JP2025505995A - プラズマ活性化液体を生成する装置、洗浄及び/又は殺菌のため機器及び方法 - Google Patents
プラズマ活性化液体を生成する装置、洗浄及び/又は殺菌のため機器及び方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2025505995A JP2025505995A JP2024546093A JP2024546093A JP2025505995A JP 2025505995 A JP2025505995 A JP 2025505995A JP 2024546093 A JP2024546093 A JP 2024546093A JP 2024546093 A JP2024546093 A JP 2024546093A JP 2025505995 A JP2025505995 A JP 2025505995A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- gas
- discharge space
- electrode
- designed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/247—Generating plasma using discharges in liquid media
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/4608—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods using electrical discharges
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
- H05H1/2441—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes characterised by the physical-chemical properties of the dielectric, e.g. porous dielectric
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/722—Oxidation by peroxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/78—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with ozone
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
- C02F1/46104—Devices therefor; Their operating or servicing
- C02F1/46109—Electrodes
- C02F2001/46152—Electrodes characterised by the shape or form
- C02F2001/46157—Perforated or foraminous electrodes
- C02F2001/46161—Porous electrodes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
- C02F2209/02—Temperature
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
- C02F2209/38—Gas flow rate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
- C02F2209/40—Liquid flow rate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2303/00—Specific treatment goals
- C02F2303/04—Disinfection
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2307/00—Location of water treatment or water treatment device
- C02F2307/12—Location of water treatment or water treatment device as part of household appliances such as dishwashers, laundry washing machines or vacuum cleaners
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H2245/00—Applications of plasma devices
- H05H2245/20—Treatment of liquids
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
Abstract
第1平坦電極(1)及び第2平坦電極(2)であって、
第1平坦電極(1)及び第2平坦電極(2)は放電空間(3)を介して互いに分離されている、第1平坦電極(1)及び第2平坦電極(2)と、
第1平坦電極(1)と第2平坦電極(2)との間に電圧を印加し、したがって、
第1平坦電極(1)と第2平坦電極(2)との間の放電空間(3)内で電気放電が点火されるように、設計された電圧源(4)と、
放電空間(3)内で電気放電が点火されるときに、電気放電に曝される液体膜(7)を放電空間(3)内で形成するように、液体を放電空間(3)に供給するように設計された、液体供給部(5)と、を備える。
さらなる態様は、かかる装置を有する機器、及び、本装置を使用する、洗浄及び/又は殺菌のための方法に関する。
【選択図】図1
Description
1a 導電コンタクト面(leitfaehige Kontaktflaeche)
1b 誘電層(dielektrische Schicht)
2 第2平坦電極(zweite flaechige Elektrode)
2a 導電コンタクト面(leitfaehige Kontaktflaeche)
2b 誘電層(dielektrische Schicht)
3 放電空間(Entladungsraum)
4 電圧源(Spannungsquelle)
5 液体供給部(Fluessigkeitszufuhr)
6 第1平坦電極の表面(Oberflaeche der ersten flaechigen Elektrode)
7 液体膜(Fluessigkeitsfilm)
8 液体取出部(Fluessigkeitsentnahme)
9 ガス供給部(Gaszufuhr)
10 ガス取出(Gasentnahme)
11 液体分配器(Fluidverteiler)
12 輸送層(Transportschicht)
13 多孔質体(poroeser Koerper)
14 ギャップ(Spalt)
15 反応チャンバ(Reaktionskammer)
16 収集容器(Sammelbehaelter)
17 液体リザーバ(Fluessigkeitsreservoir)
17a 再投与機構(Nachdosiermechanismus)
18 ガスリザーバ(Gasreservoir)
18a 再投与機構(Nachdosiermechanismus)
19 液体戻りチャネル(Fluessigkeits-Rueckfuehrkanal)
20 循環チャネル(Rezirkulationskanal)
21 アウトレット(Auslass)
Claims (23)
- プラズマ活性化液体を生成する装置であって:
放電空間(3)を介して互いに分離されている第1平坦電極(1)及び第2平坦電極(2)と、
前記第1平坦電極(1)と前記第2平坦電極(2)との間に電圧を印加し、したがって、前記第1平坦電極(1)と前記第2平坦電極(2)との間の前記放電空間(3)内で電気放電が点火されるように、設計された電圧源(4)と、
前記放電空間(3)内で前記電気放電が点火されるときに、前記電気放電に曝される液体膜(7)を前記放電空間(3)内で形成するように、前記液体を前記放電空間(3)に供給するように設計された、液体供給部(5)と、
を備える、装置。 - 前記液体は前記液体膜(7)内で前記放電によってプラズマ活性化される、
請求項1記載の装置。 - 前記液体膜(7)は50nmと0.2mmとの間の厚さを有する、
請求項1又は2記載の装置。 - 前記第1平坦電極(1)は、前記放電空間(3)に面する誘電層(1b)を有し、及び/又は、
前記第2平坦電極(2)は、前記放電空間(3)に面する誘電層(2b)を有する、
請求項1乃至3いずれか1項記載の装置。 - 前記第1平坦電極(1)の前記誘電層(1b)は、多孔質及び/又は粗面であり、
前記第2平坦電極(2)の前記誘電層(2b)は、多孔質及び/又は粗面である、
請求項4記載の装置。 - 前記液体供給部(5)は、前記液体が前記放電空間(3)に面する前記第1平坦電極の表面に前記液体膜(7)を形成するように、前記液体を供給するように設計されている、
請求項1乃至5いずれか1項記載の装置。 - 前記第1平坦電極(1)は、前記放電空間(3)に面する前記第1平坦電極(1)の表面(6)を形成する、多孔質材料の輸送層を有し、
請求項1乃至6いずれか1項記載の装置。 - 前記液体供給部(5)は前記輸送層(12)の液体を供給するように設計されており、したがって、前記液体は前記輸送層(12)を介して移動し、前記第1平坦電極(1)の前記表面(6)に前記液体膜(7)を形成する、
請求項7記載の装置。 - 前記放電空間(3)内に、前記第1平坦電極(1)と前記第2平坦電極(2)とからそれぞれギャップ(14)を介して分離された多孔質体(13)が配置されており、
前記液体供給部(5)は、前記多孔質体の表面に前記液体膜を生成するように設計されている、
請求項1乃至8いずれか1項記載の装置。 - 前記放電空間(3)内に、前記第1平坦電極(1)と前記第2平坦電極(2)とからそれぞれギャップ(14)を介して分離する多孔質体(13)が配置されており、
前記液体供給部(5)は、前記第1平坦電極(1)に面する、前記多孔質体(13)の表面に前記液体膜を生成し、前記第2平坦電極(2)に面する、前記多孔質体(13)の表面にさらなる液体膜を生成するように設計されており、
前記第1平坦電極(1)及び前記第2平坦電極(2)上には液体膜が生成されない、
請求項1乃至8いずれか1項記載の装置。 - 前記装置は反応チャンバ(15)を有し、前記反応チャンバ(15)内には前記放電空間(3)が配置されており、
前記反応チャンバ(15)は、プラズマ活性化液体を放出するように設計された液体取出部(8)を有し、
請求項1乃至10いずれか1項記載の装置。 - 前記装置は、前記液体を収容する液体リザーバ(17)を有し、
前記液体供給部(5)は、前記液体を前記液体リザーバ(17)から取り出し、前記液体を前記放電空間に供給するように設計されており、
前記装置は、前記液体を前記反応チャンバ(15)から前記液体リザーバ(17)内に戻すように設計された戻りチャネル(19)を有する、
請求項11記載の装置。 - 前記装置はガスリザーバ(18)を有し、
前記ガスリザーバ(18)からガスを取り出し、前記ガスを前記反応チャンバ(15)に供給するように、ガス供給部(9)が設計されており、
前記装置は、前記放電空間(3)内の前記ガスを前記放電の際に活性化するように設計されている、
請求項11又は12記載の装置。 - 前記装置は、プラズマ活性化ガスを前記反応チャンバ(15)から前記ガスリザーバ(18)に戻すように設計された再循環チャネル(20)を有する、
請求項13記載の装置。 - 前記液体リザ―バ(17)及び前記ガスリザーバ(18)は互いに接続されており、前記再循環チャネル(20)の出口(21)は前記液体リザーバ内に配置されており、したがって、前記再循環チャネル(20)の前記出口において放出されるプラズマ活性化ガスが前記液体リザーバ(17)内で前記液体を介して流れる、
請求項12及び14記載の装置。 - 前記反応チャンバ(15)は、プラズマ活性化ガスを放出するように設計されたガス取出部(10)を有し、
請求項11乃至15いずれか1項記載の装置。 - 前記第1平坦電極(1)は、平面又は円筒対称であり、及び/又は、
前記第2平坦電極(2)は、平面又は円筒対称である、
請求項1乃至16いずれか1項記載の装置。 - 前記装置は能動的ポンプ要素がなく、前記装置内の前記液体は毛細管力及び重力によってのみ移動する、
請求項1乃至17いずれか1項記載の装置。 - 前記液体膜(7)は、前記第1平坦電極(1)及び/又は前記第2平坦電極(2)を冷却する、
請求項1乃至18いずれか1項記載の装置。 - 請求項1乃至19いずれか1項記載の装置を備える機器。
- 前記機器は、例えば、床ケア機器、掃除ロボット、コーヒーメーカー、食器洗い機、又は、乾燥器である家庭用機器であるか、又は、
前記機器は、水処理機器又は医療機器である、
請求項20記載の機器。 - 請求項1乃至19いずれか1項記載の装置によってプラズマ活性化液体を生成し、
前記プラズマ活性化液体を洗浄及び/又は殺菌のために使用する、
方法。 - 洗浄及び/又は殺菌のための方法であって、
請求項1乃至19いずれか1項記載の装置によってプラズマ活性化ガスを生成し、
前記プラズマ活性化ガスを洗浄及び/又は殺菌のために使用する、
方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102022102681.7 | 2022-02-04 | ||
| DE102022102681.7A DE102022102681B4 (de) | 2022-02-04 | 2022-02-04 | Vorrichtung zur Erzeugung einer Plasma-aktivierten Flüssigkeit, Gerät und Verfahren zur Reinigung und/oder Sterilisation |
| PCT/EP2023/052558 WO2023148265A1 (de) | 2022-02-04 | 2023-02-02 | Vorrichtung zur erzeugung einer plasma-aktivierten flüssigkeit, gerät und verfahren zur reinigung und/oder sterilisation |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2025505995A true JP2025505995A (ja) | 2025-03-05 |
| JP7830667B2 JP7830667B2 (ja) | 2026-03-16 |
Family
ID=85176050
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2024546093A Active JP7830667B2 (ja) | 2022-02-04 | 2023-02-02 | プラズマ活性化液体を生成する装置、洗浄及び/又は殺菌のため機器及び方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20250126701A1 (ja) |
| JP (1) | JP7830667B2 (ja) |
| CN (1) | CN118679859A (ja) |
| DE (1) | DE102022102681B4 (ja) |
| WO (1) | WO2023148265A1 (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007196121A (ja) * | 2006-01-25 | 2007-08-09 | Univ Nagoya | 水処理方法および水処理装置 |
| JP2012096141A (ja) * | 2010-10-29 | 2012-05-24 | Tokyo Electron Ltd | 水滅菌装置及び水滅菌方法 |
| WO2014188725A1 (ja) * | 2013-05-24 | 2014-11-27 | 国立大学法人大阪大学 | 殺菌用液体の生成方法および装置 |
| US20180327283A1 (en) * | 2014-12-15 | 2018-11-15 | Technische Universiteit Eindhoven | Plasma Activated Water |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20040076543A1 (en) | 2002-03-18 | 2004-04-22 | Sokolowski Asaf Zeev | System and method for decontamination and sterilization of harmful chemical and biological materials |
| PL3562276T3 (pl) | 2018-04-23 | 2021-07-12 | Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie e.V. | Układ do wspomaganej plazmą obróbki cieczy |
| DE102018121551B4 (de) | 2018-09-04 | 2024-12-19 | PICON GmbH | Verfahren und Anlage zur oxidativen Aufbereitung von Trink-, Brauch- und Abwasser |
-
2022
- 2022-02-04 DE DE102022102681.7A patent/DE102022102681B4/de active Active
-
2023
- 2023-02-02 WO PCT/EP2023/052558 patent/WO2023148265A1/de not_active Ceased
- 2023-02-02 CN CN202380020099.9A patent/CN118679859A/zh active Pending
- 2023-02-02 US US18/834,803 patent/US20250126701A1/en active Pending
- 2023-02-02 JP JP2024546093A patent/JP7830667B2/ja active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007196121A (ja) * | 2006-01-25 | 2007-08-09 | Univ Nagoya | 水処理方法および水処理装置 |
| JP2012096141A (ja) * | 2010-10-29 | 2012-05-24 | Tokyo Electron Ltd | 水滅菌装置及び水滅菌方法 |
| WO2014188725A1 (ja) * | 2013-05-24 | 2014-11-27 | 国立大学法人大阪大学 | 殺菌用液体の生成方法および装置 |
| US20180327283A1 (en) * | 2014-12-15 | 2018-11-15 | Technische Universiteit Eindhoven | Plasma Activated Water |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN118679859A (zh) | 2024-09-20 |
| DE102022102681B4 (de) | 2023-08-31 |
| US20250126701A1 (en) | 2025-04-17 |
| JP7830667B2 (ja) | 2026-03-16 |
| WO2023148265A1 (de) | 2023-08-10 |
| DE102022102681A1 (de) | 2023-08-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI648807B (zh) | 用以利用具有多孔性材料的支持滾子處理基板之裝置和方法 | |
| TWI586385B (zh) | Container sterilization method and sterilization system | |
| TW200524034A (en) | Plasma processing system and plasma treatment process | |
| CN103394107A (zh) | 一种奶瓶消毒机 | |
| KR20000053747A (ko) | 기화기부착 미량 정량 액체자동공급장치 | |
| CA2893397C (en) | Method and device for generating steam and gaseous hydrogen peroxide | |
| TW202141614A (zh) | 處理液溫度調整方法、基板處理方法、處理液溫度調整裝置、及基板處理系統 | |
| JP2025505995A (ja) | プラズマ活性化液体を生成する装置、洗浄及び/又は殺菌のため機器及び方法 | |
| US20040181979A1 (en) | Pressing iron having an electro-osmotic pump | |
| WO2012108235A1 (ja) | プラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器 | |
| JP5884066B2 (ja) | 液体処理ユニット、洗浄便座、洗濯機および液体処理装置 | |
| JP5884065B2 (ja) | 液体処理ユニット、洗浄便座、洗濯機および液体処理装置 | |
| KR102015884B1 (ko) | 플라즈마 발생기를 포함하는 가습기 | |
| CN217310125U (zh) | 表面清洁设备及表面清洁系统 | |
| KR20180094563A (ko) | 유체 급속 가열장치 및 이를 이용한 대상물 처리 시스템 | |
| KR102015883B1 (ko) | 플라즈마 발생기를 포함하는 족욕기 | |
| KR102193372B1 (ko) | 유도가열 방식을 이용한 소형 스팀 클리너 | |
| CN112237640B (zh) | 一种手术器械蒸汽消毒装置 | |
| CN101928955A (zh) | 电解设备和包括该电解设备的装置 | |
| JP3621613B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| CN223688662U (zh) | 雾化机构和衣物护理机 | |
| JP2002052070A (ja) | 蒸気滅菌装置および乾熱滅菌装置 | |
| WO2006049879A2 (en) | Fluid delivery system for a water tub using a removeable chemical carrier | |
| KR102100758B1 (ko) | 초음파 진동을 이용한 수증기 분사 장치 | |
| JP2001191065A (ja) | 水の殺菌装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240930 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20240930 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20250630 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20250729 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20251029 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20260203 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20260304 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7830667 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
