JP2500327B2 - レンズ横収差測定用シアリング干渉計 - Google Patents

レンズ横収差測定用シアリング干渉計

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JP2500327B2
JP2500327B2 JP3089600A JP8960091A JP2500327B2 JP 2500327 B2 JP2500327 B2 JP 2500327B2 JP 3089600 A JP3089600 A JP 3089600A JP 8960091 A JP8960091 A JP 8960091A JP 2500327 B2 JP2500327 B2 JP 2500327B2
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JP
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lens
lateral aberration
shearing
parallel
light
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JP3089600A
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浄史 松田
伴章 永寿
ト―マス・バ―ンズ
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Agency of Industrial Science and Technology
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明はシアリング干渉法を利
用してレンズの横収差を測定するレンズ横収差測定用シ
アリング干渉計に関するものである。
【0002】
【産業上の利用分野】レンズの横収差曲線を求める手法
の一つとしてシアリング干渉縞を利用する方法がある
が、レンズの横収差曲線をシアリング干渉縞から求める
ために、微分干渉縞を解析しなければならず、複雑で、
かつ時間がかかる。そこでシアリング干渉縞それ自身が
収差曲線を表す方法の開発が試みられている。本願発明
の発明者等も二重露光でピッチのわずかに異なる二枚の
ホログラムグレ―ティングを記録したホログラム二枚を
用意してシアリング干渉縞をそれ自身が収差曲線を表す
ことを示してきた(昭和60年特許出願公開第6783
4号参照)。このホログラム二枚を使用したホログラム
シアリング干渉計は図11に示されている。
【0003】すなわち、図11に示すホログラムシアリ
ング干渉計11は、二つの平行光fH2 とfH(2 +
Δ)とコリメ−タレンズを通して照明される参照光fH
1 との干渉縞を二重露光記録した第1のホログラムH1
と、この第1のホログラムH1に対する参照光fH1 の
方向からの照明光により再生される二つの平行光fH2
とfH(2 +Δ)のうちの平行光fH2 と参照光fH3
との干渉縞及び平行光fH(2 +Δ)と、参照光fH3
を、シアする方向に平行な軸の回りに回転させてなる他
の参照光fH(3 +Δ)との干渉縞を二重露光記録した
第2のホログラムH2 とを備え、被測定物であるテスト
レンズTLを前記のコリメ−タ−レンズの位置に置いて
テストレンズTLを通してホログラムH1 を照明し、ホ
ログラムH1 の再生光でホログラムH2 を照明し、ホロ
グラムH2 の再生光で形成される干渉縞を観察するよう
に構成したものである。このレンズ横収差測定用ホログ
ラムシアリング干渉計では、ティルトにより生ずる干渉
縞の横ずれを利用してシアリング干渉縞が直接収差曲線
になるようにしたから、従来のシアリング干渉縞からレ
ンズの横収差を求めるための複雑な操作や計算を必要と
しない等の顕著な技術効果をもつものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、このような
先に提案されたレンズ横収差測定用ホログラムシアリン
グ干渉計は、上記のような技術効果を有する一方で、ホ
ログラムを2枚使用するので、装置を構成する光学部品
の数が多くなる傾向があり、この点の改善が望まれる。
【0005】この発明は上記のごとき事情に鑑みてなさ
れたものであって、レンズの収差曲線を求めるのに、シ
アリング干渉縞それ自体がそのまま収差曲線を与えるこ
ととなり、したがって、複雑な処理や計算を必要とせず
に直ちにレンズ横収差を求めることができ、かつ、構成
部品が少なく、構成が簡単で、組立も容易なレンズ横収
差測定用シアリング干渉計を提供することを目的とする
ものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】この目的に対応して、こ
の発明のレンズ横収差測定用シアリング干渉計は、被測
定物であるテストレンズを通り、かつ平行平面板ウェッ
ジで分割されかつ横ずれとティルトが与えられた2波面
を干渉させることを特徴としている。
【0007】
【作用】テストレンズに平行光を入射し、テストレンズ
の出力光を平行平面板ウェッジに入射すると、平行平面
板ウェッジの表面で反射する光と裏面で反射する光とに
分割される。平行平面板ウェッジの表面と裏面との間に
は平行平面板ウェッジの厚さ分に対応する反射光の光路
に横ずれが生じることによって、2つの波面間に横ずれ
が生じるとともに、表面と裏面とはウェッジによる傾き
があるので、2つの波面間にもティルトが生じる。つま
り、平行平面板ウェッジで分割された2波面は相互に横
ずれし、かつ傾いている。従って、この2波面を干渉さ
せて干渉縞を形成したときに、その干渉縞が収差曲線を
表すことになる。
【0008】
【実施例】以下、この発明の詳細を一実施例を示す図面
について説明する。図1において、1はレンズ横収差測
定用シアリング干渉計であり、レンズ横収差測定用シア
リング干渉計1は、He ―Ne レ−ザ−光源Ls 、平行
平面板ウェッジW、顕微鏡対物レンズMO1 、結像レン
ズL0 、スクリ―ンSc(または2次元センサ)を備え
ている。顕微鏡対物レンズMO1 と平行平面板ウェッジ
Wとの間の光路中に検査対象であるテストレンズLTが
挿入される。
【0009】平行平面板ウェッジWは、図2、図3及び
図4に示すように、X−Y−Zの三軸方向に座標空間を
とったとすると、Z−X面に平行な断面が図4に示すよ
うに辺a,b,c,dからなる平行四辺形をなしY−X
面に平行な断面の対向する辺e,gが平行でなく傾斜し
ている形状をなしている。平行平面板ウェッジWは通常
ガラス等で構成されている。
【0010】このような構成のシアリング干渉計におい
ては、He−Neレーザー光源Lsからのレーザー光を
顕微鏡対物レンズMO1、テストーレンズTLで平行光
にし、平行平面板ウェッジWを照明する。平行平面板ウ
ェッジWでは2つ波面fH3、fH(3+Δ)の光を発
生する。但しfH3、fH(3+Δ)はこのとき、平行
光とはテストレンズTLの収差分だけ歪んだ波面であっ
、かつ横方向にずれていて、かつ相互に傾いている。
すなわち、図2、図3及び図4に示すようにテストレン
ズLTからの光fHが平行平面板ウェッジWに入射した
とき、光fHは平行平面板ウェッジWの表面Fで反射す
る光fH3と裏面Rで反射する光fH(3+Δ)に分け
られる。しかるに表面Fと裏面Rとは一定の距離xだけ
隔たっているので、両反射光の出射位置が横方向にずれ
る(図4及び図9参照)。これによって両波面には横ず
れが与えられる。一方、表面Fと裏面Rとは一定の角度
θだけ傾いているので、両反射光の出射位置が傾くこと
になる(図3及び図7参照)。これによって両波面には
ティルトが与えられる。こうして両波面には横ずれとテ
ィルトの両方が与えられる(図9参照)。この両波面f
H3とfH(3+Δ)の光で形成される干渉縞をスクリ
ーンSc上で観察すると図5に示すように通常のシアと
ミラーM5の回転によるティルトされた波面の間の干渉
縞が観測される。これはシアによる位相差をティルトの
干渉縞の横ずれで測定することに相当し、視野の中心を
通る干渉縞が図6に示す横収差曲線になる。この場合の
座標のスケールは収差曲線と合せるために計算から求め
られる。通常θは0秒<θ<1分で用いられる。
【0011】この発明でレンズ横収差曲線が得られる理
由は次のとりおである。基本原理はテストレンズからの
波面を図8に示すように水平軸方向にシアをし、かつ図
9に示すように水平軸のまわりにわずかに回転させてテ
ィルトさせる。このようにすると、ティルトにより生ず
る干渉縞の横ずれ量がシアによって得られる位相差を表
す。一方レンズの横収差は、レンズに平行光を入射させ
た時、理想レンズの場合焦点位置に結像するが、レンズ
収差があると図10に示すように焦点位置からずれた位
置に結像する。縦軸にレンズの高さを横軸にこのずれ量
を描いた曲線が横収差曲線である。そこで、波面の微分
値に焦点距離を乗じたものが焦点位置でのずれ量となっ
ている。従ってシアリング干渉によって波面の微分値が
得られ、その量がティルトの干渉縞の横ずれ量となって
いるため、レンズの中心を通るティルトの干渉縞が収差
曲線に比例し、横軸のスケ―ルを決めることによって横
収差曲線が得られることがわかる。
【0012】
【発明の効果】以上の説明から明らかな通り、この発明
のレンズ横収差測定用シアリング干渉計では、ティルト
により生ずる干渉縞の横ずれを利用してシアリング干渉
縞が直接収差曲線になるようにしたから、従来のシアリ
ング干渉縞からレンズの横収差を求めるための複雑な操
作や計算を必要としない。また、テストレンズの波面に
横ずれとティルトを与える光学素子として平行平面板ウ
ェッジを使用するだけであるので、干渉計の構成、組立
及び調整が簡単になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例に係わるシアリング干渉計
の構成説明図。
【図2】平行平面板ウェッジの斜視説明図。
【図3】図2におけるIII−III部断面図。
【図4】図2におけるIV−IV部断面図。
【図5】干渉縞を示す図。
【図6】横収差曲線を示すグラフ。
【図7】ティルトされた2波面を示す説明図。
【図8】横ずれした2波面を示す説明図。
【図9】横ずれし、かつティルトされた2波面を示す説
明図。
【図10】レンズの横収差を示す線図。
【図11】従来のホログラムシアリング干渉計を示す構
成説明図。
【符号の説明】
1 レンズ横収差測定用シアリング干渉計 Ls He ―Ne レ−ザ−光源 MO1 顕微鏡対物レンズ L0 結像レンズ Sc スクリ―ン W 平行平面板ウェッジ LT テストレンズ

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被測定物であるテストレンズを通り、か
    つ平行平面板ウェッジで分割されかつ横ずれとティルト
    が与えられた2波面を干渉させることを特徴とするレン
    ズ横収差測定用シアリング干渉計。
JP3089600A 1991-03-28 1991-03-28 レンズ横収差測定用シアリング干渉計 Expired - Lifetime JP2500327B2 (ja)

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JPH04299232A JPH04299232A (ja) 1992-10-22
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS5953524A (ja) * 1982-09-22 1984-03-28 Sumitomo Bakelite Co Ltd 合成樹脂用難燃剤
JPS607047U (ja) * 1983-06-28 1985-01-18 工業技術院長 マイクロレンズの球面収差測定装置

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JPH04299232A (ja) 1992-10-22

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