JP2025539593A5 - - Google Patents
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Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US18/080,109 US12117731B2 (en) | 2022-12-13 | 2022-12-13 | Method for producing a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus |
| US18/080,109 | 2022-12-13 | ||
| PCT/EP2023/051684 WO2024125829A1 (en) | 2022-12-13 | 2023-01-24 | Method for producing a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2025539593A JP2025539593A (ja) | 2025-12-05 |
| JP2025539593A5 true JP2025539593A5 (enExample) | 2026-02-02 |
Family
ID=85108873
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2025534510A Pending JP2025539593A (ja) | 2022-12-13 | 2023-01-24 | マイクロリソグラフィ投影露光装置のミラーを製造する方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US12117731B2 (enExample) |
| EP (1) | EP4634723A1 (enExample) |
| JP (1) | JP2025539593A (enExample) |
| CN (1) | CN120303618A (enExample) |
| TW (1) | TW202441309A (enExample) |
| WO (1) | WO2024125829A1 (enExample) |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6573978B1 (en) | 1999-01-26 | 2003-06-03 | Mcguire, Jr. James P. | EUV condenser with non-imaging optics |
| DE10238607B4 (de) * | 2002-08-16 | 2006-04-27 | Schott Ag | Verfahren zur Formung von Glas oder Glaskeramik und dessen Verwendung |
| DE10317667A1 (de) | 2003-04-17 | 2004-11-18 | Carl Zeiss Smt Ag | Optisches Element für ein Beleuchtungssystem |
| US20090122428A1 (en) * | 2007-11-09 | 2009-05-14 | Nikon Corporation | Reflective optical elements exhibiting multimetallic-like self-correction of distortions caused by heating |
| DE102008009600A1 (de) | 2008-02-15 | 2009-08-20 | Carl Zeiss Smt Ag | Facettenspiegel zum Einsatz in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikro-Lithographie |
| DE102009043680A1 (de) * | 2009-09-30 | 2011-03-31 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Rohling aus Titan-dotiertem, hochkieselsäurehaltigem Glas für ein Spiegelsubstrat für den Einsatz in der EUV-Lithographie und Verfahren für seine Herstellung |
| US8541325B2 (en) | 2010-02-25 | 2013-09-24 | Corning Incorporated | Low expansivity, high transmission titania doped silica glass |
| DE102010028488A1 (de) * | 2010-05-03 | 2011-11-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Substrate für Spiegel für die EUV-Lithographie und deren Herstellung |
| DE102011085358B3 (de) | 2011-10-28 | 2012-07-12 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Anordnung für die EUV-Lithographie und Verfahren zum Konfigurieren einer solchen optischen Anordnung |
| DE102012201075A1 (de) * | 2012-01-25 | 2013-07-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Anordnung, EUV-Lithographieanlage und Verfahren zum Konfigurieren einer optischen Anordnung |
| DE102013219808A1 (de) * | 2013-09-30 | 2015-04-02 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Spiegelblank für EUV Lithographie ohne Ausdehnung unter EUV-Bestrahlung |
| EP3274311B1 (en) * | 2015-03-26 | 2020-06-17 | Corning Incorporated | Glass composite for use in extreme ultra-violet lithography |
| DE102015226531A1 (de) | 2015-04-14 | 2016-10-20 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik |
| DE102017220586A1 (de) | 2017-11-17 | 2019-05-23 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Pupillenfacettenspiegel, Beleuchtungsoptik und optisches System für eine Projek-tionsbelichtungsanlage |
| DE102018211596A1 (de) * | 2018-07-12 | 2020-01-16 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines reflektierenden optischen Elementes einer Projektionsbelichtungsanlage und reflektierendes optisches Element für eine Projektionsbelichtungsanlage, Projektionsobjektiv und Projektionsbelichtungsanlage |
| DE102020208648A1 (de) | 2020-07-09 | 2022-01-13 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel für ein Lithographiesystem |
| DE102021203475A1 (de) | 2021-04-08 | 2022-10-13 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Spiegels einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie |
| DE102021210093A1 (de) * | 2021-09-13 | 2023-03-16 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches Element mit Kühlkanälen und optische Anordnung |
-
2022
- 2022-12-13 US US18/080,109 patent/US12117731B2/en active Active
-
2023
- 2023-01-24 CN CN202380085406.1A patent/CN120303618A/zh active Pending
- 2023-01-24 EP EP23702093.8A patent/EP4634723A1/en active Pending
- 2023-01-24 JP JP2025534510A patent/JP2025539593A/ja active Pending
- 2023-01-24 WO PCT/EP2023/051684 patent/WO2024125829A1/en not_active Ceased
- 2023-11-27 TW TW112145754A patent/TW202441309A/zh unknown
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