JP2506919B2 - Development device - Google Patents
Development deviceInfo
- Publication number
- JP2506919B2 JP2506919B2 JP63076324A JP7632488A JP2506919B2 JP 2506919 B2 JP2506919 B2 JP 2506919B2 JP 63076324 A JP63076324 A JP 63076324A JP 7632488 A JP7632488 A JP 7632488A JP 2506919 B2 JP2506919 B2 JP 2506919B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- tank
- developing
- roller
- developing solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、感光部を有する基板を現像する現像装置の
改良に係る。The present invention relates to an improvement of a developing device for developing a substrate having a photosensitive portion.
[従来の技術] 一般に、半導体や液晶表示装置等の現像工程は次のよ
うになされている。すなわち、所定のパターンによって
露光された感光部を有する基板に現像液が散布され、一
定時間、前記基板の表面に対して均等に現像処理(現像
液の定着)がなされる。その後、前記基板の表面より現
像液が切られた後、更にその基板の表面に付着している
現像液が洗浄液によって洗い流される。このような現像
工程では、従来より、以下のような現像装置が使用され
てきた。[Prior Art] Generally, a developing process of a semiconductor, a liquid crystal display device or the like is performed as follows. That is, the developing solution is sprayed on the substrate having the photosensitive portion exposed by the predetermined pattern, and the developing treatment (fixing of the developing solution) is uniformly performed on the surface of the substrate for a certain time. Then, after the developing solution is removed from the surface of the substrate, the developing solution adhering to the surface of the substrate is further washed away by the cleaning solution. In such a developing process, conventionally, the following developing devices have been used.
すなわち、第4図及び第5図に示すように現像装置1
は、基板2に現像液4を散布する現像処理槽6、基板2
に現像液4を定着させるバッファ槽7、及び基板2を任
意の手段により洗浄する水洗槽8が順に設けられてな
り、前記各槽は床に対して垂直に設けられた二枚の平行
な塩化ビニール板から形成された支持板9によって貫通
されている。なお、この支持板9には、基板をガイドす
るフランジ3aを有する搬送ローラ3が回動自在に配設さ
れている。また、現像処理槽6の下部には、現像液4の
満たされたタンク16が配置されている。That is, as shown in FIG. 4 and FIG.
Is a processing tank 6 for spreading the developing solution 4 on the substrate 2, the substrate 2
Is sequentially provided with a buffer tank 7 for fixing the developing solution 4 and a water washing tank 8 for washing the substrate 2 by an arbitrary means. Each of the tanks is provided with two parallel chlorides provided vertically to the floor. It is pierced by a support plate 9 formed of a vinyl plate. A transport roller 3 having a flange 3a for guiding the substrate is rotatably arranged on the support plate 9. A tank 16 filled with the developing solution 4 is disposed below the development processing tank 6.
現像処理槽6には、搬送ローラ3の下部において両側
から中央部に向かって下方向へ傾きを有する床部6aが設
けられている。この床部6aの最深部から下方に向かっ
て、前記タンク16に接続されるパイプ13bが垂直に接続
されている。また、現像処理槽6内の搬送ローラ3の上
部には、現像液4を基板2に噴射するノズル5が搬送ロ
ーラ3の搬送方向に沿って等間隔に配置されている。こ
のノズル5は、前記タンク16から伸びるパイプ13aに接
続されている。すなわち、パイプ13aは、搬送ローラ3
及び現像処理槽6の床部6aより下部に設置されるバルブ
14及びポンプ15を介して、タンク16に接続されている。The development processing tank 6 is provided with a floor 6a below the transport roller 3 and having a downward inclination from both sides toward the center. A pipe 13b connected to the tank 16 is vertically connected downward from the deepest part of the floor 6a. Further, nozzles 5 for ejecting the developing solution 4 onto the substrate 2 are arranged at equal intervals above the transport roller 3 in the developing treatment tank 6 along the transport direction of the transport roller 3. The nozzle 5 is connected to a pipe 13a extending from the tank 16. That is, the pipe 13a is the conveyance roller 3
And a valve installed below the floor 6a of the development tank 6.
It is connected to the tank 16 via 14 and the pump 15.
支持板9の上縁部には、第5図に示すように、搬送方
向について等間隔に切欠き9bが形成されており、この切
欠き9bには軸受9aが設けられている。搬送ローラ3の両
端部は、前記軸受9aに回動自在に係合されている。な
お、搬送ローラ3の軸の一方側の(第5図中右側)端部
は、軸受9aを貫通して支持板9の外方に突出し、この突
出部分に搬送ローラ3と同方向に回転するベベルギヤ10
が固定されている。そして、このベベルギヤ10には、搬
送ローラ3と直行方向に回転するベベルギヤ11が噛み合
わされている。このベベルギヤ11は、支持板9に平行に
近接して配置される駆動軸12に固定されており、駆動装
置(図示せず)によって駆動される。なお、搬送ローラ
3は前述のとおり軸受9aを介して支持板9に直交、且つ
搬送方向について等間隔に設置されているが、この時、
各搬送ローラ3は、基板2が搬送ローラ3間の隙間に落
下しないように充分に近接して設けられている。As shown in FIG. 5, notches 9b are formed in the upper edge portion of the support plate 9 at equal intervals in the carrying direction, and bearings 9a are provided in the notches 9b. Both ends of the transport roller 3 are rotatably engaged with the bearing 9a. It should be noted that one end (right side in FIG. 5) of the shaft of the transport roller 3 penetrates the bearing 9a and projects to the outside of the support plate 9, and the projection roller rotates in the same direction as the transport roller 3. Bevel gear 10
Has been fixed. The bevel gear 10 is meshed with a bevel gear 11 that rotates in the orthogonal direction with the conveying roller 3. The bevel gear 11 is fixed to a drive shaft 12 arranged in parallel and close to the support plate 9, and is driven by a drive device (not shown). As described above, the transport rollers 3 are installed at right angles to the support plate 9 via the bearings 9a and at equal intervals in the transport direction.
The transport rollers 3 are provided sufficiently close to each other so that the substrate 2 does not drop into the gap between the transport rollers 3.
以上のように従来の現像装置1は、搬送ローラ3及び
支持板9などが搬送系統を、ノズル5、パイプ13、バル
ブ14、ポンプ15及びタンク16などが現像液の回収及び供
給系統を構成しており、以下のような作用を有するもの
である。すなわち、搬送ローラ3によって装置内に搬送
された基板2には、まず現像処理槽6内で、ノズル5に
よって現像液4が基板2上に吹き付けられる。この時、
基板2に付着する以外の現像液4は、現像処理槽6の床
部6aにおいて形成される傾きによってその最深部へと流
れ、タンク16に回収される。次に、現像処理された基板
2はバッファ槽7へ搬送され、定着処理される。そし
て、基板2は水洗槽8へ搬送され、余分は現像液4が洗
い流されて現像工程が終了する。As described above, in the conventional developing device 1, the conveying roller 3, the support plate 9, and the like constitute a conveying system, and the nozzle 5, the pipe 13, the valve 14, the pump 15, the tank 16, and the like constitute a developer collecting and supplying system. And has the following actions. That is, first, the developing solution 4 is sprayed onto the substrate 2 by the nozzles 5 in the developing treatment tank 6 on the substrate 2 transported into the apparatus by the transporting roller 3. This time,
The developer 4 other than that attached to the substrate 2 flows to the deepest part due to the inclination formed in the floor 6 a of the development processing tank 6 and is collected in the tank 16. Next, the developed substrate 2 is conveyed to the buffer tank 7 and fixed. Then, the substrate 2 is conveyed to the water washing tank 8 and the excess of the developing solution 4 is washed away, and the developing process is completed.
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、上記のような従来技術において、次の
ような課題があった。[Problems to be Solved by the Invention] However, the above-described conventional techniques have the following problems.
すなわち、現像処理槽6において現像液4が吹き付け
られた基板2がバッファ槽7へ搬送される際、その基板
2上には多量の現像液4が付着されたままの状態で搬送
される。したがって、現像処理が大量に行なわれた場
合、このようなバッファ槽7への現像液4の持出しは現
像処理の量に比例して増加するため、現像液4の全体消
費量自体の大幅な増加を招いていた。しかも、バッファ
槽7において、基板2上に必要現像液量を超えて多量の
現像液4が付着されたままであると、現像過多が起こり
易く、その結果、現像むらの原因となっていた。That is, when the substrate 2 sprayed with the developing solution 4 in the development processing tank 6 is transferred to the buffer tank 7, a large amount of the developing solution 4 is transferred onto the substrate 2 while being transferred. Therefore, when a large amount of the developing process is performed, the carry-out of the developing solution 4 into the buffer tank 7 increases in proportion to the amount of the developing process, so that the total consumption amount of the developing solution 4 itself significantly increases. Was invited. Moreover, in the buffer tank 7, if a large amount of the developing solution 4 remains attached on the substrate 2 in excess of the required developing solution amount, overdevelopment is likely to occur, resulting in uneven development.
一方、水洗槽8において基板2が洗浄される際にも、
基板2に適量以上の現像液4が付着された場合、その分
洗浄液も多量に必要となっていた。しかも、洗浄液とし
ては、基板2の現像パターンを壊さないよう高価な純水
が使用されることが多いため、結果的にコスト高を招い
ていた。On the other hand, even when the substrate 2 is washed in the washing tank 8,
When the proper amount or more of the developing solution 4 is attached to the substrate 2, a large amount of the cleaning solution is required accordingly. Moreover, as the cleaning liquid, expensive pure water is often used so as not to destroy the development pattern of the substrate 2, resulting in high cost.
本発明は、上記のような現像液及び洗浄液の浪費を招
く現像処理槽からの現像液の持出しを防止して、経済的
に有利であり、同時に適切な現像処理を行うことが可能
な信頼性の高い現像装置を提供することを目的とするも
のである。INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention prevents the developer from being taken out of the development processing tank, which wastes the developer and the cleaning solution as described above, and is economically advantageous. It is an object of the present invention to provide a developing device having high cost.
[課題を解決するための手段] 以上のような従来技術の課題を解決するために、本発
明の現像装置は、表面に感光部を形成する基板を搬送さ
せ、この基板に対して現像液の散布、定着及び水洗処理
を行う現像装置において、現像液が散布された基板を同
一方向に搬送させる複数本の搬送ローラと、搬送ローラ
間に上下動可能に配置された基板の支持手段と、この支
持手段を、搬送ローラより上方において、搬送ローラの
一端部側を下方に位置させるように傾斜させる傾斜手段
と、を備えたことを特徴とする。[Means for Solving the Problems] In order to solve the problems of the prior art as described above, the developing device of the present invention conveys a substrate on the surface of which a photosensitive portion is formed, and a developing solution is applied to the substrate. In a developing device for spraying, fixing and washing with water, a plurality of transport rollers for transporting a substrate on which a developing solution is sprayed in the same direction, and a substrate supporting means arranged vertically movable between the transport rollers, Inclination means for inclining the support means above the transport roller so that one end portion side of the transport roller is positioned below is provided.
[作用] 以上のような構成を有する本発明の作用は次の通りで
ある。[Operation] The operation of the present invention having the above configuration is as follows.
すなわち、現像液が散布された基板が、搬送ローラに
よって支持手段の上方に水平状態で搬送される。そし
て、傾斜手段によって、支持手段が基板を保持した状態
で搬送ローラ間から上方に移動され、前記搬送ローラの
一端部側が下方に位置するように傾斜される。この時、
支持手段上の基板は搬送ローラの上方において傾斜さ
れ、基板上に付着した過剰現像液が流れ落ちる。その
後、傾斜手段によって、支持板が下方に移動されて水平
状態に戻される。これに伴って、基板が搬送ローラ上に
戻され、水平状態で再び搬送される。That is, the substrate on which the developing solution has been sprayed is transported horizontally above the support means by the transport roller. Then, by the tilting means, the supporting means holds the substrate and moves upward from between the transport rollers, and the one end side of the transport rollers is tilted so as to be positioned downward. This time,
The substrate on the supporting means is tilted above the transport roller, and the excess developer adhering to the substrate flows down. After that, the supporting plate is moved downward and returned to the horizontal state by the inclining means. Along with this, the substrate is returned onto the transport roller and is transported again in the horizontal state.
[実施例] 以上説明したような本発明の一実施例を第1図乃至第
3図に基づいて具体的に説明する。なお、従来例と同様
の部材については、同じ符号を付し、説明を省略する。[Embodiment] An embodiment of the present invention as described above will be specifically described with reference to FIGS. 1 to 3. The same members as those in the conventional example are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.
*実施例の構成* 本実施例の現像装置17は、第2図に示すようバッファ
槽7において、搬送ローラ3の間から下方に基板支持手
段Xとその傾斜手段Yが配置されるものであり、このバ
ッファ槽7の床部にはタンク16に接続されるパイプ13c
が配置されている。* Structure of Embodiment * In the developing device 17 of this embodiment, as shown in FIG. 2, in the buffer tank 7, the substrate supporting means X and its inclining means Y are arranged below the space between the transport rollers 3. , A pipe 13c connected to the tank 16 on the floor of the buffer tank 7.
Is arranged.
基板支持手段Xは支持板9の内側に設けられて、上部
に搬送ローラ3と平行なシャフト18が固定される保持枠
200と、保持枠200内部において前記シャフト18に貫通さ
れて支持された直方体の保持部材19から構成される。The substrate supporting means X is provided inside the supporting plate 9 and has a holding frame on which a shaft 18 parallel to the conveying roller 3 is fixed.
200, and a rectangular parallelepiped holding member 19 that is supported by being penetrated by the shaft 18 inside the holding frame 200.
保持枠200は、第2図に示されるように、支持板9と
平行な左右の側板20と、前記すべての側板20の下部が連
結固定される1枚の底板21からなる。そして、左右の側
板20の側面形状は、第1図に示すように4本の各搬送ロ
ーラ3の間にある3つの隙間の下方に挿入されているよ
うな櫛形形状をなし、且つその上部にはシャフト18の両
端部が固定される。また、保持部材19は、側板20の上部
かつ搬送ローラ3側(以下、内側と称する。)に配置さ
れ、その下部がシャフト18によって搬送ローラ3の軸方
向についてスライド自在に貫通される。この保持部材19
の上端面には、搬送ローラ3の軸と直行する軸を有して
水平方向に回転自在なローラ19aが設けられ、内側の側
面には、搬送ローラ3と平行な軸を有して搬送ローラ3
と同方向に回動自在なローラ19bが設けられる。そし
て、ローラ19aは搬送ローラ3の上方に位置するよう
に、ローラ19bは搬送ローラ3とほぼ同高位になるよう
に配置される。なお、ローラ19aとローラ19bの高位の差
は、基板2の厚みよりも厚くなるように設けられる。As shown in FIG. 2, the holding frame 200 is composed of left and right side plates 20 parallel to the support plate 9 and one bottom plate 21 to which the lower parts of all the side plates 20 are connected and fixed. The side surfaces of the left and right side plates 20 are comb-shaped so that they are inserted below the three gaps between the four conveying rollers 3 as shown in FIG. Both ends of the shaft 18 are fixed. The holding member 19 is arranged on the upper side of the side plate 20 and on the side of the conveying roller 3 (hereinafter referred to as the inner side), and the lower portion thereof is penetrated by the shaft 18 so as to be slidable in the axial direction of the conveying roller 3. This holding member 19
A roller 19a having an axis orthogonal to the axis of the transport roller 3 and rotatable in the horizontal direction is provided on the upper end surface of the, and the inner side surface of the roller 19a has an axis parallel to the transport roller 3. Three
A roller 19b is provided which is rotatable in the same direction as. The roller 19a is located above the transport roller 3, and the roller 19b is located substantially at the same level as the transport roller 3. The difference between the high positions of the rollers 19a and 19b is set to be thicker than the thickness of the substrate 2.
傾斜手段Yは、上記保持枠200の底板21の下面に固定
される前後一対のブラケット22と、第2図においてブラ
ケット22および基板保持部Xをその右側が下方になるよ
うに傾斜させるリンク機構Aと、支持板9を介してリン
ク機構Aと接続されるシリンダ28から構成される。The tilting means Y is a link mechanism A for tilting the pair of front and rear brackets 22 fixed to the lower surface of the bottom plate 21 of the holding frame 200, and the bracket 22 and the substrate holding portion X in FIG. And a cylinder 28 connected to the link mechanism A via the support plate 9.
ブラケット22は、底板21の下面において一方の支持板
9寄り(第2図中では右側)に、前後2つ設置される。
すなわち、各ブラケット22は搬送ローラ3の軸方向につ
いて平行に配置され、ブラケット22の搬送ローラ3の軸
方向についての長さは底板21の半分程度に設定されてい
る。そして、各ブラケット22の両端には、この2つのブ
ラケット22によって支持された軸22a,22bが取り付けら
れている。軸22a,22bには、長リンク23a,短リンク23bの
上端が連結されている。この長リンク23a,短リンク23b
の下端は、バッファ槽7の床部Fに配置された係止片24
a,24bに回動自在に取り付けられている。また、長リン
ク23aの中間部分には、中間リンク23cの一端部が回動自
在に連結されている。Two brackets 22 are provided on the lower surface of the bottom plate 21 near the one support plate 9 (on the right side in FIG. 2), front and rear.
That is, the brackets 22 are arranged parallel to each other in the axial direction of the transport roller 3, and the length of the bracket 22 in the axial direction of the transport roller 3 is set to about half of the bottom plate 21. The shafts 22a and 22b supported by the two brackets 22 are attached to both ends of each bracket 22. The upper ends of the long link 23a and the short link 23b are connected to the shafts 22a and 22b. This long link 23a, short link 23b
The lower end of the locking piece 24 is located on the floor F of the buffer tank 7.
It is rotatably attached to a and 24b. Further, one end of the intermediate link 23c is rotatably connected to the intermediate portion of the long link 23a.
シリンダ28は伸縮自在のロッド26を有し、ブラケット
22側近傍の支持板9に対してリンク機構Aと反対側に配
置される。ロッド26は、前記支持板9(第2図中では右
側)の下部に取付けられた軸受27を介して前記短リンク
23bの中間部分と回動自在に連結されている。また、ロ
ッド26の先端側は、バッファ槽7の床部Fに配置された
固定片25を貫通して支持され、さらにその先端中間リン
ク23cに回動自在に取り付けられている。Cylinder 28 has expandable rod 26 and bracket
It is arranged on the side opposite to the link mechanism A with respect to the support plate 9 near the 22 side. The rod 26 is connected to the short link via a bearing 27 attached to a lower portion of the support plate 9 (right side in FIG. 2).
It is rotatably connected to the intermediate portion of 23b. The tip side of the rod 26 penetrates and is supported by a fixing piece 25 arranged on the floor F of the buffer tank 7, and is rotatably attached to the tip intermediate link 23c thereof.
第1図に示されるように、バッファ槽7における両側
壁部7aの搬送ローラ3上方には、基板2の検出が可能な
センサ29が設けられており、このセンサ29は、シリンダ
28と電気的に接続されている。また、バッファ槽7の床
部に設けられるパイプ13cは、本実施例中においてはブ
ラケット22の下方に位置するよう設定されている。As shown in FIG. 1, a sensor 29 capable of detecting the substrate 2 is provided above the conveying rollers 3 on both side wall portions 7a of the buffer tank 7, and the sensor 29 is a cylinder.
It is electrically connected to 28. The pipe 13c provided on the floor of the buffer tank 7 is set so as to be located below the bracket 22 in this embodiment.
*実施例の作用* 以上のような構成を有する本実施例の作用を第2図に
基づいて説明する。* Operation of Embodiment * The operation of the present embodiment having the above-described configuration will be described with reference to FIG.
即ち、搬送ローラ3によってバッファ槽7に水平状態
で送り込まれた基板2がセンサ間に位置すると、センサ
29が感応し、シリンダ28が作動されてロッド26がリンク
23方向に伸び、中間リンク23cが図中左方向へ押圧され
る。この時、ロッド26は短リンク23bとの連結部分を、
中間リンク23cは長リンク23aとの連結部分を上昇させる
ように移動される。よって、長リンク23a及び短リンク2
3bは、係止片24a,24bを支点に図中左方向に回動され
る。ロッド26の駆動により軸22a,22bが描く軌跡は、そ
れぞれ長リンク23a及び短リンク23bの長さを半径とする
円弧であるため、ロッド26が駆動された時、軸22aの方
が22bより上方に移動される。したがって、短リンク23b
が係合するブラケット22の外側端部はわずかに上昇し、
長リンク23aが係合するブラケット22の内側端部は大き
く上昇する。これに伴って、保持枠200と一体化されて
いるシャフト18および保持部材19が、ブラケット22の取
り付けられた側を下方して傾斜され、基板2も同様に傾
斜される。なお、この時基板2は保持部材19の上端面に
設けられたローラ19aによって保持される。そして、基
板2上に付着している現像液4は図中右側に流れ落ち、
パイプ13aを通ってタンク16に回収される。そして、一
定の時間が経過すると、シリンダ28が駆動されて、ロッ
ド26が縮み、リンク23が折たたまれるように元の位置に
移動される。これに伴って、基板が搬送ローラ上に戻さ
れ、水平状態で再び搬送される。That is, when the substrate 2 horizontally fed into the buffer tank 7 by the transport roller 3 is positioned between the sensors, the sensor
29 is actuated, cylinder 28 is activated and rod 26 is linked.
It extends in the 23 direction and the intermediate link 23c is pressed to the left in the figure. At this time, the rod 26 connects the connecting portion with the short link 23b,
The intermediate link 23c is moved so as to raise the connecting portion with the long link 23a. Therefore, long link 23a and short link 2
3b is rotated leftward in the figure with the locking pieces 24a, 24b as fulcrums. The trajectories drawn by the shafts 22a and 22b by driving the rod 26 are arcs with the lengths of the long link 23a and the short link 23b as radii, so when the rod 26 is driven, the shaft 22a is higher than 22b. Be moved to. Therefore, short link 23b
The outer end of the bracket 22 engaged by is slightly raised,
The inner end portion of the bracket 22 with which the long link 23a engages greatly moves up. Along with this, the shaft 18 and the holding member 19 integrated with the holding frame 200 are tilted downward with the side where the bracket 22 is attached, and the substrate 2 is also tilted. At this time, the substrate 2 is held by the roller 19a provided on the upper end surface of the holding member 19. Then, the developing solution 4 attached on the substrate 2 flows down to the right side in the drawing,
It is collected in the tank 16 through the pipe 13a. Then, after a lapse of a certain time, the cylinder 28 is driven, the rod 26 is contracted, and the link 23 is moved to the original position so as to be folded. Along with this, the substrate is returned onto the transport roller and is transported again in the horizontal state.
*実施例の効果* 本実施例における基板2の傾斜装置は、以上のように
3つのリンク片が連結されて構成されているため、リン
ク23が係合するブラケット22がぶれることが少なく、安
定感をもって基板2を傾斜させることができる。さら
に、ブラケット22を底板21の下面に2つ設置すること
で、基板2をさらに安定的に傾斜させることができる。* Effects of the embodiment * Since the tilting device for the substrate 2 in this embodiment is configured by connecting the three link pieces as described above, the bracket 22 with which the link 23 engages is less likely to shake and is stable. The substrate 2 can be tilted with a feeling. Further, by installing two brackets 22 on the lower surface of the bottom plate 21, the board 2 can be more stably tilted.
また、基板2は、その傾斜時に保持部材19の上端面に
設けられたローラ19aによって保持されるため、現像液
4とともに滑り落ちることがない。しかも、基板2が傾
斜された際に下方側となる縁部も搬送ローラ3よりも上
昇するため、搬送ローラ3の端部にも現像液4がふりか
かることがなく、現像液4が搬送ローラ3に付着してそ
の摩擦係数を低下させることによって生じる搬送ローラ
3の空転を防止することもできる。Further, since the substrate 2 is held by the roller 19a provided on the upper end surface of the holding member 19 when the substrate 2 is inclined, it does not slide down together with the developer 4. Moreover, when the substrate 2 is tilted, the edge portion on the lower side also rises above the transport roller 3, so that the developer 4 does not splash on the end portion of the transport roller 3 and the developer 4 transports the developer 4. It is also possible to prevent idling of the transport roller 3 caused by the adhesion to the roller 3 and the reduction of its friction coefficient.
さらに、搬送ローラ3は傾斜せずに水平な状態で設け
られているので基板2は基本的に水平状態で搬送され、
バッファ槽7に設けられた傾斜装置により傾斜されるこ
とによって余分な現像液4が基板2上から落とされ、そ
の現像液4は回収されて現像処理槽6における循環的な
現像液の供給系統へもどされる。したがって、基板2は
水平状態のままでを現像処理がなされるために現像むら
が防止され、さらに高価な現像液の効果的な回収も可能
となる。また、それに伴って、水洗槽8に搬送される基
板2に付着している現像液も少なくなるため、基板を洗
浄する際にも貴重な純水である洗浄水の節約が達成され
る等経済的にも優れている。Further, since the transport roller 3 is provided in a horizontal state without tilting, the substrate 2 is basically transported in a horizontal state,
Excessive developer 4 is dropped from the substrate 2 by being tilted by a tilting device provided in the buffer tank 7, and the developer 4 is collected and is supplied to a circulating developer supply system in the development processing tank 6. Will be returned. Therefore, since development processing is performed while the substrate 2 is in the horizontal state, uneven development is prevented, and more expensive developer can be effectively collected. Further, along with this, the amount of the developer adhering to the substrate 2 conveyed to the water washing tank 8 decreases, so that cleaning water, which is valuable pure water, can be saved when cleaning the substrate. Is also excellent.
なお、本実施例の現像装置1では、前述のとおり、搬
送中の基板2を上方にて保持すると同時にその表面から
現像液を切るため、バッファ槽7や水洗槽8の省スペー
ス化、および洗浄時間の短縮化も可能となる。また、本
実施例において基板支持手段Xと傾斜手段Y等はバッフ
ァ槽7に配置されたが、現像処理槽6に配置することも
可能である。この場合、現像装置1はより一層小形化さ
れることは言うまでもない。As described above, in the developing device 1 of the present embodiment, the substrate 2 being conveyed is held above, and the developing solution is cut off from the surface thereof at the same time. Therefore, space saving of the buffer tank 7 and the washing tank 8 and cleaning are performed. The time can be shortened. Further, in the present embodiment, the substrate supporting means X, the tilting means Y and the like are arranged in the buffer tank 7, but they may be arranged in the developing processing tank 6. In this case, it goes without saying that the developing device 1 is further miniaturized.
[発明の効果] 以上述べたように、本発明の現像装置では、搬送ロー
ラ間に上下動可能に配置された基板の支持手段が、傾斜
手段によって搬送ローラより上方において、搬送ローラ
の一端部側を下方に位置させるように傾斜されるため、
処理むらが起こることのないように水平状態で既に現像
液が散布された基板から過剰な現像液を回収することが
可能となる。したがって、処理むらのない適切な現像処
理を行いつつ、現像液及び洗浄液の浪費を招く現像処理
槽からの現像液の持出しを防止するという、信頼性が高
くかつ経済的に有利な現像装置を提供することができ
る。[Advantages of the Invention] As described above, in the developing device of the present invention, the supporting means for the substrate, which is vertically movable between the transport rollers, is located above the transport roller by the tilting means and is located at one end side of the transport roller. Is tilted to position
It becomes possible to recover the excess developer from the substrate on which the developer has already been sprayed in a horizontal state so that processing unevenness does not occur. Accordingly, a reliable and economically advantageous developing device is provided, which prevents the developer from being taken out of the development processing tank, which causes waste of the developing solution and the cleaning solution, while performing appropriate development processing without processing unevenness. can do.
第1図は本実施例の要部側面図、第2図は本実施例の要
部正面図、第3図は本実施例の側面図、第4図は従来例
の側面図、第5図は従来例の正面図である。 1……現像装置、2……基板、3……搬送ローラ、4…
…現像液、5……ノズル、6……現像処理槽、7……バ
ッファ槽、8……水洗槽、9……支持板、10……ベベル
ギヤ、11……ベベルギヤ、12……駆動軸、13……パイ
プ、14……バルブ、15……ポンプ、16……タンク、17…
…現像装置、18……シャフト、19……保持部材、20……
側板、21……底板、22……ブラケット、23……リンク、
24……係止片、25……固定片、26……ロッド、27……軸
受、28……シリンダ、29……センサ。FIG. 1 is a side view of an essential part of the present embodiment, FIG. 2 is a front view of an essential part of the present embodiment, FIG. 3 is a side view of the present embodiment, FIG. 4 is a side view of a conventional example, and FIG. [Fig. 4] is a front view of a conventional example. 1 ... Developing device, 2 ... Substrate, 3 ... Conveying roller, 4 ...
... Developer, 5 ... Nozzle, 6 ... Development processing tank, 7 ... Buffer tank, 8 ... Washing tank, 9 ... Support plate, 10 ... Bevel gear, 11 ... Bevel gear, 12 ... Drive shaft, 13 ... pipe, 14 ... valve, 15 ... pump, 16 ... tank, 17 ...
… Developing device, 18 …… Shaft, 19 …… Holding member, 20 ……
Side plate, 21 …… bottom plate, 22 …… bracket, 23 …… link,
24 …… Locking piece, 25 …… Fixing piece, 26 …… Rod, 27 …… Bearing, 28 …… Cylinder, 29 …… Sensor.
Claims (1)
この基板に対して現像液の散布、定着及び水洗処理を行
う現像装置において、 現像液が散布された基板を同一方向に搬送させる複数本
の搬送ローラと、 前記搬送ローラ間に上下動可能に配置された基板の支持
手段と、 前記支持手段を、前記搬送ローラより上方において、前
記搬送ローラの一端部側を下方に位置させるように傾斜
させる傾斜手段と、 を備えたことを特徴とする現像装置。1. A substrate on which a photosensitive portion is formed is conveyed on a surface,
In a developing device for spraying, fixing and washing a developing solution on this substrate, a plurality of transport rollers for transporting the substrate sprayed with the developing solution in the same direction and a vertically movable arrangement between the transport rollers And a tilting means for tilting the supporting means so as to position one end side of the carrying roller downward above the carrying roller. .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63076324A JP2506919B2 (en) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | Development device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63076324A JP2506919B2 (en) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | Development device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01250958A JPH01250958A (en) | 1989-10-05 |
JP2506919B2 true JP2506919B2 (en) | 1996-06-12 |
Family
ID=13602183
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63076324A Expired - Lifetime JP2506919B2 (en) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | Development device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2506919B2 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4523498B2 (en) * | 2005-06-27 | 2010-08-11 | 東京エレクトロン株式会社 | Development processing apparatus and development processing method |
CN108873625B (en) * | 2018-05-28 | 2021-11-05 | 华灿光电(浙江)有限公司 | Developing device in photoetching process for manufacturing light-emitting diode chip |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5366301U (en) * | 1976-11-05 | 1978-06-03 |
-
1988
- 1988-03-31 JP JP63076324A patent/JP2506919B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH01250958A (en) | 1989-10-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2506919B2 (en) | Development device | |
JP3851462B2 (en) | Substrate processing equipment | |
JP4643384B2 (en) | Substrate processing apparatus and processing method | |
JP2003112951A (en) | Apparatus for cleaning glass sheet | |
JP2006245125A (en) | Substrate treatment apparatus and method therefor | |
JP3987362B2 (en) | Substrate processing equipment | |
JP2005343639A (en) | Substrate conveyance device and conveyance method | |
JP4452033B2 (en) | Substrate transfer apparatus and transfer method | |
JPH0217096B2 (en) | ||
JP2000049206A (en) | Substrate treating apparatus | |
JPH0649956B2 (en) | Substrate surface treatment method | |
JP2004153033A (en) | Substrate processing apparatus | |
TWI809603B (en) | Substrate conveying device, developing device, and developing method | |
JPH09129702A (en) | Substrate-surface processing apparatus | |
JP2000200958A (en) | Apparatus and method for reversing printed wiring board | |
JPH026446Y2 (en) | ||
JPS63121050A (en) | Photosensitive material treatment device for maintaining specified level of processing liquid stored in processing liquid tank | |
JP2001080738A (en) | Substrate conveyance device and substrate processing device | |
JP2001188211A (en) | Developing device for electrode substrate for liquid crystal display element | |
JPH1110096A (en) | Substrate treating device | |
JP2003306226A (en) | Substrate processing device and processing method | |
JP2002338041A (en) | Method and device for treating substrate | |
JPH0241632Y2 (en) | ||
US6942401B2 (en) | Photographic processing system having a vertical stacker arrangement | |
JP2000284454A (en) | Film processor |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |