JP2500591B2 - 半導体レ―ザ装置 - Google Patents

半導体レ―ザ装置

Info

Publication number
JP2500591B2
JP2500591B2 JP5112210A JP11221093A JP2500591B2 JP 2500591 B2 JP2500591 B2 JP 2500591B2 JP 5112210 A JP5112210 A JP 5112210A JP 11221093 A JP11221093 A JP 11221093A JP 2500591 B2 JP2500591 B2 JP 2500591B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor laser
laser device
metal base
electrode
impedance matching
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP5112210A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06318763A (ja
Inventor
伊藤  潔
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
Priority to JP5112210A priority Critical patent/JP2500591B2/ja
Publication of JPH06318763A publication Critical patent/JPH06318763A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2500591B2 publication Critical patent/JP2500591B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48135Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/48137Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/30107Inductance
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3011Impedance

Landscapes

  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体レーザ装置に関
し、特に光通信システムの光源に有用な、電子冷却素子
を内蔵した半導体レーザ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、高速・大容量光通信に適用され
る半導体レーザ装置では、入力高周波電気信号に追従し
て波形歪の少ない安定な光出力波形が得られることが重
要である。光出力波形の劣化は、半導体レーザ素子、素
子を搭載するケース、駆動回路の3つの構成要素の周波
数特性に依存する。而して、駆動回路の周波数特性は十
分に良好にすることが可能であり、また半導体レーザ素
子自身の周波数特性については、動作温度を一定以下に
保持することができる場合には満足できる特性を期待す
ることができる。よって、現状のギガビット対応の光デ
ジタル通信においては、ケースに内蔵された冷却デバイ
スが周囲環境の温度変化に対抗できる十分な冷却能力を
備えるようにすることおよびこの冷却デバイスを内蔵す
るケース自体の周波数特性の向上を図ることがレーザ装
置の性能を向上させるための最重要課題であるといえ
る。
【0003】したがって、高速・大容量光通信に対応し
たレーザ装置に使用されるケース構造に必要な基本性能
を下記の2点に要約することができる。 (1)広帯域な周波数応答特性 (2)広範な周囲温度変化に対する温度制御能力 よって、以下、この2点を中心に説明を行うが、後述す
るようにこの2点は互いにトレードオフの関係にある。
【0004】まず、この種の半導体レーザ装置について
ファイバ付き半導体レーザモジュールを例に挙げ構成の
大略を述べる。図3の(a)は、特開平4−33768
8号公報にて提案された半導体レーザ装置の、上蓋を除
去した状態での平面図であり、図3の(b)はその断面
図である。同図に示されるように、2Gb/sを越える
デジタル伝送用には通常所謂バタフライ型のパッケージ
が用いられる。金属ケース6の側面には複数のリード端
子7が植設されており、金属ケース6の底面上にはペル
チェ効果素子である電子冷却素子5が載置されている。
電子冷却素子上には金属ベース3が搭載されている。
【0005】半導体レーザ素子1はヒートシンク2上に
マウントされ、ヒートシンク2は金属ベース3上に固着
されている。ここでは、半導体レーザ素子として分布帰
還型のものが用いられている。金属ベース3上には他に
サーミスタ4、光出力モニタ素子13および配線基板
(図4参照)が搭載されている。
【0006】金属ベース3の左右には、多層配線構造を
持つ端子配線棚部8a、8bが設けられており、端子配
線棚部8a上には接地電極9と信号入力ライン10が形
成されており、端子配線棚部8b上には端子12が形成
されている。接地電極9は直接金属ケース6に接続さ
れ、信号入力ライン10および端子12はスルーホール
を介してリード端子7と接続されている。
【0007】金属ベース3はレンズ18および光アイソ
レータ22を保持しており、金属ベース先端部3aには
スライドリング19が固着されている。スライドリング
19には、光ファイバ21の先端を保護するフェルール
20が嵌挿されYAG溶接により固定されている。フェ
ルール20はまた金属ケース6の側面に設けられた貫通
孔に挿通され半田23にて固着されている。これら一連
の構造により半導体レーザ素子1からの出力光は光ファ
イバ21に結合される。
【0008】図4に、この半導体レーザモジュールの電
子冷却素子上に搭載された各機能素子の配置およびこれ
らの機能素子と金属ケースの配線棚部との接続態様につ
いての詳細平面図を示す。ヒートシンク2には、メタラ
イズ層2a、2bが形成されているが、その内メタライ
ズ層2bは側面から裏面にまで延長されている。すなわ
ち、メタライズ層2bは金属ベース3と電気的に接続さ
れている。メタライズ層2a上には半導体レーザ素子1
がマウントされており、レーザ素子の基板表面に形成さ
れた電極はボンディングワイヤによりメタライズ層2b
に接続されている。
【0009】金属ベース3上には、表面にストリップラ
イン25、インピーダンス整合用抵抗11および接地電
極26の形成された配線基板24が搭載されている。ス
トリップライン25は、端子配線棚部8上に形成された
信号入力ライン10とともに外部駆動回路にインピーダ
ンス整合されており、ストリップライン25と、高々数
Ωのインピーダンスしかない半導体レーザ素子との間の
整合は、両者間に設けられたインピーダンス整合用抵抗
11によってとられている。接地電極26はスルーホー
ルを介して金属ベース3に接続されている。
【0010】半導体レーザ素子1のマウントされたメタ
ライズ層2aは、ボンディングワイヤ14によりインピ
ーダンス整合用抵抗11の一端に接続されており、スト
リップライン25と信号入力ライン10との間および配
線基板24上の接地電極26と端子配線棚部8a上の接
地電極9との間はそれぞれボンディングワイヤ14によ
り接続されている。またサーミスタ4および光出力モニ
タ素子13上の端子と端子配線棚部8b上の端子12と
の間もボンディングワイヤ14により接続されている。
この従来例は広帯域特性および高い温度制御能力を考慮
して設計されたものであって、上記のように構成された
レーザモジュールでは、制御可能温度差ΔTとして45
℃が達成され、2.5Gb/sの通信システムへの適用
が可能となっている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】次に、高速対応レーザ
装置用の搭載容器に要求される前述の2つの基本性能、
すなわち広帯域特性と温度制御能力の観点から、上述の
従来技術の問題点について言及する。まず、広帯域特性
の点からみると、搭載容器の周波数特性を低下させる最
大の要因が接続配線に存在する寄生インダクタンスであ
るところ、上述した従来例では、端子配線棚部上の信号
入力ラインと配線基板上のストリップラインとの間およ
びインピーダンス整合用抵抗と半導体レーザ素子のマウ
ント電極との間がボンディングワイヤにより接続されて
いるためここに大きな寄生インダクタンスが存在するこ
とになる(50μmボンディングワイヤ1mmで約1n
H)。また、半導体レーザチップの接地側の電極につい
ては、その電流経路が、ボンディングワイヤ−メタライ
ズ層2b−金属ベース3−接地電極26−ボンディング
ワイヤ−接地電極9、と長くなっており、この経路に係
る寄生インダクタンスも大きくなっている。なお、ボン
ディングワイヤによる寄生インダクタンスを削減するに
はボンディングワイヤを太く、短くすることが有効であ
る。
【0012】一方、冷却能力の点から見ると、通常半導
体レーザ素子を25℃の一定温度で動作させるので、周
囲温度〜ケース温度が70℃まで上昇したときにも正常
動作を保証できるようにするためには、制御可能温度差
ΔTとして45℃の冷却能力が最低限必要となる。冷却
能力を制限する要因としては、 (1)電子冷却素子上の発熱源の存在 (2)ボンディングワイヤを介したケースからの熱の還
流 (3)電子冷却素子に負荷される熱容量 が挙げられるが、この内(1)および(2)の要因は特
に大きな影響を持つ。
【0013】(1)についてみるに、従来例ではレーザ
素子の他にインピーダンス整合用抵抗が電子冷却素子上
に配置されている。インピーダンス整合用抵抗は通常半
導体レーザ素子の数倍の発熱量がある。また従来例で
は、バイアス電圧を信号入力ライン以外のバイアス供給
回路から供給する場合にはバイアス抵抗をも電子冷却素
子上に配置していた。(2)については、電子冷却素子
上のブロックと端子配線棚部8a、8bとの間を7個所
でボンディングワイヤにて接続していた。ここで、ボン
ディングワイヤによる熱の還流を抑えるには、これを長
く細くすることによって熱抵抗を大きくする方法が考え
られる。しかし、この手段を採用した場合にはフライン
グワイヤ部において大きな寄生インダクタンスを持つこ
ととなりレーザ装置の高周波特性が劣化する。すなわ
ち、冷却素子上の機能素子とリード端子との間を、広帯
域特性を考慮して寄生インダクタンスが十分に小さくな
るように接続した場合には、結果的に熱抵抗の小さい接
続となり、冷却能力を制限してしまう。逆に、冷却能力
を優先した接続を行うと寄生インダクタンスを増加させ
帯域を制限することとなる。すなわち、2つの基本性能
はトレードオフの関係にある。
【0014】(3)の要因については、上述の従来例で
は金属ベース上に光出力モニタ素子および配線基板が搭
載されており、その分金属ベースの面積も広くなされて
おり、冷却素子にかかる負荷の増加を助長している。な
お、この点に対処してモニタ素子を金属ベース上から除
去して電子冷却素子から熱的に分離したブロック上に設
けるようにすることは実願昭61−84965号(実開
昭62−196370号)において提案されている。
【0015】したがって、本発明の目的とするところ
は、第1に、半導体レーザ素子を駆動する回路での寄生
インダクタンスを削減して広帯域の周波数応答特性を実
現することであり、第2に、高い温度処理能力を備える
ようにして広範囲な温度変化の環境下においても使用可
能な半導体レーザ装置を提供しうるようにすることであ
る。すなわち、本発明は、10Gb/s、制御可能温度
差ΔTが55℃の通信システムに適用可能な半導体レー
ザ装置を提供しようとするものである。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体レーザ装
置は、半導体レーザ素子(1)と感熱素子(4)とが電
子冷却素子(5)上に載置された金属ベース(3)上に
搭載され、前記半導体レーザ素子が信号入力ライン(1
0)およびインピーダンス整合素子(11)を介して供
給される入力信号によって駆動され、その出力が光出力
モニタ素子(13)によってモニタされるものであっ
て、前記インピーダンス整合素子と前記光出力モニタ素
子とは前記電子冷却素子から分離された棚部(8)上に
設けられていることを特徴としている。また、前記半導
体レーザ素子は、ヒートシンク(2)を介して前記金属
ベース上に搭載され、該ヒートシンク(2)には、前記
半導体レーザ素子(1)がマウントされるマウント電極
(2a)と中継電極(2b)とが形成され、マウント電
極はボンディングワイヤ(14)を介して前記インピー
ダンス整合素子の一端と接続され、中継電極は前記半導
体レーザ素子の基板表面側電極と前記棚部(8)上に形
成された接地電極(9)とにそれぞれボンディングワイ
ヤ(14)を介して接続されている。
【0017】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図1の(a)は、本発明の金属ベース上の
構成と端子配線棚部の構成および配線を示した平面図で
あり、図1の(b)は、そのA−A線の断面図である。
図1で示していない部分の構成は、図3の(a)、
(b)に示した従来例のそれと同様であるので図示およ
び重複した説明は省略する。金属ケース6の底面上には
ペルチェ効果素子である電子冷却素子5が載置されてお
り、その上にはレンズ18を保持する金属ベース3が搭
載されている。
【0018】金属ベース3上には、その表面にメタライ
ズ層2a 2bが形成されたヒートシンク2が固着され
ており、半導体レーザ素子1はヒートシンク2のメタラ
イズ層2a上にマウントされている。金属ベース3上に
は他に半導体レーザ素子に近接してサーミスタ4が搭載
されている。
【0019】金属ベース3の外側には、平面形状が概略
「コ」の字形の、多層配線構造の端子配線棚部8が設け
られている。端子配線棚部8の表面は大部分接地電極9
で覆われており、接地電極の形成されていない部分に信
号入力ライン10、インピーダンス整合用抵抗11およ
び端子12が形成されている。信号入力ライン10は、
接地電極9に囲まれて伝送線路を構成しており、外部駆
動回路の出力インピーダンスに整合されている。インピ
ーダンス整合用抵抗11は、信号入力ライン10と半導
体レーザ素子1との間の整合をとるために設けられた抵
抗である。信号入力ライン10および端子12はスルー
ホールを介して金属ケース側面に植設されたリード端子
7に接続されている。また、接地電極9は、メッキ金属
により直接金属ケース6に接続されている。
【0020】端子配線棚部8の接地電極9上には光出力
モニタ素子13が搭載されている。光出力モニタ素子1
3およびサーミスタ4の端子はボンディングワイヤ14
を介して端子配線棚部8上の端子12に接続されてい
る。ヒートシンク2のメタライズ層2a、2bは、ボン
ディングワイヤ14によりそれぞれインピーダンス整合
用素子11の一端と接地電極9とに接続され、また半導
体レーザ素子1の基板表面側電極(p側電極)はボンデ
ィングワイヤ14を介してメタライズ層2bに接続され
ている。
【0021】このように構成されたレーザモジュールを
帯域の観点から上述の従来例と比較すると、従来例では
信号ラインに2個所存在していたボンディングワイヤが
1個所となり信号ラインに係る寄生インダクタンスが約
1/2に削減されている。また、半導体レーザ素子から
ケース接地電極までの経路が中継端子(メタライズ層2
b)を介してのボンディングワイヤのみとなり、従来例
でのボンディングワイヤ−金属ベース−配線基板の接地
電極−ボンディングワイヤの経路に比べ格段に短くな
り、信号経路側と同様に寄生インダクタンスは削減され
ている。実際、本実施例の小信号周波数応答特性は、従
来例でf=4GHz付近において観測されていたディッ
プが消え、より高域までフラットになり、3dB低下す
る周波数を10GHz程度とすることができた。
【0022】次に、冷却能力の観点から比較してみる
と、本実施例では半導体レーザ素子の数倍程度発熱する
インピーダンス整合回路が端子配線棚部に配置されてお
り、電子冷却素子上の発熱源が従来の2つから1つとな
っている。また、電子冷却素子上の機能素子と配線棚部
を結ぶボンディングワイヤが従来の7個所から4個所に
なりケースからの熱の還流経路が約1/2に減少してい
る。加えて本実施例では電子冷却素子上の部品のトータ
ルの熱容量が減少している。その結果、本実施例の冷却
能力は、制御可能温度差ΔTにおいて従来の45℃から
55℃へと改善されている。
【0023】図2は、本発明の第2の実施例の主要部を
示す平面図である。第1の実施例では、高周波信号を半
導体レーザ素子をしきい値近傍までバイアスするための
直流成分に重畳させた信号がリード端子7の信号入力端
子に印加される構造となっていたが、本実施例では、バ
イアスを与える回路を別に設け、信号入力端子には高周
波信号のみを与える回路構成となっている。バイアス電
圧はリード端子7の一つに与えられ、端子12、ボンデ
ィングワイヤ14、チップインダクタ16、配線パター
ンおよびバイアス抵抗15を介して信号入力ライン10
に印加されている。このバイアス電圧を中継する端子1
2は、一端が接地されたチップコンデンサ17の他端に
ボンディングワイヤにより接続されている。
【0024】バイアス回路を高周波信号入力経路とは別
に設ける場合、従来技術ではバイアス抵抗およびチップ
インダクタを金属ベース上に設けていた。本実施例では
これら回路素子を金属ベース上から端子配線棚部側に移
したことにより、熱源の低減(特にバイアス抵抗)、ボ
ンディングワイヤ数の減少および金属ベース上での熱容
量の削減等が達成され、冷却能力が改善される。
【0025】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体レ
ーザ装置は、電子冷却素子上に半導体レーザ素子とサー
ミスタおよび光学結合系のみを配置し、金属ケース内の
端子配線棚部上に光出力モニタ素子および伝送線路と抵
抗体からなるインピーダンス整合回路を配置する構成と
したので、従来技術では同時に改善することができなか
った広帯域特性および冷却能力の双方を改善することが
でき、現在実用レベルにある2.5Gb/sデジタル通
信システムよりも高速、大容量の通信システムに適用可
能な半導体レーザ装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例の主要部の平面図と断面
図。
【図2】本発明の第2の実施例の主要部の平面図。
【図3】従来の半導体レーザ装置の構造を示す平面図と
断面図。
【図4】従来例の主要部の平面図。
【符号の説明】
1 半導体レーザ素子 2 ヒートシンク 2a、2b メタライズ層 3 金属ベース 3a 金属ベース先端部 4 サーミスタ 5 電子冷却素子 6 金属ケース 7 リード端子 8、8a、8b 端子配線棚部 9 接地電極 10 信号入力ライン 11 インピーダンス整合用抵抗 12 端子 13 光出力モニタ素子 14 ボンディングワイヤ 15 バイアス抵抗 16 チップインダクタ 17 チップコンデンサ 18 レンズ 19 スライドリング 20 フェルール 21 光ファイバ 22 光アイソレータ 23 半田 24 配線基板 25 ストリップライン 26 接地電極

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体レーザ素子と感熱素子とが電子冷
    却素子上に載置された金属ベース上に搭載され、前記半
    導体レーザ素子が信号入力ラインおよびインピーダンス
    整合素子を介して供給される入力信号によって駆動さ
    れ、その出力が光出力モニタ素子によってモニタされる
    半導体レーザ装置において、前記インピーダンス整合素
    子と前記光出力モニタ素子とは前記電子冷却素子から分
    離された棚部上に設けられていることを特徴とする半導
    体レーザ装置。
  2. 【請求項2】 前記半導体レーザ素子は、ヒートシンク
    を介して前記金属ベース上に搭載されていることを特徴
    とする請求項1記載の半導体レーザ装置。
  3. 【請求項3】 前記ヒートシンクには、前記半導体レー
    ザ素子がマウントされるマウント電極と中継電極とが形
    成され、マウント電極はボンディングワイヤを介して前
    記インピーダンス整合素子の一端と接続され、中継電極
    は前記半導体レーザ素子の基板表面側電極と前記棚部上
    に形成された接地電極とにそれぞれボンディングワイヤ
    を介して接続されていることを特徴とする請求項2記載
    の半導体レーザ装置。
  4. 【請求項4】 前記棚部上にはバイアス抵抗が形成され
    該バイアス抵抗を介して前記信号入力ラインにはバイア
    ス電圧が印加されることを特徴とする請求項1記載の半
    導体レーザ装置。
JP5112210A 1993-04-15 1993-04-15 半導体レ―ザ装置 Expired - Fee Related JP2500591B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5112210A JP2500591B2 (ja) 1993-04-15 1993-04-15 半導体レ―ザ装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5112210A JP2500591B2 (ja) 1993-04-15 1993-04-15 半導体レ―ザ装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06318763A JPH06318763A (ja) 1994-11-15
JP2500591B2 true JP2500591B2 (ja) 1996-05-29

Family

ID=14581016

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5112210A Expired - Fee Related JP2500591B2 (ja) 1993-04-15 1993-04-15 半導体レ―ザ装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2500591B2 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7463659B2 (en) 2003-07-09 2008-12-09 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Can-type optical transmitting module utilizing a laser diode with impedance matching resistors
CN100502177C (zh) 2003-10-15 2009-06-17 三洋电机株式会社 双光束半导体激光器
US7317742B2 (en) 2004-02-19 2008-01-08 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Optical sub-assembly having a thermo-electric cooler and an optical transceiver using the optical sub-assembly
JP5180176B2 (ja) * 2009-11-19 2013-04-10 日本電信電話株式会社 To−can型tosaモジュール
JP6376377B2 (ja) * 2014-05-30 2018-08-22 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 光学装置
JP6497980B2 (ja) * 2015-03-04 2019-04-10 日本オクラロ株式会社 光送信モジュール及び光送受信モジュール
JP2018074057A (ja) * 2016-11-01 2018-05-10 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 半導体レーザキャリア組立体、光半導体装置、及び光半導体装置の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06318763A (ja) 1994-11-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1617279B1 (en) Optical module
JP5180176B2 (ja) To−can型tosaモジュール
JP5144628B2 (ja) To−can型tosaモジュール
US4873566A (en) Multilayer ceramic laser package
US7463659B2 (en) Can-type optical transmitting module utilizing a laser diode with impedance matching resistors
JP2001257412A (ja) 光送信モジュール
US20220103262A1 (en) Optical module
JP4587218B2 (ja) パッケージ型半導体装置
JP2000012948A (ja) 高周波レ―ザモジュ―ル、光電子素子および高周波レ―ザモジュ―ルの製造方法
US11811191B2 (en) Optical semiconductor device and carrier
JP2500591B2 (ja) 半導体レ―ザ装置
KR0181896B1 (ko) 고속 광 모듈의 광대역화 장치
US20070230526A1 (en) Semiconductor laser module driven in shunt-driving configuration
JPH11186668A (ja) 光半導体モジュール
US6721513B2 (en) Optical telecommunication module
JP2013004785A (ja) 光モジュール
JP2728104B2 (ja) 半導体レーザモジュール
JPH04349686A (ja) チップキャリア
JP2002204018A (ja) 発光素子、及び発光素子モジュール
JP7513228B1 (ja) Can型光モジュールおよび光トランシーバ
JP3460222B2 (ja) 半導体レーザモジュール
JPH031587A (ja) 半導体レーザ装置
JP2855980B2 (ja) 熱電冷却モジュールおよび冷却型半導体レーザモジュール
JPH02197185A (ja) 電子式冷却素子内蔵半導体レーザアセンブリ
JP7246590B1 (ja) 半導体レーザ光源装置

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080313

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090313

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100313

Year of fee payment: 14

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100313

Year of fee payment: 14

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110313

Year of fee payment: 15

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110313

Year of fee payment: 15

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110313

Year of fee payment: 15

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110313

Year of fee payment: 15

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120313

Year of fee payment: 16

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees