JP2025501025A5 - - Google Patents

Info

Publication number
JP2025501025A5
JP2025501025A5 JP2024532437A JP2024532437A JP2025501025A5 JP 2025501025 A5 JP2025501025 A5 JP 2025501025A5 JP 2024532437 A JP2024532437 A JP 2024532437A JP 2024532437 A JP2024532437 A JP 2024532437A JP 2025501025 A5 JP2025501025 A5 JP 2025501025A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fluorine
layer
containing layer
aluminum
fluoride
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2024532437A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2025501025A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/US2022/050688 external-priority patent/WO2023101862A1/en
Publication of JP2025501025A publication Critical patent/JP2025501025A/ja
Publication of JP2025501025A5 publication Critical patent/JP2025501025A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2024532437A 2021-11-30 2022-11-22 アルミニウムミラー用の保護コーティング及びこれを形成する方法 Pending JP2025501025A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US202163284293P 2021-11-30 2021-11-30
US63/284,293 2021-11-30
PCT/US2022/050688 WO2023101862A1 (en) 2021-11-30 2022-11-22 Protective coatings for aluminum mirrors and methods of forming the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2025501025A JP2025501025A (ja) 2025-01-16
JP2025501025A5 true JP2025501025A5 (enExample) 2025-11-14

Family

ID=84901334

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2024532437A Pending JP2025501025A (ja) 2021-11-30 2022-11-22 アルミニウムミラー用の保護コーティング及びこれを形成する方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20230168417A1 (enExample)
EP (1) EP4441270A1 (enExample)
JP (1) JP2025501025A (enExample)
WO (1) WO2023101862A1 (enExample)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP4544092A1 (en) * 2022-06-22 2025-04-30 Corning Incorporated In-situ aluminium cleaning using atomic layer etching followed by atomic layer deposition capping for enhanced aluminium mirrors for vuv optics
DE102024201149A1 (de) * 2024-02-08 2025-08-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Atomlagenabscheiden einer Fluoridschicht, optisches Element und optische Anordnung
WO2025254786A1 (en) * 2024-06-04 2025-12-11 Corning Incorporated Mirror with metal fluoride layers and method of making the same

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101925837B (zh) * 2007-11-30 2013-01-30 康宁股份有限公司 用于duv元件的致密均匀氟化物膜及其制备方法
DE102018211499A1 (de) * 2018-07-11 2020-01-16 Carl Zeiss Smt Gmbh Reflektives optisches Element und Verfahren zum Herstellen eines reflektiven optischen Elements

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2025501025A5 (enExample)
TWI775442B (zh) 反射型遮罩基底、反射型遮罩及半導體裝置之製造方法
JP6470176B2 (ja) 多層反射膜付き基板、ｅｕｖリソグラフィー用反射型マスクブランク、ｅｕｖリソグラフィー用反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法
JP6381921B2 (ja) 反射型マスクブランク、反射型マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法
TWI450319B (zh) 大區域奈米尺度圖案的製造方法
JP2019522113A5 (enExample)
US20030224116A1 (en) Non-conformal overcoat for nonometer-sized surface structure
JP2023513110A5 (enExample)
KR20160101920A (ko) 반사형 마스크 블랭크 및 반사형 마스크, 및 반도체 장치의 제조 방법
CN111381296A (zh) 分层系统和包括分层系统的光学元件
JP2024107472A (ja) 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法
CN102707351A (zh) 利用结构化的玻璃涂层制作衍射光学元件
JP2010147102A (ja) 太陽電池セルの製造方法
CN107431144B (zh) 用于oled的分层结构和制造这样的结构的方法
TWI864251B (zh) 減少微電子工件之euv圖案化中的微橋缺陷之方法
CN102543682A (zh) 多级深台阶的形成方法
CN100468081C (zh) 光学元件
US10254640B2 (en) Reflective element for mask blank and process for producing reflective element for mask blank
JP7543616B2 (ja) プラズマ選択的堆積によるライン粗さ改善の方法
CN111699430B (zh) 用于光学器件增强的润湿层
JPH0291940A (ja) 半導体装置の製造方法
JP2003004919A (ja) 高反射ミラー
JP3348564B2 (ja) 誘電体キャパシタの製造方法
CN106629573B (zh) 改善台阶侧壁的薄膜刻蚀不完全的结构及方法
JPH0545514A (ja) 多層干渉パターンの形成方法