JP2653986B2 - Semiconductor laser - Google Patents

Semiconductor laser

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体レーザー特に4
元系化合物半導体レーザーに係わる。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention
Related to the original compound semiconductor laser.

【0002】[0002]

【従来の技術】化合物半導体レーザーにおいては、その
発光部、すなわち活性層で発生する熱を、いかに効率良
く外部に放散させるかによってレーザー特性や、寿命に
大きな影響を与える。
2. Description of the Related Art In a compound semiconductor laser, how efficiently heat generated in a light emitting portion thereof, that is, an active layer is radiated to the outside, which has a great influence on laser characteristics and life.

【0003】化合物半導体レーザーとしては、種々の構
造のものが提案されているが、基本的には図3に示すよ
うに、活性層3に隣接してこの活性層3に対してエネル
ギーバンドギャップが大で屈折率が小さくキャリアと光
の閉じ込めを行ないしかも格子整合のとれたクラッド層
2及び4が設けられた構造とされる。
Various types of compound semiconductor lasers have been proposed. Basically, as shown in FIG. 3, an energy band gap is provided between the active layer 3 and the active layer 3 as shown in FIG. The structure is such that the cladding layers 2 and 4 are large, have a small refractive index, confine carriers and light, and are lattice-matched.

【0004】例えば、AlGaInP4元系半導体レー
ザの場合、GaAs基板1の1の主面に、AlGaIn
P4元混晶の化合物半導体層による第1のクラッド層2
と、GaInP層より成る活性層3と、第1のクラッド
層2と同一組成の半導体層より成る第2のクラッド層4
と、更にこれの上に例えばGaAsより成るキャップ層
5とが順次MOCVD(Metalorgnic Chemical Vapor D
eposition)或いはMBE(Molecular Beam Epitaxy)法
等によってエピタキシャル成長されて成る。6及び7
は、GaAs基板1の他の主面とキャップ層5とにそれ
ぞれオーミックに被着された電極を示す。電極7は、こ
れ自体がヒートシンクとしての機能を有するようになさ
れるとか、これとは別に設けられたヒートシンク9すな
わち放熱体に、半田層8によって半田付けされる。
For example, in the case of an AlGaInP quaternary semiconductor laser, an AlGaInP
First cladding layer 2 of compound semiconductor layer of P quaternary mixed crystal
An active layer 3 composed of a GaInP layer; and a second cladding layer 4 composed of a semiconductor layer having the same composition as the first cladding layer 2.
And a cap layer 5 made of, for example, GaAs are successively formed thereon by MOCVD (Metalorgnic Chemical Vapor D).
(eposition) or MBE (Molecular Beam Epitaxy). 6 and 7
Denotes electrodes that are ohmic-coated on the other main surface of the GaAs substrate 1 and the cap layer 5, respectively. The electrode 7 itself has a function as a heat sink, or is soldered to a heat sink 9, that is, a radiator provided separately from the electrode 7 by a solder layer 8.

【0005】このようにクラッド層2及び4は、例えば
AlGaInPの4元混晶によって構成されてGaAs
の活性層に対して光及びキャリアの閉じ込めをなすもの
であるが、熱伝導等の観点からは、混晶の構成元素数が
増加するほど熱抵抗が増大するので、4元混晶のAlG
aInPより成るクラッド層は、熱伝導が低い。
As described above, the cladding layers 2 and 4 are made of, for example, a quaternary mixed crystal of AlGaInP and are made of GaAs.
However, from the viewpoint of heat conduction and the like, the thermal resistance increases as the number of constituent elements of the mixed crystal increases, so that the quaternary mixed crystal AlG
The cladding layer made of aInP has low thermal conductivity.

【0006】そして、このように活性層に隣接するクラ
ッド層の熱伝導が低い場合、動作時における活性層から
発生する熱が効果的に発散されないことによって、活性
層の温度上昇が大となり、発振が害われたり、活性層及
びその付近の結晶に転位の発生や、結晶成長による変化
が生じ、レーザー特性の安定性や、寿命の低下を来し、
特に上述した4元系の例えばAlGaInP系等の短波
長発振レーザーにおいては室温連続発振を阻害する。
When the heat conduction of the cladding layer adjacent to the active layer is low, the heat generated from the active layer during operation is not effectively dissipated. Is disturbed, and dislocations occur in the active layer and the crystals in the vicinity thereof, and changes due to crystal growth occur, resulting in stability of laser characteristics and shortening of life,
In particular, the above-described quaternary short-wavelength oscillation laser such as an AlGaInP laser inhibits continuous oscillation at room temperature.

【0007】化合物半導体において、2元化合物に更に
構成元素を加えて3元混晶にした場合に、熱伝導率が減
少すること、すなわち熱抵抗が増大することは、例えば
ピー・ディー・メイコック:ソリッド−スティト エレ
クトロニックス,67 10161−168(P.D. May
cock;Solid-State Electronics, Pergamon Press)でそ
の報告がなされている通りであり、構成元素によっては
1桁以上も、その熱伝導率が低下する系がある。
In a compound semiconductor, when a binary compound is further added with a constituent element to form a ternary mixed crystal, a decrease in thermal conductivity, that is, an increase in thermal resistance is caused by, for example, P.D. Solid-State Electronics, 67 10161-168 (PD May
cock; Solid-State Electronics, Pergamon Press), and there are systems whose thermal conductivity is reduced by more than one digit depending on the constituent elements.

【0008】また、化合物半導体中での熱は、主として
フォノンによって伝搬されることが知られているが熱伝
導率を減少させる要因となる。このフォノンの散乱の1
つの原因としては、例えばIII−V族化合物半導体に
ついていえば、そのIII族サイトを2種の元素がラン
ダムに占有しているいわゆるディスオーダーリングによ
る効果がある。
[0008] It is known that heat in a compound semiconductor is mainly transmitted by phonons, but it is a factor of reducing thermal conductivity. 1 of this phonon scattering
One cause is, for example, in the case of III-V compound semiconductors, there is an effect of so-called disordering in which two elements are randomly occupied in the group III site.

【0009】そして、フォノンの中でも熱の伝導に係わ
るものは、主に群速度が大で、長い平均自由行程を有す
るLAフォノンである。
[0009] Among phonons, those relating to heat conduction are LA phonons mainly having a large group velocity and a long mean free path.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した半
導体レーザー特に例えば短波長発振を行なうAlGaI
nP等の4元系半導体レーザーにおけるクラッド層にお
けるLAフォノンの散乱を減少させ、熱伝導率の向上を
はかって、レーザー特性、寿命の改善、室温連続発振を
可能にするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to the above-described semiconductor laser, particularly, for example, an AlGaI which performs short-wavelength oscillation.
The purpose of the present invention is to reduce LA phonon scattering in the cladding layer of a quaternary semiconductor laser such as nP and improve thermal conductivity, thereby improving laser characteristics, lifetime, and continuous oscillation at room temperature.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、いわゆる4元
系半導体レーザー例えばAlGaInP系半導体レーザ
ーにおいて、例えば図1に示すように、活性層13に接
して設けられるクラッド層12及び14の少くとも一方
が、3元系混晶の例えばAlInP及びGaInPの各
薄膜半導体の周期的積層による超格子構造の4元系クラ
ッド層によって構成する。
The present invention relates to a so-called quaternary semiconductor laser such as an AlGaInP semiconductor laser, for example, as shown in FIG. 1, wherein at least the cladding layers 12 and 14 provided in contact with the active layer 13 are provided. One is composed of a quaternary clad layer having a superlattice structure formed by periodically laminating thin film semiconductors of ternary mixed crystals, for example, AlInP and GaInP.

【0012】そして、この超格子構造のクラッド層は、
その平均組成が活性層13に対し所要のバンドギャップ
差と屈折率差とを有し、活性層13にキャリアと光の閉
じ込め効果を奏し得る上述の4元系の混晶の組成と同程
度の組成に選定されて成る構成とする。
The cladding layer having the super lattice structure has
The average composition thereof has a required band gap difference and a refractive index difference with respect to the active layer 13, and is approximately the same as the above-described quaternary mixed crystal composition capable of exhibiting the effect of confining carriers and light in the active layer 13. The composition is selected according to the composition.

【0013】[0013]

【作用】上述した本発明によれば、クラッド層12及び
14の双方または一方のクラッド層12を超格子構造と
して、混晶の次元を低めたので前述した混晶中のディス
オーダリングによる散乱が減少し、これによってここに
おける熱伝導率が高められる。
According to the present invention described above, both or one of the cladding layers 12 and 14 have a superlattice structure to reduce the dimension of the mixed crystal, so that the scattering due to disordering in the mixed crystal is reduced. This increases the thermal conductivity here.

【0014】しかしながら、異種の半導体の境界面であ
るヘテロ接合部において、一方の結晶中を伝搬してきた
LAフォノンが、他方の結晶中へ伝搬する際、2種の結
晶のLAフォノンの分散関係に重なりを持たなければ、
LAフォノンは散乱され、伝搬することができない。な
ぜなら運動量とエネルギーの保存が成り立たないからで
ある。したがって、異種の薄い結晶の周期的に重なり合
っている超格子においてはヘテロ接合が数多く存在する
ので、LAフォノンの伝搬についての考察がなされなけ
ればならないが、例えば各3元のAlInP層とGaI
nP層とのn及びm原子層による薄膜半導体の周期的重
ね合せによる超格子(AlInP)n (GaInP)m
系では、両半導体層AlInPとGaInPとにおける
LAフォノンの分散関係が殆ど重なり合っているので、
上述したこれに関するLAフォノンの散乱については特
に問題は生じない。そして、他の系についてみても、超
格子構造を構成する異種の半導体層においてそれぞれL
Aフォノンの分散曲線が例えば図2中曲線21及び22
に示すように異なっていても、超格子構造における特長
のいわゆるゾーン・フォルディング(zone folding)に
より、各分散曲線が1/(n+m)にたたまれており、
同図中左端にそれぞれ分散曲線21及び22のゾーン・
フォルディング後の状態を鎖線及び破線で模式的に示し
たように、重なりを持つことになるので、LAフォノン
は散乱されずに伝搬できることになる。したがって本発
明構成による半導体レーザーでは活性層13に隣接する
クラッド層において熱伝導度が高められ例えばヒートシ
ンク9に向って効率良い熱の伝達による放熱がなされ
る。
However, at the heterojunction, which is the interface between different types of semiconductors, when the LA phonon propagating in one crystal propagates into the other crystal, the LA phonon dispersion relation of the two types of crystals is changed. If there is no overlap,
LA phonons are scattered and cannot propagate. This is because momentum and energy cannot be conserved. Therefore, since there are many heterojunctions in the periodically superposed superlattice of different thin crystals, consideration must be given to the propagation of LA phonons. For example, each ternary AlInP layer and GaI
Superlattice (AlInP) n (GaInP) m by periodic superposition of thin film semiconductor with n and m atomic layers with nP layer
In the system, since the dispersion relation of LA phonons in both semiconductor layers AlInP and GaInP almost overlaps,
There is no particular problem regarding the LA phonon scattering related to the above. As for other systems, L is different in different types of semiconductor layers constituting the superlattice structure.
The dispersion curves of the A phonons are, for example, curves 21 and 22 in FIG.
Even though they are different from each other, each dispersion curve is folded down to 1 / (n + m) by so-called zone folding which is a feature of the superlattice structure.
Zones of dispersion curves 21 and 22 are shown at the left end in FIG.
Since the folded state is overlapped as schematically shown by a chain line and a broken line, the LA phonon can propagate without being scattered. Therefore, in the semiconductor laser according to the present invention, the thermal conductivity is increased in the cladding layer adjacent to the active layer 13 and, for example, heat is radiated to the heat sink 9 by efficient heat transmission.

【0015】[0015]

【実施例】図1を参照して本発明の一例を詳細に説明す
る。本発明においては、4元系の第1及び第2のクラッ
ド層12及び14、或いはヒートシンク側の第1のクラ
ッド層12を、これより低次元混晶の3元混晶の薄膜半
導体層の繰返し周期的積層構造による超格子構造の半導
体層とする。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG. In the present invention, the quaternary first and second cladding layers 12 and 14 or the first cladding layer 12 on the heat sink side are formed by repeating a lower-dimensional mixed crystal ternary mixed crystal thin film semiconductor layer. The semiconductor layer has a superlattice structure with a periodic lamination structure.

【0016】本発明をAlGaInPの4元系半導体レ
ーザーに適用する場合について説明する。この場合、例
えばn型のGaAsより成る基板11上に、図示しない
が必要に応じて同様にGaAsのバッファ層を介して順
次n型の第1のクラッド層12、活性層13、p型の第
2のクラッド層14、p型のキャップ層15をMOCV
D法、MBE法等によって連続エピタキシーする。16
及び17は基板11の他の主面とキャップ層15とにそ
れぞれオーミックに被着された電極を示す。電極17は
これ自体がヒートシンクとしての機能を有するか、或い
は図示のように、他のヒートシンク19に半田層18に
よって半田付けされる。
The case where the present invention is applied to an AlGaInP quaternary semiconductor laser will be described. In this case, an n-type first cladding layer 12, an active layer 13, and a p-type first cladding layer 12 are sequentially formed on a substrate 11 made of, for example, n-type GaAs through a buffer layer of GaAs, if necessary, though not shown. 2 and the p-type cap layer 15 are MOCV
Continuous epitaxy is performed by D method, MBE method or the like. 16
Reference numerals 17 and 17 denote electrodes which are ohmicly attached to the other main surface of the substrate 11 and the cap layer 15, respectively. The electrode 17 itself has a function as a heat sink, or is soldered to another heat sink 19 by a solder layer 18 as shown.

【0017】活性層13およびキャップ層15、従来の
AlGaInPの4元系半導体レーザーにおけると同様
に、活性層13はGaInPにより、キャップ層はGa
Asによって構成する。
As in the case of the active layer 13 and the cap layer 15 and the conventional AlGaInP quaternary semiconductor laser, the active layer 13 is made of GaInP and the cap layer is made of Ga.
It is constituted by As.

【0018】そして、特に本発明構成では、その第1お
よび(または)第2のクラッド層12および(または)
14を、それぞれ、AlInPおよびGaInPの各3
元のn及びm原子層による薄膜半導体の周期的重ね合せ
による(AlInP)n (GaInP)m の超格子構造
とする。そして、この超格子構造のクラッド層の組成
は、その全体の平均的組成が、その本来の混晶、この例
ではAlGaInPにおいて、活性層13に対して、キ
ャリアと光の閉じ込め効果を奏するに必要なだけの活性
層13に対し所要の屈折率差とエネルギーバンドギャッ
プ差を有する組成とはほぼ同程度の組成となるように選
定する。
In the structure of the present invention, the first and / or second cladding layers 12 and / or
14 for AlInP and GaInP, respectively.
A superlattice structure of (AlInP) n (GaInP) m is formed by periodic superposition of thin film semiconductors with the original n and m atomic layers. The composition of the cladding layer having the superlattice structure is such that the average composition of the whole is required to exhibit the effect of confining carriers and light with respect to the active layer 13 in the original mixed crystal, in this example, AlGaInP. The composition having the required refractive index difference and the required energy band gap difference with respect to a certain amount of the active layer 13 is selected to be substantially the same.

【0019】そして、破線図示のように、キャップ層1
5側から中央部をストライプ状に残し、その左右に選択
的に第2のクラッド層14に至る深さに亘ってプロトン
等のイオン注入を行って例えば高比抵抗の電流狭窄領域
20を形成し、その後電極16及び17を被着し、電極
17側をヒートシンク19に半田層18によって半田付
けする。
Then, as shown by the broken line, the cap layer 1
The central portion is left in a stripe shape from the fifth side, and ions such as protons are selectively implanted to the left and right over a depth reaching the second cladding layer 14 to form, for example, a high-resistivity current confinement region 20. Thereafter, the electrodes 16 and 17 are attached, and the electrode 17 side is soldered to the heat sink 19 by the solder layer 18.

【0020】尚、上述した例では、AlGaInPの4
元系半導体レーザーに本発明を適用した場合であるが、
他の4元系の例えばGaInAsP系の半導体レーザー
に適用することもでき、この場合においても少なくとも
一方のクラッド層を3元混晶の超格子構造のクラッド層
となし得る。
Incidentally, in the above-described example, the AlGaInP 4
This is the case where the present invention is applied to the original semiconductor laser,
The present invention can also be applied to other quaternary semiconductor lasers such as a GaInAsP semiconductor laser. In this case, at least one of the cladding layers can be formed as a ternary mixed crystal superlattice structure.

【0021】[0021]

【発明の効果】上述したように本発明によれば、いわゆ
る4元系の半導体レーザーにおいて、その活性層に隣接
するクラッド層の少くとも一方を、4元に比して低次元
の3元の化合物薄膜半導体の超格子構造としてその熱伝
導率を高め、LAフォノンの散乱の低減化をはかるよう
にしたので、活性層13とその近傍部の温度上昇を効果
的に回避でき、これによって、4元系レーザーで特に問
題となる前述の特性の安定性、寿命の改善がはかられ、
更に例えばAlGaInP系の短波長領域の室温での連
続発振が可能な半導体レーザーの構成を可能にする。
As described above, according to the present invention, in a so-called quaternary semiconductor laser, at least one of the cladding layers adjacent to the active layer has a lower dimensional ternary than the quaternary. Since the thermal conductivity of the compound thin film semiconductor is increased as a superlattice structure to reduce the scattering of LA phonons, the temperature rise of the active layer 13 and the vicinity thereof can be effectively avoided. The stability of the above-mentioned characteristics, which are particularly problematic in the primary laser, and the improvement of the life,
Further, for example, it is possible to configure a semiconductor laser capable of continuous oscillation at room temperature in an AlGaInP-based short wavelength region.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による半導体レーザーの一例の略線的拡
大断面図。
FIG. 1 is a schematic enlarged cross-sectional view of an example of a semiconductor laser according to the present invention.

【図2】本発明の説明に供するLAフォノンの分散曲線
図。
FIG. 2 is a dispersion curve diagram of LA phonons used for explaining the present invention.

【図3】従来の半導体レーザーの略線的拡大断面図。FIG. 3 is a schematic enlarged cross-sectional view of a conventional semiconductor laser.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 基板 12,14 第1及び第2のクラッド層 13 活性層 15 キャップ層 16,17 電極 20 電流狭窄領域 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Substrate 12, 14 1st and 2nd cladding layer 13 Active layer 15 Cap layer 16, 17 Electrode 20 Current constriction area

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森 芳文 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソ ニー株式会社内 (72)発明者 池田 昌夫 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソ ニー株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−51282(JP,A) ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Yoshifumi Mori Inventor, 6-7-35 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Inside Sony Corporation (72) Inventor Masao Ikeda 7-35, Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Inside Sony Corporation (56) References JP-A-62-51282 (JP, A)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 活性層に接して設けられるクラッド層の
少くとも一方が、3元系混晶による薄膜半導体の周期的
積層による超格子構造の4元系クラッド層によって構成
され、 該超格子構造のクラッド層は、その平均組成が上記活性
層に対し所要のバンドギャップ差と屈折率差とを有し上
記活性層にキャリアと光の閉じ込め効果を奏し得る上記
4元系の混晶の組成と同程度の組成に選定されて成り、
上記4元系の混晶のみによるクラッド層に比し熱伝導率
が高められたことを特徴とする半導体レーザー。
At least one of the cladding layers provided in contact with the active layer is constituted by a quaternary cladding layer having a superlattice structure formed by periodically laminating thin film semiconductors made of a ternary mixed crystal, and The quaternary mixed crystal whose average composition has a required band gap difference and a refractive index difference with respect to the active layer and has a carrier and light confinement effect in the active layer. It is selected to have the same composition,
A semiconductor laser having a higher thermal conductivity than a cladding layer made of only the quaternary mixed crystal.
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