)にたた
まれており、 同図中左端に夫々分散曲線(21)及び(22)のゾーン
・フォルディング後の状態を鎖線及び破線で模式的に示
したように、(n+m)=8で重なりを持つことが示さ
れ、LAフォノンは散乱されずに伝搬できることになる。
したがって本発明構成による半導体レーザーでは活性層
(13)に隣接するクラッド層において単原子層すなわち
n+m=2からn+m=8において熱伝導度が高められ
例えばヒートシンク(9)に向って効率良い熱の伝達に
よる放熱がなされる。
However, at the heterojunction, which is the interface between different types of semiconductors, when the LA phonons propagating in one crystal propagate into the other crystal, there is an overlap in the LA phonon dispersion relationship between the two crystals. Without it, LA phonons are scattered and cannot propagate. This is because momentum and energy cannot be conserved. Therefore, since there are many heterojunctions in a superlattice of different kinds of thin crystals that are periodically overlapped, it is necessary to consider the propagation of LA phonons. In the superlattice (AlAs) n (GaAs) m system by the periodic superposition of
Since the LA phonon dispersion functions of GaAs and GaAs almost overlap each other, there is no particular problem with respect to the LA phonon scattering described above. In other systems as well, the dispersion curves of LA phonons in the different semiconductor layers forming the superlattice structure are, for example, the curves (2
Although different as shown in 1) and (22), the so-called zone folding (zo
Each of the dispersion curves is folded into 1 / (n + m) by ne folding, and the state after the zone folding of the dispersion curves (21) and (22) is shown in the left end of the figure with a chain line and a broken line, respectively. It is shown that there is an overlap at (n + m) = 8, which means that LA phonons can propagate without being scattered.
Therefore, in the semiconductor laser according to the present invention, the thermal conductivity is increased in the monoatomic layer, that is, n + m = 2 to n + m = 8 in the cladding layer adjacent to the active layer (13), and the heat is efficiently transferred to, for example, the heat sink (9). The heat is released by.

〔実施例〕〔Example〕

第1図を参照して本発明の一例を詳説に説明する。 An example of the present invention will be described in detail with reference to FIG.

基板(11)は1の導電型の例えばN型のGaAs基板より
構成する。
The substrate (11) is composed of a GaAs substrate of one conductivity type, for example, N type.

第1のクラッド層(12)は、基板(11)と同導電型を
有し、AlAsのn原子層の薄膜半導体層とGaAsのm原子層
の薄膜半導体層との繰返えし積層による周期的重ね合せ
による(AlAs)(GaAs)(2≦n+m≦8)の超格
子構造とする。
The first cladding layer (12) has the same conductivity type as that of the substrate (11), and has a cycle formed by repeating and stacking a thin film semiconductor layer of an n-atom layer of AlAs and a thin film semiconductor layer of a m-atom layer of GaAs. A superlattice structure of (AlAs) n (GaAs) m (2 ≦ n + m ≦ 8) is obtained by the selective superposition.

活性層(13)は、GaAs層によって構成する。 The active layer (13) is composed of a GaAs layer.

第2のクラッド層(14)は、第1のクラッド層(12)
と同様の組成及び構造の超格子とするも第1のクラッド
層(12)とは異る導電型の例えばP型とする。
The second cladding layer (14) is the first cladding layer (12)
The superlattice has the same composition and structure as the above, but has a conductivity type different from that of the first cladding layer (12), for example, P type.

キャップ層(15)は、第1のクラッド層(14)と同導
電型のP型のGaAs層によって構成する。
The cap layer (15) is composed of a P-type GaAs layer having the same conductivity type as the first cladding layer (14).

そして、破線図示のように、キャップ層(15)側から
中央部をストライプ状に残し、その左右に選択的に第2
のクラッド層(14)に至る深さに亘ってプロトン等のイ
オン注入を行って例えば高比抵抗の電流狭窄領域(20)
を形成し、その後電極(16)及び(17)を被着し、電極
(17)側をヒートシンク(19)に半田層(18)によって
半田付けする。
Then, as shown by the broken line, the central portion is left in a stripe shape from the cap layer (15) side, and the second portion is selectively provided on the left and right sides thereof.
By implanting ions such as protons to a depth reaching the clad layer (14) of, for example, a current confinement region (20) having a high specific resistance.
After that, the electrodes (16) and (17) are adhered, and the electrode (17) side is soldered to the heat sink (19) by the solder layer (18).

尚、上述した例では、AlGaAsの3元系半導体レーザー
に本発明を適用した場合であるが、4元系の例えばGaIn
AsP系の半導体レーザーに適用することもでき、この場
合においては(GaAs)(InP)▲(Gap) ▼▲
(InAs) ▼(順不同)の超格子構造によってクラッ
ド層を構成する。またAlGaInP系の半導体レーザーに適
用する場合においては(AlP)(GaP)(InP)
2元化合物薄膜半導体の超格子構造とする。
In the example described above, the present invention is applied to an AlGaAs ternary semiconductor laser, but a quaternary semiconductor such as GaIn is used.
It can also be applied to an AsP semiconductor laser, in which case (GaAs) n (InP) m ▲ (Gap) ' n ▼ ▲
The cladding layer is composed of a superlattice structure of (InAs) ' m ▼ (in no particular order). When applied to an AlGaInP-based semiconductor laser, a superlattice structure of a binary compound thin film semiconductor of (AlP) l (GaP) m (InP) n is used.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

上述したように本発明によれば、活性層に隣接するク
ラッド層の少くとも一方を最も低次元の2元系薄膜半導
体による超格子構造としてその熱伝導率を高めるように
したので、活性層(13)とその近傍部の温度上昇を効果
的に回避でき、これによって、レーザーの特性、安定
性、寿命の改善がはかられ、更に例えばAlGaInP系の短
波長領域の室温での連続発振が可能な半導体レーザーの
構成を可能にする。
As described above, according to the present invention, at least one of the clad layers adjacent to the active layer is made to have a superlattice structure of the lowest dimensional binary thin film semiconductor to enhance its thermal conductivity. 13) and the temperature rise in the vicinity of it can be effectively avoided, thereby improving the laser characteristics, stability, and lifetime, and further, for example, continuous oscillation at room temperature in the short wavelength region of AlGaInP system is possible. Enables the construction of various semiconductor lasers.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明による半導体レーザーの一例の略線的拡
大断面図、第2図は本発明の説明に供するLAフォノンの
分散曲線図、第3図は従来の半導体レーザーの略線的拡
大断面図である。 (11)は基板、(12)及び(14)は第1及び第2のクラ
ッド層、(13)は活性層、(15)はキャップ層、(16)
及び(17)は電極、(20)は電流狭窄領域である。
1 is an enlarged schematic sectional view of an example of a semiconductor laser according to the present invention, FIG. 2 is a dispersion curve diagram of LA phonons used for explaining the present invention, and FIG. 3 is an enlarged schematic sectional view of a conventional semiconductor laser. It is a figure. (11) is a substrate, (12) and (14) are first and second cladding layers, (13) is an active layer, (15) is a cap layer, and (16).
And (17) are electrodes, and (20) is a current constriction region.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 池田 昌夫 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソ ニー株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−130878(JP,A) 特開 昭57−152178(JP,A) 特開 昭61−244086(JP,A) 特開 昭61−234587(JP,A) 特開 昭61−131414(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── --- Continuation of the front page (72) Masao Ikeda Inventor Masao Ikeda 6-35 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Within Sony Corporation (56) References JP-A-60-130878 (JP, A) JP-A-SHO 57-152178 (JP, A) JP 61-244086 (JP, A) JP 61-234587 (JP, A) JP 61-131414 (JP, A)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】活性層に接して設けられるクラッド層の少
なくとも一方を、それぞれ2元化合物の薄膜半導体のみ
の周期的積層による超格子構造のクラッド層によって構
成し、 該超格子構造のクラッド層は、その平均組成が上記活性
層に対し所要のバンドギャップ差と屈折率差とを有し、
上記活性層にキャリアと光の閉じ込め効果を奏し得る3
元系以上の混晶の組成と同程度の組成に選定され、 該超格子構造によるクラッド層のゾーンフォルディング
分散曲線が2≦n+m≦8にたたまれていることによ
り、LAフォノンの分散に重なりを有せしめて熱伝導率を
高めて成ることを特徴とする半導体レーザー。
1. A clad layer having a superlattice structure, wherein at least one of the clad layers provided in contact with the active layer is a superlattice structure clad layer formed by periodic stacking of only thin film semiconductors of a binary compound. , Its average composition has a required band gap difference and refractive index difference with respect to the active layer,
Carrier and light confinement effect can be achieved in the active layer 3
The composition is selected to be similar to that of the mixed crystal of the original system and above, and the zone-folding dispersion curve of the cladding layer with the superlattice structure is folded to 2 ≦ n + m ≦ 8, which results in the dispersion of LA phonons. A semiconductor laser characterized by being formed by overlapping so as to increase thermal conductivity.
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