JP2502155B2 - 共役系有機ポリマ―の製造方法 - Google Patents
共役系有機ポリマ―の製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明は、共役系有機ポリマーの製造方法に関し、さ
らに詳しくは、光照射により酸または酸化剤を生成する
光感応性物質の存在下で、光照射により得ることができ
るような共役系有機ポリマーの製造方法に関する。
らに詳しくは、光照射により酸または酸化剤を生成する
光感応性物質の存在下で、光照射により得ることができ
るような共役系有機ポリマーの製造方法に関する。
発明の技術的背景 長い共役鎖を有する共役系有機ポリマーは、半導電性
あるいは導電性を示し、また特異な電気化学的特性、電
気光学的特性、非線形光学特性を示すため、電子工学、
電気光学、電池、センサ、非線形光学などの分野におけ
る用途が期待されている。しかしながら現在までに多く
の共役系有機ポリマーが知られているが、いずれも多く
の解決すべき問題点が残っている。
あるいは導電性を示し、また特異な電気化学的特性、電
気光学的特性、非線形光学特性を示すため、電子工学、
電気光学、電池、センサ、非線形光学などの分野におけ
る用途が期待されている。しかしながら現在までに多く
の共役系有機ポリマーが知られているが、いずれも多く
の解決すべき問題点が残っている。
たとえば、膜状に成形でき、しかも導電性を示す共役
系有機ポリマーとしては、ポリアセチレンCH＝CHm
が知られており、このポリアセチレンはたとえば米国特
許第4,204,216号明細書および同第4,222,903号明細書に
詳しく記載されている。しかしこのポリアセチレンは、
一般に空気中で不安定であり実用には適さなかった。
系有機ポリマーとしては、ポリアセチレンCH＝CHm
が知られており、このポリアセチレンはたとえば米国特
許第4,204,216号明細書および同第4,222,903号明細書に
詳しく記載されている。しかしこのポリアセチレンは、
一般に空気中で不安定であり実用には適さなかった。
一方空気中で安定であり、しかも加工性に優れた共役
系有機ポリマーとして、ポリアリレンビニレン系の共役
系ポリマーが知られている。
系有機ポリマーとして、ポリアリレンビニレン系の共役
系ポリマーが知られている。
この共役系有機ポリマーは、下記式［Ａ］あるいは
［Ａ′］で示される前駆体ポリマーを膜状あるいは繊維
状に成形した後、これを200〜250℃の温度で不活性ガス
雰囲気下あるいは真空下に加熱することによって得られ
ることが知られている。
［Ａ′］で示される前駆体ポリマーを膜状あるいは繊維
状に成形した後、これを200〜250℃の温度で不活性ガス
雰囲気下あるいは真空下に加熱することによって得られ
ることが知られている。
ところが上記のような方法によって膜状あるいは繊維
状のポリアリレンビニレンを得ようとすると、前駆体ポ
リマーの加熱分解時にカルボニル基が残存することがあ
り、このため、共役系有機ポリマーの特性たとえば光学
的特性に悪影響が認められることがあった。
状のポリアリレンビニレンを得ようとすると、前駆体ポ
リマーの加熱分解時にカルボニル基が残存することがあ
り、このため、共役系有機ポリマーの特性たとえば光学
的特性に悪影響が認められることがあった。
発明の目的 本発明は、上記のような従来技術に伴う問題点を解決
しようとするものであって、加工性および化学的安定性
に優れるとともに純度が高く、したがって導電性、電気
光学特性などに優れた共役系有機ポリマーを比較的低温
で簡便に製造する方法を提供することを目的としてい
る。
しようとするものであって、加工性および化学的安定性
に優れるとともに純度が高く、したがって導電性、電気
光学特性などに優れた共役系有機ポリマーを比較的低温
で簡便に製造する方法を提供することを目的としてい
る。
発明の概要 このような目的を達成するために本発明に係る共役系
有機ポリマーの製造方法は、 光照射により酸または酸化剤を生成する光感応性物質
の存在下に、 一般式 （式中R1は水酸基、アルコキシ基、または で表わされるアシロキシ基で、R2はアルキル基、水素の
一部あるいは全部をＦで置換したアルキル基、フェニル
基であり、ｎは２以上の整数、Arはアリレーン基を表わ
す）で示される前駆体ポリマーを光照射下で反応させる
ことを特徴としている。
有機ポリマーの製造方法は、 光照射により酸または酸化剤を生成する光感応性物質
の存在下に、 一般式 （式中R1は水酸基、アルコキシ基、または で表わされるアシロキシ基で、R2はアルキル基、水素の
一部あるいは全部をＦで置換したアルキル基、フェニル
基であり、ｎは２以上の整数、Arはアリレーン基を表わ
す）で示される前駆体ポリマーを光照射下で反応させる
ことを特徴としている。
本発明では、一般式［Ｉ］で示される前駆体ポリマー
を、好ましくは一般式［Ｉ］で示される前駆体ポリマー
を膜状に形成し、光照射により酸または酸化剤を生成す
る光感応物質の存在下に、光照射下で反応させて共役系
有機ポリマーを製造しているので、共役系有機ポリマー
を従来よりも低温で簡便に得ることができるとともに、
照射光パターンにしたがう導電性高分子のパターンを極
めて容易に形成させることができる。
を、好ましくは一般式［Ｉ］で示される前駆体ポリマー
を膜状に形成し、光照射により酸または酸化剤を生成す
る光感応物質の存在下に、光照射下で反応させて共役系
有機ポリマーを製造しているので、共役系有機ポリマー
を従来よりも低温で簡便に得ることができるとともに、
照射光パターンにしたがう導電性高分子のパターンを極
めて容易に形成させることができる。
発明の具体的説明 以下本発明に係る共役系有機ポリマーの製造方法につ
いて具体的に説明する。
いて具体的に説明する。
本発明に係る共役系有機ポリマーを製造するには、下
記式［Ｉ］で示される前駆体ポリマーが用いられる。
記式［Ｉ］で示される前駆体ポリマーが用いられる。
式中、R1は水酸基、または−OCH3、−OC2H5、−OC3H7
等のアルコキシ基、または で表わされるアシロキシ基であり、 ここでR2は−CH3、−C2H5、−C3H7等のアルキル基、、
−CH2F、−C2H4F、−CF3等の水素の一部あるいは全部を
Ｆで置換したアルキル基、フェニル基であり、 ｎは２以上の整数を表わし、好ましくは10〜10000で
ある。また、Arはアリレーン基を表わし、具体的には、
チエニレン基 フェニレン基 等が挙げられる。
等のアルコキシ基、または で表わされるアシロキシ基であり、 ここでR2は−CH3、−C2H5、−C3H7等のアルキル基、、
−CH2F、−C2H4F、−CF3等の水素の一部あるいは全部を
Ｆで置換したアルキル基、フェニル基であり、 ｎは２以上の整数を表わし、好ましくは10〜10000で
ある。また、Arはアリレーン基を表わし、具体的には、
チエニレン基 フェニレン基 等が挙げられる。
ここで、R7〜R12は、それぞれ独立に、水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基である。
ロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基である。
このような前駆体ポリマーは、下記のような反応経路
によって合成することができる。
によって合成することができる。
上記式において、Ｙはハロゲン原子またはハロゲン化
物イオンであり、Ｙがハロゲン化物である場合には、Y-
は化合物［IV］、［IV′］および［Ｖ］、［Ｖ′］中で
他のイオンで交換されうる。
物イオンであり、Ｙがハロゲン化物である場合には、Y-
は化合物［IV］、［IV′］および［Ｖ］、［Ｖ′］中で
他のイオンで交換されうる。
式［IV′］で表わされる化合物としては具体的には、
たとえば、 が挙げられ、この場合、式［Ｖ′］で表わされる化合物
としては、具体的には、 で表わされる化合物が挙げられる。
たとえば、 が挙げられ、この場合、式［Ｖ′］で表わされる化合物
としては、具体的には、 で表わされる化合物が挙げられる。
なお上記式［Ｖ］で示される化合物あるいは上記式
［Ｉ］で示される前駆体ポリマーの製造方法は、それぞ
れ特開昭61-148231号公報およびPolymer Preprints,Jap
an,Vol 37,No,10（1988）,P3161〜3163に記載されてい
る。
［Ｉ］で示される前駆体ポリマーの製造方法は、それぞ
れ特開昭61-148231号公報およびPolymer Preprints,Jap
an,Vol 37,No,10（1988）,P3161〜3163に記載されてい
る。
上記式［Ｉ］で示される前駆体ポリマーとしては、た
とえば、 等を例示することができる。
とえば、 等を例示することができる。
上記式［Ｉ］で示される前駆体ポリマーは、有機溶媒
に可溶であって、この前駆体ポリマーを溶解した溶液
を、石英ガラスなどの基板上にスピンコート法あるいは
キャスティング法などによって塗布することにより、前
駆体ポリマーを膜状に成形することができる。
に可溶であって、この前駆体ポリマーを溶解した溶液
を、石英ガラスなどの基板上にスピンコート法あるいは
キャスティング法などによって塗布することにより、前
駆体ポリマーを膜状に成形することができる。
上記のような前駆体ポリマーを溶解しうる有機溶媒と
しては、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジメチル
ホルムアミド、ジクロルメタン、1,2−ジクロルエタ
ン、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、ジ
オキサン、メチルイソブチルケトンなどが用いられる。
しては、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジメチル
ホルムアミド、ジクロルメタン、1,2−ジクロルエタ
ン、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、ジ
オキサン、メチルイソブチルケトンなどが用いられる。
本発明では、上記のような前駆体ポリマーを光照射ま
たは電子線照射により酸または酸化剤を生成する光感応
性物質の存在下に、光照射下で反応させることにより下
記式［II］で示される共役系有機ポリマーを製造してい
る。
たは電子線照射により酸または酸化剤を生成する光感応
性物質の存在下に、光照射下で反応させることにより下
記式［II］で示される共役系有機ポリマーを製造してい
る。
Ar−CH＝CHn …［II］ （式中、Arおよびｎは上記［Ｉ］式と同じである） 本発明において使用する光感応性物質としては、酸化
物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオ
ン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロヒ（IV）酸イオ
ン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン
（Ｖ）酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン（Ｖ）酸イ
オン等のようなハロゲンまたはメタルハライドを陰イオ
ンとして有するジアリールヨードニウム塩、トリアリー
ルスルホニウム塩、アリールジアゾニウム塩、あるいは
芳香族スルホン化合物、ハロゲン化アルキル化合物等が
挙げられる。
物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオ
ン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロヒ（IV）酸イオ
ン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン
（Ｖ）酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン（Ｖ）酸イ
オン等のようなハロゲンまたはメタルハライドを陰イオ
ンとして有するジアリールヨードニウム塩、トリアリー
ルスルホニウム塩、アリールジアゾニウム塩、あるいは
芳香族スルホン化合物、ハロゲン化アルキル化合物等が
挙げられる。
このような光感応性物質は、前駆体ポリマー100重量
部に対し、0.01重量部〜100重量部、好ましくは0.1〜50
重量部の量で用いられる。光感応性物質を供給する方法
は、前駆体ポリマーを溶解した溶液に光感応性物質を混
合し、溶解させた溶液を、石英ガラスなどの基板上にス
ピンコート法あるいはキャスティング法などによって塗
布することにより、光感応性物質を含む前駆体ポリマー
の膜状物を得る。その後、この膜状物に光照射を行い、
酸または酸化剤を発生させる。あるいは光感応性物質を
含む液相中に前駆体ポリマーを浸し、その後、そのまま
液相中あるいは液相下で光照射を行い、酸または酸化剤
を発生させることもできる。なお光照射によっても分解
されずに残存する光感応性物質は、後述するようなドー
パントとしての作用を示すことがある。照射する光の波
長は、光感応性物質の吸収波長であれば特に限定されな
い。一般的には紫外部が好ましいが、他に色素増感剤を
添加すれば他の波長域でも可能である。一方、光照射で
生じた酸または酸化剤と前駆体ポリマーとの反応の効率
を高めるために光照射時あるいは光照射後、20〜300
℃、好ましくは50〜200℃の温度で熱処理することも可
能である。熱処理を行なう場合は、真空中あるいは不活
性ガス雰囲気中で熱処理を行なうことが好ましい。
部に対し、0.01重量部〜100重量部、好ましくは0.1〜50
重量部の量で用いられる。光感応性物質を供給する方法
は、前駆体ポリマーを溶解した溶液に光感応性物質を混
合し、溶解させた溶液を、石英ガラスなどの基板上にス
ピンコート法あるいはキャスティング法などによって塗
布することにより、光感応性物質を含む前駆体ポリマー
の膜状物を得る。その後、この膜状物に光照射を行い、
酸または酸化剤を発生させる。あるいは光感応性物質を
含む液相中に前駆体ポリマーを浸し、その後、そのまま
液相中あるいは液相下で光照射を行い、酸または酸化剤
を発生させることもできる。なお光照射によっても分解
されずに残存する光感応性物質は、後述するようなドー
パントとしての作用を示すことがある。照射する光の波
長は、光感応性物質の吸収波長であれば特に限定されな
い。一般的には紫外部が好ましいが、他に色素増感剤を
添加すれば他の波長域でも可能である。一方、光照射で
生じた酸または酸化剤と前駆体ポリマーとの反応の効率
を高めるために光照射時あるいは光照射後、20〜300
℃、好ましくは50〜200℃の温度で熱処理することも可
能である。熱処理を行なう場合は、真空中あるいは不活
性ガス雰囲気中で熱処理を行なうことが好ましい。
上記のようにして得られた共役系有機ポリマーは、ド
ーパントとともに用いることによって、高導電性組成物
とすることができる。
ーパントとともに用いることによって、高導電性組成物
とすることができる。
このようなドーパントとしては、ｐ型ドーパントある
いはｎ型ドーパントが用いられる。ｐ型ドーパントとし
ては、具体的には、I2、AsF5、AlCl3、NO+塩およびNO2 +塩
（たとえば、NOBF4、NOPF6、NOSbF6、NOAsF6、NOCH3SO3、NO2
BF4、NO2PF6、NO2AsF6、NO2SbF6およびNO2CF3SO3）、HBF4、
HClO4、HNO3、H2SO4、Ｐ−トルエンスルホン酸（TsOH）、
過酸化ベンゾイル、CF3SO3H、SO3、Br2、(FSO3)2、FSO3H、Fe
(ClO4)3、FeCl3、Fe(OTs)3およびFe(CF3SO3)3などを挙げ
ることができる。このようなドーパントを用いて重合体
をドーピング処理すれば、たとえばI3 -、NO3 -、BF4 -、P
F6 -、AsF6 -、SbF6 -、CF3SO3 -、ClO4 -、-OTs、SO3 -、C6H5CO2 -、B
r3 -、CH3SO3 -およびFeCl4 -をドーパントとして含有する
重合体が得られる。
いはｎ型ドーパントが用いられる。ｐ型ドーパントとし
ては、具体的には、I2、AsF5、AlCl3、NO+塩およびNO2 +塩
（たとえば、NOBF4、NOPF6、NOSbF6、NOAsF6、NOCH3SO3、NO2
BF4、NO2PF6、NO2AsF6、NO2SbF6およびNO2CF3SO3）、HBF4、
HClO4、HNO3、H2SO4、Ｐ−トルエンスルホン酸（TsOH）、
過酸化ベンゾイル、CF3SO3H、SO3、Br2、(FSO3)2、FSO3H、Fe
(ClO4)3、FeCl3、Fe(OTs)3およびFe(CF3SO3)3などを挙げ
ることができる。このようなドーパントを用いて重合体
をドーピング処理すれば、たとえばI3 -、NO3 -、BF4 -、P
F6 -、AsF6 -、SbF6 -、CF3SO3 -、ClO4 -、-OTs、SO3 -、C6H5CO2 -、B
r3 -、CH3SO3 -およびFeCl4 -をドーパントとして含有する
重合体が得られる。
本発明で用いることのできるｐ型ドーパントとして
は、上記したドーパントの他に、LiClO4、LiAsF4、NaPF6、
Bu4NClO4、Bu4NOTs、Bu4NCF3SO3、LiCF3SO3、AgOTs、N(C2H5)
4PF6などのような電解質塩を挙げることができる。
は、上記したドーパントの他に、LiClO4、LiAsF4、NaPF6、
Bu4NClO4、Bu4NOTs、Bu4NCF3SO3、LiCF3SO3、AgOTs、N(C2H5)
4PF6などのような電解質塩を挙げることができる。
またｎ型ドーパントとしては、具体的には、アルカリ
金属（Li、Na、Ｋ、RbおよびCs）ナフタリドおよびベン
ゾフェノンケチル（bonzophenoneketyl）のテトラ−ア
ルキルアンモニウム塩を挙げることができる。
金属（Li、Na、Ｋ、RbおよびCs）ナフタリドおよびベン
ゾフェノンケチル（bonzophenoneketyl）のテトラ−ア
ルキルアンモニウム塩を挙げることができる。
上記のような高導電性組成物では、ドーパントは0.01
〜50重量％好ましくは0.01〜10重量％の量で用いられる
ことが望ましい。
〜50重量％好ましくは0.01〜10重量％の量で用いられる
ことが望ましい。
発明の効果 本発明によって加工性および化学安定性に優れた共役
系有機ポリマーを従来よりも低温で簡便に得ることがで
きるとともに照射光パターンにしたがって導電性高分子
のパターンを極めて容易に形成させることが可能となっ
た。
系有機ポリマーを従来よりも低温で簡便に得ることがで
きるとともに照射光パターンにしたがって導電性高分子
のパターンを極めて容易に形成させることが可能となっ
た。
［実施例］ 以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこ
れら実施例に限定されるものではない。
れら実施例に限定されるものではない。
実施例１ （ａ）2,5−ビス（クロロメチル）チオフェンの製造 塩化水素ガス発生器として、500gの塩化ナトリウムの
入った１の２つ口フラスコに濃硫酸200mlを入れた滴
下ロートを取り付けた。146mlの37％ホルムアルデヒド
水溶液と36mlの36％塩酸のはいった４つ口フラスコには
チオフェン50g（0.594モル）の入った滴下ロートおよび
温度計、HClガス導入管を取り付けた。さらに、過剰の
塩化水素ガスを吸収するために2N水酸化ナトリウム水溶
液トラップを設けた。
入った１の２つ口フラスコに濃硫酸200mlを入れた滴
下ロートを取り付けた。146mlの37％ホルムアルデヒド
水溶液と36mlの36％塩酸のはいった４つ口フラスコには
チオフェン50g（0.594モル）の入った滴下ロートおよび
温度計、HClガス導入管を取り付けた。さらに、過剰の
塩化水素ガスを吸収するために2N水酸化ナトリウム水溶
液トラップを設けた。
混合液を撹拌しつつ、初め濃硫酸の滴下速度を調節し
てガス発生量を抑え徐々に系内に導入した（約１時
間）。その後、やや発生量を多くし塩化水素ガスを充分
吸収させた（約２時間）。
てガス発生量を抑え徐々に系内に導入した（約１時
間）。その後、やや発生量を多くし塩化水素ガスを充分
吸収させた（約２時間）。
この操作を２回行ない混合液を塩化水素飽和溶液とし
た。（この間、温度は25℃→40℃へと上昇した。）混合
液を30℃まで冷却後、５時間かけてチオフェンをゆっく
り滴下した。
た。（この間、温度は25℃→40℃へと上昇した。）混合
液を30℃まで冷却後、５時間かけてチオフェンをゆっく
り滴下した。
滴下終了後、約２時間撹拌を続けた。混合液を静置す
ると２層に分離した。上層の水層をデカンテーション
し、下層の黒色のオイルを冷水で洗浄、エーテルで抽
出、重曹（NaHCO3）で中和後、再び冷水で洗浄した。エ
ーテル層をぼう硝（Na2SO4）で乾燥後、エーテルを留去
し減圧蒸留により生成物（受器中で結晶化、透明針状
晶）を得た。1H‐NMRによればこの結晶は純粋な2,5−ビ
ス（クロロメチル）チオフェンであることが確認され
た。
ると２層に分離した。上層の水層をデカンテーション
し、下層の黒色のオイルを冷水で洗浄、エーテルで抽
出、重曹（NaHCO3）で中和後、再び冷水で洗浄した。エ
ーテル層をぼう硝（Na2SO4）で乾燥後、エーテルを留去
し減圧蒸留により生成物（受器中で結晶化、透明針状
晶）を得た。1H‐NMRによればこの結晶は純粋な2,5−ビ
ス（クロロメチル）チオフェンであることが確認され
た。
（ｂ）2,5−ビス（メチレン ジメチルスルホニウムク
ロライド）チオフェンの製造 上記実施例１（ａ）で製造した18.11g（0.1モル）の
2,5−ビス（クロロメチル）チオフェンに対して2.5〜３
当量のメチルスルフィドと、10mlのジメチルホルムアミ
ドを加え、室温（25〜27℃）または低温（５〜７℃）で
24〜144時間撹拌し、反応させた。
ロライド）チオフェンの製造 上記実施例１（ａ）で製造した18.11g（0.1モル）の
2,5−ビス（クロロメチル）チオフェンに対して2.5〜３
当量のメチルスルフィドと、10mlのジメチルホルムアミ
ドを加え、室温（25〜27℃）または低温（５〜７℃）で
24〜144時間撹拌し、反応させた。
反応停止後、DMF、エーテルで洗浄し白色の固体を得
た。固体の構造確認は1H‐NMRおよび13C‐NMRにより行
なった。
た。固体の構造確認は1H‐NMRおよび13C‐NMRにより行
なった。
（Ｃ）2,5−ビス（メチレン ジメチルスルホニウムク
ロライド）チオフェンの重合 上記実施例１（ｂ）の生成物30.53g（0.1モル）を、
撹拌器および100mlの滴下ロートを取り付けた500mlの３
つ口丸底フラスコ中で水−メタノール混合溶媒（体積比
＝1:2）200mlに溶解させた。この溶液を冷媒を用いて−
20℃に冷却した。滴下ロートに当モルのテトラメチルア
ンモニウム ヒドロキシドの水−メタノール溶液を入れ
系内を窒素置換した。次にスルホニウム塩溶液を撹拌し
つつアルカリ溶液を約１時間かけて滴下した。滴下終了
後、−20℃で保持したまま５時間撹拌を行なった。pH＝
７となっていることを万能指示薬紙により確認し反応の
終了点とした。
ロライド）チオフェンの重合 上記実施例１（ｂ）の生成物30.53g（0.1モル）を、
撹拌器および100mlの滴下ロートを取り付けた500mlの３
つ口丸底フラスコ中で水−メタノール混合溶媒（体積比
＝1:2）200mlに溶解させた。この溶液を冷媒を用いて−
20℃に冷却した。滴下ロートに当モルのテトラメチルア
ンモニウム ヒドロキシドの水−メタノール溶液を入れ
系内を窒素置換した。次にスルホニウム塩溶液を撹拌し
つつアルカリ溶液を約１時間かけて滴下した。滴下終了
後、−20℃で保持したまま５時間撹拌を行なった。pH＝
７となっていることを万能指示薬紙により確認し反応の
終了点とした。
（ｄ）前駆体高分子の製造 上記実施例１（ｃ）で得られた−20℃の溶液を室温
（20℃）まで２時間かけて昇温させた。温度上昇にした
がって前駆体高分子が淡黄色の析出物として得られた。
得られた析出物を濾過し減圧下で乾燥させた。1H‐NM
R、13C‐NMR、IR、元素分析の結果から析出物の構造確
認を行なった。
（20℃）まで２時間かけて昇温させた。温度上昇にした
がって前駆体高分子が淡黄色の析出物として得られた。
得られた析出物を濾過し減圧下で乾燥させた。1H‐NM
R、13C‐NMR、IR、元素分析の結果から析出物の構造確
認を行なった。
（ｅ）ポリ2,5−チエニレンビニレンの製造 上記実施例１（ｄ）で得られた前駆体高分子1gおよび
光感応性物質としてジフェニルヨードニウムクロライド
0.2gとを塩化メチレン100mlに溶解させ、ガラスシャー
レにそそぎ、空気中、20℃で溶媒を蒸発させることによ
り厚さ10μｍの膜状物を得た。
光感応性物質としてジフェニルヨードニウムクロライド
0.2gとを塩化メチレン100mlに溶解させ、ガラスシャー
レにそそぎ、空気中、20℃で溶媒を蒸発させることによ
り厚さ10μｍの膜状物を得た。
このフィルムにXeランプを用いて紫外光を空気中で30
分間照射した。照射後10-6torrの真空下80℃で１時間熱
処理を行なった。その後IRスペクトルを測定した。光照
射した部分にtrans-vinylene基のC-H面外変角振動（930
cm-1）を確認した。
分間照射した。照射後10-6torrの真空下80℃で１時間熱
処理を行なった。その後IRスペクトルを測定した。光照
射した部分にtrans-vinylene基のC-H面外変角振動（930
cm-1）を確認した。
比較例１ 光照射を行なわなかった以外は、実施例１と同様に行
ない、IRスペクトルを測定した結果、trans-vinylene基
のC-H面外変角振動は認められず、前駆体高分子のもの
と同一であった。
ない、IRスペクトルを測定した結果、trans-vinylene基
のC-H面外変角振動は認められず、前駆体高分子のもの
と同一であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−182092（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−32121（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−289922（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−234418（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−79222（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−33140（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−9221（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−9220（ＪＰ，Ａ)
Claims (3)
- 【請求項１】光照射により酸または酸化剤を生成する光
感応性物質の存在下に、 一般式 （式中R1は水酸基、アルコキシ基、または で表わされるアシロキシ基で、R2はアルキル基、水素の
一部あるいは全部をＦで置換したアルキル基、フェニル
基であり、ｎは２以上の整数、Arはアリレーン基を表わ
す）で示される前駆体ポリマーを 光照射下で反応させることを特徴とする、 一般式 Ar−CH＝CHn …［II］ （式中、Arおよびｎは上記［Ｉ］式と同じである）で示
される共役系有機ポリマーの製造方法。 - 【請求項２】光照射により酸または酸化剤を生成する光
感応性物質の存在下に、 一般式 （式中R1は水酸基、アルコキシ基、または で表わされるアシロキシ基で、R2はアルキル基、水素の
一部あるいは全部をＦで置換したアルキル基、フェニル
基であり、ｎは２以上の整数、Arはアリレーン基を表わ
す）で示される膜状の前駆体ポリマーを 光照射下で反応させることを特徴とする、 一般式 Ar−CH＝CHn …［II］ （式中、Arおよびｎは上記［Ｉ］式と同じである）で示
される膜状の共役系有機ポリマーの製造方法。 - 【請求項３】前記一般式［Ｉ］で示される前駆体ポリマ
ーを光照射時あるいは光照射後、20〜300℃の温度で熱
処理することを特徴とする請求項第１項または第２項に
記載の共役系有機ポリマーの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27348189A JP2502155B2 (ja) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | 共役系有機ポリマ―の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27348189A JP2502155B2 (ja) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | 共役系有機ポリマ―の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03134018A JPH03134018A (ja) | 1991-06-07 |
| JP2502155B2 true JP2502155B2 (ja) | 1996-05-29 |
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ID=17528512
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27348189A Expired - Fee Related JP2502155B2 (ja) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | 共役系有機ポリマ―の製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2502155B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2677986B1 (fr) * | 1991-06-18 | 1994-05-20 | Thomson Csf | Procede d'obtention de polymeres de type polyparaphenylene vinylene ou de type polyparathienylene vinylene. |
| FR2699542B1 (fr) * | 1992-12-21 | 1995-01-20 | Thomson Csf | Procédé d'obtention de polymères conducteurs de type polyarylène vinylène. |
| GB0206944D0 (en) * | 2002-03-23 | 2002-05-08 | Univ Cranfield | Photochemical polymerisation using aqueous and water-organic mixed environment |
| CN104662026B (zh) | 2012-09-24 | 2017-08-25 | 柯尼卡美能达株式会社 | 光电转换元件及其制造方法 |
-
1989
- 1989-10-20 JP JP27348189A patent/JP2502155B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03134018A (ja) | 1991-06-07 |
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