JP2024083662A - 光導波路基板、光モジュールおよび光モジュールの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】光照射による、光学素子と電気回路基板の間のアンダーフィルの硬化が、より促進される光導波路基板等を提供する。【解決手段】光導波路基板は、円柱状または角柱状に形成され、第1の方向に線状に延伸するコアと、シート状に光透過部材により形成され、コアの外周面を覆うクラッドと、クラッドの第1の主面の一端部に設けられ、光学素子が実装される第1の領域と、第1の主面の反対側の第1の領域と向かい合う領域内に設けられ、第1の方向の他端部側から一端部側にコア内を伝搬する光を、第1の主面の垂直方向に反射して第1の領域に入射させる第1のミラーと、第1の主面の反対側の第1の領域と少なくとも一部が向かい合う領域内に設けられ、第1の方向の一端部側から他端部側にコア内を伝搬する光を、反射前の光軸と反射後の光軸とがなす角度が鈍角となる方向に反射して第1の領域に入射させる第2のミラーと、を有する。【選択図】 図1
Description
本発明は、光導波路基板等に関する。
近年、情報処理装置では、大容量化、高速化のために光通信の利用が盛んになっている。そして、光通信を行うために様々な光モジュールが開発されている。このような光モジュールの一種に、光導波路を備えた配線板(以降、光導波路基板と称する)を利用するものがある。光導波路基板としては、例えば、フレキシブルプリント配線板に複数の光導波路を形成したものが用いられる。このような光モジュールでは、小型化のために、光導波路基板の端部に、光学素子をフェイスダウン実装した構成が提案されている。フェイスダウン実装では、光学素子の受光面あるいは発光面が光導波路基板の主面に対向される。また、光導波路の端部に、光導波路の光軸と45度をなす反射面(ミラー)が設けられる。この反射面によって、光導波路中を伝搬する光が垂直に反射される。この反射によって、光導波路中を伝搬する光を光学素子の受光面に導くことができる。あるいは、光学素子から出射された光を、光導波路に導くことができる。
光学素子のフェイスダウン実装では、例えば、はんだバンプや金バンプ等の導電性接合材によって光学素子とフレキシブル基板の配線とが接続される。そして、この接続部を保護するために、アンダーフィルの樹脂が、接続部の周囲に充填される。つまり、光素子とフレキシブル基板の間の接続部を含む部分にアンダーフィルが充填される。このような構成を持つ光モジュールの技術が、例えば、特許文献1に開示されている。
特許文献1の光モジュールは、電気回路基板(本願の光導波路基板に相当)と、電気回路基板に接合された光素子(本願の光学素子に相当)とを備えている。電気回路基板は、光透過性樹脂基板を備え、光素子が接合された面と反対側の面には、光導波路が設けられている。光導波路は、第1クラッド層、コア、および第2クラッド層の積層からなる。光素子は、その発光部(または受光部)を電気回路基板に向けた状態(フェイスダウン)で、回路基板に実装されている。また、バンプおよび実装用パッドを介して、光素子が回路基板の電気回路に接続されている。
光導波路の一端部には、コアの長手方向に対して45度傾斜した傾斜面が形成されている。そして、その傾斜面に位置するコアの部分は、光反射面になっている。このような構成により、上記光素子の発光部(または受光部)とコアとが光結合されている。また、光素子の発光部(または受光部)と、電気回路基板の光透過性樹脂基板との間が、光透過性樹脂硬化物(アンダーフィル)で埋められている。そして、光透過性樹脂硬化物の硬化にあたっては、まず、光素子の背面側(発光部の反対側)からUV(Ultra Violet、紫外線)が照射される。これにより、アンダーフィルが部分的に硬化される。この部分的な硬化によって光素子が仮固定される。その後、熱硬化によって、未硬化部分(UVが照射されなかった部分)が硬化される。これにより、アンダーフィルが完全に硬化される。
特許文献1の技術では、熱硬化前の光照射の段階において、光素子と電気回路基板との間の部分のアンダーフィルが、ほとんど硬化されない。光素子の背面からUVが照射されることが、その原因である。つまり光素子の陰になる部分のアンダーフィルには、UV光が照射されない。このため、UV光の光照射だけでは、光素子と電気回路基板の間のアンダーフィルの硬化が進まないという問題があった。
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであり、光照射による、光学素子と電気回路基板の間のアンダーフィルの硬化が、より促進される光導波路基板等を提供することを目的としている。
上記の課題を解決するため、本発明の光導波路基板は、円柱状または角柱状に形成され、第1の方向に線状に延伸するコアと、シート状に光透過部材により形成され、前記コアの外周面を覆うクラッドと、前記クラッドの第1の主面における前記第1の方向の一端部に設けられ、光学素子が実装される第1の領域と、前記第1の主面の反対側の面であって前記第1の領域と向かい合う領域内に、前記第1の方向の一端部側から他端部側に向かうにつれて前記第1の主面から遠ざかる第1の傾斜面に形成され、前記第1の方向の他端部側から一端部側に前記コア内を伝搬する光を、前記第1の主面に対して垂直方向に反射することで前記第1の領域に入射させる第1のミラーと、前記第1の主面の反対側の面であって前記第1の領域と少なくとも一部が向かい合う領域内に、前記第1の方向の他端部側から一端部側に向かうにつれて前記第1の主面から遠ざかる第2の傾斜面に形成され、前記第1の方向の一端部側から他端部側に前記コア内を伝搬する光を、反射前の光軸と反射後の光軸とがなす角度が鈍角となる方向に反射することで前記第1の領域に入射させる第2のミラーと、を有する。
また、本発明の光モジュールは、上記の光導波路基板と、前記第1の領域において、前記クラッドに実装された光学素子と、前記光学素子と前記クラッドの間に充填され、光硬化性を有するアンダーフィルと、を有する
また、本発明の光モジュールの製造方法は、光導波路基板に光学素子を実装する光モジュールの製造方法であって、前記光導波路基板は、円柱状または角柱状に形成され、第1の方向に線状に延伸するコアと、シート状に光透過部材により形成され、前記コアの外周面を覆うクラッドと、前記クラッドの第1の主面における前記第1の方向の一端部に設けられ、光学素子が実装される第1の領域と、前記第1の主面の反対側の面であって前記第1の領域と向かい合う領域内に、前記第1の方向の一端部側から他端部側に向かうにつれて前記第1の主面から遠ざかる第1の傾斜面に形成され、前記第1の方向の他端部側から一端部側に前記コア内を伝搬する光を、前記第1の主面に対して垂直方向に反射することで前記第1の領域に入射させる第1のミラーと、前記第1の主面の反対側の面であって前記第1の領域と少なくとも一部が向かい合う領域内に、前記第1の方向の他端部側から一端部側に向かうにつれて前記第1の主面から遠ざかる第2の傾斜面に形成され、前記第1の方向の一端部側から他端部側に前記コア内を伝搬する光を、反射前の光軸と反射後の光軸とがなす角度が鈍角となる方向に反射することで前記第1の領域に入射させる第2のミラーと、を有し、前記第1の領域に前記光学素子を実装し、前記光学素子と前記クラッドの間に、光硬化性を備えたアンダーフィルを充填し、前記コアから前記第2のミラーに向かって前記アンダーフィルを光硬化させる光を入射させる。
また、本発明の光モジュールの製造方法は、光導波路基板に光学素子を実装する光モジュールの製造方法であって、前記光導波路基板は、円柱状または角柱状に形成され、第1の方向に線状に延伸するコアと、シート状に光透過部材により形成され、前記コアの外周面を覆うクラッドと、前記クラッドの第1の主面における前記第1の方向の一端部に設けられ、光学素子が実装される第1の領域と、前記第1の主面の反対側の面であって前記第1の領域と向かい合う領域内に、前記第1の方向の一端部側から他端部側に向かうにつれて前記第1の主面から遠ざかる第1の傾斜面に形成され、前記第1の方向の他端部側から一端部側に前記コア内を伝搬する光を、前記第1の主面に対して垂直方向に反射することで前記第1の領域に入射させる第1のミラーと、前記第1の主面の反対側の面であって前記第1の領域と少なくとも一部が向かい合う領域内に、前記第1の方向の他端部側から一端部側に向かうにつれて前記第1の主面から遠ざかる第2の傾斜面に形成され、前記第1の方向の一端部側から他端部側に前記コア内を伝搬する光を、反射前の光軸と反射後の光軸とがなす角度が鈍角となる方向に反射することで前記第1の領域に入射させる第2のミラーと、を有し、前記第1の領域に前記光学素子を実装し、前記光学素子と前記クラッドの間に、光硬化性を備えたアンダーフィルを充填し、前記コアから前記第2のミラーに向かって前記アンダーフィルを光硬化させる光を入射させる。
本発明の効果は、光照射による、光学素子と電気回路基板の間のアンダーフィルの硬化が、より促進される光導波路基板等を提供できることである。
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を詳細に説明する。但し、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい限定がされているが、発明の範囲を以下に限定するものではない。なお各図面の同様の構成要素には同じ番号を付し、説明を省略する場合がある。
(第1の実施形態)
図1は、第1の実施形態の光導波路基板10を示す断面模式図である。光導波路基板10は、コア1と、クラッド2と、第1の領域2aと、第1のミラー3と、第2のミラー4と、を有する。
図1は、第1の実施形態の光導波路基板10を示す断面模式図である。光導波路基板10は、コア1と、クラッド2と、第1の領域2aと、第1のミラー3と、第2のミラー4と、を有する。
コア1は、第1の方向に線状に延伸する円柱状または角柱状に形成される。ここで、説明のために、第1の方向における一端部と他端部とを定義する。一端部とは第1の方向におけるコア1の端部である。図1では、コア1の左側の端部が一端部である。そして、コア1の一端部のある方向を一端部側と称する。また、他端とは、コア1の一端部の反対側の端部である。図1ではコア1の右側の端部である。そして、コア1の他端部のある方向を他端部側と称する。
クラッド2は、光透過部材によってシート状に形成される。そして、クラッド2が、コア1の外周面を覆う。クラッド2が円柱状または角柱状のコア1の外周を取り囲んでいる。このため、図1では、コア1の上下にクラッド2が存在する。
第1の領域2aは、クラッド2の第1の主面2bにおける第1の方向の一端部側に設けられる。第1の領域2aには、光学素子20が実装される。
第1の主面2bの反対側の面の第1の領域2aと向かい合う領域内には、第1のミラー3が設けられる。第1のミラー3は、第1の傾斜面3aに設けられる。コア1とクラッド2とを、第1の方向に対して斜めに切った断面となるように、第1の傾斜面3aが形成される。位置が第1の方向の一端部側から他端部側に向かうにつれて、面の位置が第1の主面2bから遠ざかるように、第1の傾斜面3aが傾斜する。
ここで、第1の傾斜面3aの第1の方向に対する傾きと、コア1と外部の媒体の屈折率差が全反射条件を満たせば、コア1を伝搬した光が第1の傾斜面3aで全反射される。傾きが45度、外部が空気の場合には、コア1の屈折率が1.41以上で全反射条件が満たされる。この場合、第1の傾斜面3a自体が、第1のミラー3となり得る。しかしながら、反射効率を高めるために、第1の傾斜面3a上に金属膜等の反射部材が設けられても良い。また、反射部材が設けられた構成では、外部からのノイズ光の入射が防止される。
そして、第1の方向の他端部側から一端部側にコア1内を伝搬する光を、第1のミラー3が反射する。反射する方向は、第1の主面2bに対して垂直方向である。この反射によって、第1のミラー3の反射光が、第1の領域2aに入射される。また、第1の主面2bの垂直方向から入射した光が、第1のミラー3に反射される。そして、反射光がコア1に入射する。
第1の主面2bの反対側の面のうち、第1の領域2aと少なくとも一部が向かい合う領域内には、第2のミラー4が設けられる。第2のミラーは第2の傾斜面4aに設けられる。コア1とクラッド2とを、第1の方向に対して斜めに切った断面となるように、第2の傾斜面4aが形成される。位置が第1の方向の他端部側から一端部側に向かうにつれて、面の位置が第1の主面2bから遠ざかるように、第2の傾斜面4aが傾斜する。
第1の傾斜面3aと同様に、第2の傾斜面4aの傾きと、コア1と外部との屈折率差が全反射条件を満たせば、第2の傾斜面4a自体が第2のミラー4になり得る。しかしながら、第2の傾斜面4a上に金属膜等の反射部材が設けられても良い。そして、第1の方向の一端部側から他端部側にコア1内を伝搬する光を、第2のミラー4が反射する。反射の方向は、反射前の光軸と反射後の光軸とがなす角度が鈍角となる方向である。この反射によって、第2のミラー4の反射光が、第1の領域2aに入射する。この際、第1の主面2bの垂直方向に対して、第2の傾きをもって、反射光が第1の領域2aに入射する。
一端部側のコア1から入射し、第2のミラー4によって反射された光は、光学素子20とクラッド2とが対向する空間に入射する。この空間に光硬化性のアンダーフィルが充填されている際には、アンダーフィルに光が入射する。この光が光硬化に寄与するものであれば、光の入射によってアンダーフィルが硬化される。そして、第2のミラー4が光を鈍角に反射するため、光を直角に反射する構成よりも、大きな領域のアンダーフィルが光硬化される。これにより、光照射によるアンダーフィルの硬化がより促進される。つまり、光照射による、光学素子と電気回路基板の間のアンダーフィルの硬化が、より促進される。
次に、光導波路基板10を用いた光モジュールについて説明する。図2は、第1の実施形態の光モジュール100の一例を示す平面模式図である。光モジュール100は、光導波路基板10と光学素子20とを備える。クラッド2の一端部側の第1の領域2aに、光学素子20が実装される。第1の領域2aの、第1の主面2bの反対側には、第1のミラー3と第2のミラー4が設けられる。図2の例では、4つのコア1に対応して、4つの光学素子20が設けられている。
図3は、第1の実施形態の光モジュール100の一例を示す断面模式図である。この図は、図2のA-A´における断面の断面図である。図4は、第1の実施形態の光モジュール100の一例を示す別の方向の断面模式図である。この図は、図2のB-B´における断面図である。
図3に示されるように、コア1の外周を取り囲むように、クラッド2が設けられる。図3の例では、コア1が円筒状であるため、その断面が円状である。コア1が四角柱などの多角柱状であれば、その断面は、多角形になる。そして、クラッド2の断面が長方形である。なお、クラッド2の断面は、長方形の角が面取りされた形状でもよい。
図4に示されるように、クラッド2の第1の主面2bの第1の領域2aには、光学素子20が実装されている。接続部30によって、光学素子20が第1の領域2aに実装される。光学素子20と第1の主面2bの間の、接続部30の周囲には、アンダーフィル40が充填される。アンダーフィル40は、光硬化性である。また、アンダーフィル40は、信号光Sを透過する。
第1の主面2bの反対側の面の第1の領域2aと向かい合う領域内には、第1の傾斜面3aが設けられる。また、第1の傾斜面3a上には、第1のミラー3が形成されている。位置が一端部側から他端部側に向かうにつれて、面の位置が第1の主面2bから遠ざかるように、第1の傾斜面3aが傾斜する。他端部側から一端部側にコア内を伝搬する信号光Sを、第1のミラー3が、第1の主面2bに対して垂直方向に反射する。つまり、第1のミラー3が、第1の方向に対して45度傾いている。この反射によって、信号光Sが光学素子20の受光部21に入射する。なお、光学素子20から信号光Sが送信される構成では、光学素子20から送信された信号光Sが、第1のミラー3に反射される。そして、反射光がコア1の他端部側に向かって、コア1内を伝搬する。
また、第1の主面2bの反対側の面の第1の領域2aと向かい合う領域内には、第2の傾斜面4aが設けられる。第1の主面2bの反対側の面の、第1の領域2aと少なくとも一部が向かい合う領域内に、第2の傾斜面4aが設けられる。第2の傾斜面4a上には、第2のミラー4が形成されている。一端部側から他端部側にコア内を伝搬する光を、第2のミラー4が、第1の領域2aに向けて反射する。この際、入射光の光軸と反射光の光軸とが鈍角となるように、第2のミラー4が光を反射する。つまり、第2のミラー4が、第1の方向に対して45度より小さい角度に傾いている。
第2のミラーが、上記の構成であることによって、コア1の一端部側から第2のミラー4に入射した光が、光学素子20と第1の主面2bの間のアンダーフィル40に入射される。このため、アンダーフィル40が未硬化の時に、第2のミラー4にコア1の一端部側から樹脂硬化光Pが入射されれば、アンダーフィル40の少なくとも一部が硬化される。
上記の硬化反応において、アンダーフィル40がフロンタル重合する性質を備えていれば、光が当たっていない部分のアンダーフィル40も硬化される。あるいは、アンダーフィル40が酸増殖反応する性質を備えていれば、光が当たっていない部分のアンダーフィル40も硬化される。あるいは、アンダーフィル40が塩基増殖反応する性質を備えていれば、光が当たっていない部分のアンダーフィル40も硬化される。ここで、フロンタル重合とは、光をトリガーに重合熱が発生し、重合熱の伝播により重合が進行する性質である。また、酸増殖反応する性質とは、光をトリガーにして、重合反応の触媒となる酸触媒が連鎖的に発生し、重合が進行する性質である。また、塩基増殖反応する性質とは、光をトリガーにして、重合反応の触媒となる塩基触媒が連鎖的に発生し、重合が進行する性質である。これらの性質を持つ樹脂を用いることによって、光をトリガーとして、光の当たらない場所でも重合が行われる。例えば、「有光晃二、エポキシ樹脂の光硬化~光反応とその増幅~、日本接着学会四Vol.53、No.11(2017)、P398-404)」には、このような重合機構が紹介されている。なお、上記の構成で、光硬化されなかったアンダーフィル40があった際は、例えば、追加の加熱によって未硬化のアンダーフィル40が硬化される。
以上に説明したように、本実施形態の光モジュール100では、コア1の一端部側から樹脂硬化光を第2のミラー4に入射させることにより、アンダーフィル40の少なくとも一部の光硬化が可能である。また、アンダーフィル40が、フロンタル重合する性質、酸増殖反応する性質、または、塩基増殖反応する性質を備えた樹脂であれば、光が入射した領域よりも広い領域のアンダーフィル40が硬化される。つまり、光照射による、光学素子と電気回路基板の間のアンダーフィルの硬化が、より促進される。特許文献1の技術のように、熱硬化前に光硬化で光学素子20を仮固定する方法に適用した際には、仮固定が、より強固になる。このため、光学素子20の位置がずれにくい。
次に、光モジュール100の製造方法について説明する。なお、以下の説明では、第1の状態から第8の状態まで、数字の昇順に、物の状態が変化する。
図5は、第1の実施形態の光モジュール100の製造方法の第1の状態を示す断面図である。第1の方向に延伸するコア1と、コア1の外周を取り囲むクラッド2が形成されている。コア1は、例えば、複数設けられ、クラッド2はシート状に形成される。
図6は、第1の実施形態の光モジュール100の製造方法の第2の状態を示す断面図である。クラッド2の第1の主面2bの一端部側に第1の領域2aが設けられる。第1の領域2aは、光学素子20が実装される領域である。第1の領域2aと反対側の面には、第1の傾斜面3aと第2の傾斜面4aが形成される。第1の傾斜面3aは、第1の方向とのなす角が45度となるように形成される。第2の傾斜面4aは、第1の方向とのなす角が45度より小さくなるように形成される。また、第1の傾斜面3aは、第1の領域2aと向かい合う領域内に形成される。第2の傾斜面4aは、第1の領域2aと少なくとも一部が向かい合う領域内に形成される。第1の傾斜面3aおよび第2の傾斜面4aは、例えば、ダイシング等の切削、化学的エッチング、レーザ加工等によって形成される。図4の説明で述べたように、第1の傾斜面3aと第2の傾斜面4aが、コア1を伝搬した光を全反射する構成とすることが可能である。
図7は、第1の実施形態の光モジュール100の製造方法の第3の状態を示す断面図である。第1の傾斜面3a第3の状態では、第1の傾斜面3a上に第1のミラー3が形成される。また第2の傾斜面4a上には第2のミラーが形成される。ここで、第1の傾斜面3aが、コア1を伝搬した光を全反射する構成では、第1の傾斜面3a自体が第1のミラー3となり得る。第2の傾斜面4aについても同様である。また、第1の傾斜面3aに反射部材が設けられて、第1のミラー3が形成されても良い。例えば、スパッタ、蒸着、メッキなどを用いた金属膜の成膜によって、反射部材が形成される。第2のミラー4についても同様である。
図8は、第1の実施形態の光モジュール100の製造方法の第4の状態を示す断面図である。第1の主面2bの第1の領域2aに、光学素子20を接続するための電極31が形成される。電極31は、例えば、銅や金などの金属である。また、第1の主面2bには、電極31の他に、配線や回路が形成されても良い。
図9は、第1の実施形態の光モジュール100の製造方法の第5の状態を示す断面図である。電極31の上に、光学素子20の電極と接続を行うための導電性のバンプ32が形成される。バンプ32は、例えば、はんだや金などによって構成される。
図10は、第1の実施形態の光モジュール100の製造方法の第6の状態を示す断面図である。バンプ32を光学素子20の電極と接続することによって、光学素子20が実装される。受光部21が第1の主面2bと対向するフェイスダウンで、光学素子20が実装される。なお、光学素子20が発光素子の際には、発光部が第1の主面2bに対向する。
図11は、第1の実施形態の光モジュールの製造方法の第7の状態を示す断面図である。光学素子20と第1の主面2bの間の、接続部30の周囲に、アンダーフィル40が充填される。図11の例では、アンダーフィル40が接続部30の外側にはみ出している。
図12は、第1の実施形態の光モジュール100の製造方法の第8の状態を示す断面図である。コア1の一端部側から第2のミラー4に向かって、樹脂硬化光Pが入射される。そして、樹脂硬化光Pが第2のミラー4に反射されて、光学素子20と第1の主面2bの間のアンダーフィル40に入射する。これによって、光学素子20と第1の主面2bの間のアンダーフィル40の少なくとも一部が硬化される。また、アンダーフィル40が、フロンタル重合する性質、酸増殖反応する性質、または、塩基増殖反応する性質を備えた樹脂であれば、光が入射した領域よりも広い領域のアンダーフィル40が硬化される。
以上説明したように、本実施形態の光モジュール100の製造方法によれば、コア1の一端部側から樹脂硬化光Pを入射することによって、光学素子20と第1の主面2bの間のアンダーフィル40の少なくとも一部が硬化される。つまり、光照射による、光学素子と電気回路基板の間のアンダーフィルの硬化が、より促進される。特許文献1の技術のように、熱硬化前に光硬化で光学素子20を仮固定する方法に適用した際には、仮固定が、より強固になる。このため、光学素子20の位置がずれにくい。
(変形例1)
図13は、第1の実施形態の光モジュールの変形例1を示す断面模式図である。変形例1の光モジュール101は、光導波路基板10aを備えている。光導波路基板10aは、光導波路基板10の構成に加えて、第3のミラー5を備えている。第3のミラー5は、第2のミラー4の一端部側に設けられる。また、第3のミラー5は、第3の傾斜面5a上に形成される。位置が一端部側から他端部側に向かうにつれて、面の位置が第1の主面2bから遠ざかるように、第3の傾斜面5aが傾斜する。コア1とクラッド2とを、第1の方向に対して斜めに切った断面となるように、第3の傾斜面5aが形成される。第3の傾斜面5aが全反射条件を満たす場合は、第3の傾斜面5a自体が第3のミラー5になり得る。また、第3の傾斜面5a上に金属膜等の反射部材が設けられることによって、第3のミラー5が形成されても良い。そして、第3のミラー5は第1の方向に対して45度傾いている。このため、第3のミラー5の反射光がコア1に入射する。そして、反射光が、第2のミラー4に向かってコア1内を伝搬する。
図13は、第1の実施形態の光モジュールの変形例1を示す断面模式図である。変形例1の光モジュール101は、光導波路基板10aを備えている。光導波路基板10aは、光導波路基板10の構成に加えて、第3のミラー5を備えている。第3のミラー5は、第2のミラー4の一端部側に設けられる。また、第3のミラー5は、第3の傾斜面5a上に形成される。位置が一端部側から他端部側に向かうにつれて、面の位置が第1の主面2bから遠ざかるように、第3の傾斜面5aが傾斜する。コア1とクラッド2とを、第1の方向に対して斜めに切った断面となるように、第3の傾斜面5aが形成される。第3の傾斜面5aが全反射条件を満たす場合は、第3の傾斜面5a自体が第3のミラー5になり得る。また、第3の傾斜面5a上に金属膜等の反射部材が設けられることによって、第3のミラー5が形成されても良い。そして、第3のミラー5は第1の方向に対して45度傾いている。このため、第3のミラー5の反射光がコア1に入射する。そして、反射光が、第2のミラー4に向かってコア1内を伝搬する。
また、図13には、樹脂硬化光Pを出射する樹脂硬化用照明200が示されている。第1の主面2bの上方から、樹脂硬化光Pが照射される。照射範囲には、少なくとも、第1の領域2aおよび第3のミラー5が設けられている領域が含まれる。この樹脂硬化光Pが直接照射されることによって、接続部30の外側のアンダーフィル40が硬化される。これに加えて、第3のミラー5に反射され、さらに第2のミラー4で反射された樹脂硬化光Pが、光学素子20と第1の主面2bの間のアンダーフィル40に入射する。これによって、光学素子20と第1の主面2bの間のアンダーフィル40の少なくとも一部が硬化される。
以上の構成では、樹脂硬化用照明200の出射する樹脂硬化光Pによって、接続部30の外側のアンダーフィル40が硬化される。これは、特許文献1と同様である。ところが、変形例1では、上記の硬化に加えて、光学素子20と第1の主面2bの間のアンダーフィル40の少なくとも一部が硬化される。つまり、樹脂硬化光Pの照射によって、特許文献1の技術よりも、アンダーフィル40の硬化が促進される。
図14は、第1の実施形態の光モジュールの変形例1の第2の状態を示す断面図である。アンダーフィル40の光硬化が完了した後は、第3のミラー5に入射した光が、信号光Sのノイズ(迷光)となる。このため、ノイズとなる光の、光学素子20への入射を防ぐ必要がある。図14の例では、第3のミラー5が設けられた領域に対応する第1の主面2bの領域に、遮光部材50が設けられている。遮光部材50によって、第3のミラー5および第2のミラー4を介したノイズ光の侵入が防止される。なお、遮光部材50が、光導波路基板10に実装される他の電子部品で構成されても良い。
(変形例2)
図15は、第1の実施形態の光モジュールの変形例2を示す断面図である。変形例2の光モジュール102では、第2のミラー4と第3のミラー5の間のコア1に第1の不連続部11が設けられている。この第1の不連続部11は、アンダーフィル40の硬化後に形成される。しかしながら、第1の不連続部11を超えて樹脂硬化光Pがコア1内を伝搬可能であれば、第1の不連続部11が、アンダーフィル40の硬化前に形成されても良い。
図15は、第1の実施形態の光モジュールの変形例2を示す断面図である。変形例2の光モジュール102では、第2のミラー4と第3のミラー5の間のコア1に第1の不連続部11が設けられている。この第1の不連続部11は、アンダーフィル40の硬化後に形成される。しかしながら、第1の不連続部11を超えて樹脂硬化光Pがコア1内を伝搬可能であれば、第1の不連続部11が、アンダーフィル40の硬化前に形成されても良い。
図16は、第1の実施形態の光モジュールの変形例2の第2の状態を示す断面図である。第2の状態では、第1の不連続部11に遮光材料51が充填されている。遮光材料51により、第3のミラー5から第2のミラー4に至る光路が遮断される。以上のようにして、変形例2の光モジュール102では、光学素子20へのノイズ光の進入が防止される。
(変形例3)
次に、光導波路基板の変形例について説明する。図17は、第1の実施形態の光導波路基板の変形例3を示す断面図である。変形例3の光導波路基板10aでは、第2のミラー41の少なくともコアに向き合う面に、凸面部41aが設けられている。凸面部41aでは、第2のミラー4が、コア1側に凸の形状になっている。このような凸面部41aによって、図17に示すように、コア1から第2のミラー41に入射した光が、平面の場合よりも広い角度範囲に反射される。このため、平面の第2のミラー4に比べて、樹脂硬化光Pによって硬化されるアンダーフィル40の領域が大きくなる。
次に、光導波路基板の変形例について説明する。図17は、第1の実施形態の光導波路基板の変形例3を示す断面図である。変形例3の光導波路基板10aでは、第2のミラー41の少なくともコアに向き合う面に、凸面部41aが設けられている。凸面部41aでは、第2のミラー4が、コア1側に凸の形状になっている。このような凸面部41aによって、図17に示すように、コア1から第2のミラー41に入射した光が、平面の場合よりも広い角度範囲に反射される。このため、平面の第2のミラー4に比べて、樹脂硬化光Pによって硬化されるアンダーフィル40の領域が大きくなる。
(変形例4)
図18は、第1の実施形態の光導波路基板の変形例4を示す断面図である。変形例4の光導波路基板10aでは、第2のミラー42の少なくともコアに向き合う面が、粗面部42aになっている。粗面部42aは、表面粗さが、所定の値の範囲の面である。具体的には、算術平均粗さRaが、例えば、0.1~10μmの範囲である。樹脂硬化光Pとしては、紫外域から可視域の波長の光が使用されるのが一般的である。具体的には波長の範囲が0.1~0.7μmである。上記の表面粗さの面によって、この波長の範囲の光が良く散乱される。
図18は、第1の実施形態の光導波路基板の変形例4を示す断面図である。変形例4の光導波路基板10aでは、第2のミラー42の少なくともコアに向き合う面が、粗面部42aになっている。粗面部42aは、表面粗さが、所定の値の範囲の面である。具体的には、算術平均粗さRaが、例えば、0.1~10μmの範囲である。樹脂硬化光Pとしては、紫外域から可視域の波長の光が使用されるのが一般的である。具体的には波長の範囲が0.1~0.7μmである。上記の表面粗さの面によって、この波長の範囲の光が良く散乱される。
コア1の一端部側から第2のミラー42に入射した光が、粗面部42aによって反射される。この際、表面粗さに起因する散乱によって、反射光の方向が広い範囲に広がる。その結果、平面の第2のミラー4に比べて、樹脂硬化光Pによって硬化されるアンダーフィル40の領域が大きくなる。
(変形例5)
次に、光モジュールの変形例について説明する。図19は、第1の実施形態の光モジュールの変形例5を示す断面図である。変形例5では、クラッド2の第1の主面2bの上に、被覆層60が設けられている。同様に第1の主面2bの反対側の第2の主面2fにも被覆層61が設けられている。
次に、光モジュールの変形例について説明する。図19は、第1の実施形態の光モジュールの変形例5を示す断面図である。変形例5では、クラッド2の第1の主面2bの上に、被覆層60が設けられている。同様に第1の主面2bの反対側の第2の主面2fにも被覆層61が設けられている。
被覆層60は透光性である。被覆層61は、透光性であっても非透光性であっても良い。被覆層60および被覆層61は、例えば、ポリイミドやPET(ポリエチレンテレフタレート)で構成される。
また被覆層60の第1の領域2aには、光学素子20が、実装される。光学素子20が被覆層60の主面に実装されること以外は、第1の実施形態の光モジュール100と同様の構成である。
(変形例6)
図20は、第1の実施形態の光モジュールの変形例6を示す断面図である。変形例6の光04では、変形例5の光モジュール103の構成に加えて、光学素子22が設けられる。被覆層60の光導波路基板10dの他端部側の第2の領域に、光学素子22が設けられる。光学素子22は、発光部23を備える。光学素子22と被覆層60の間のアンダーフィル40は、光学素子20下部のアンダーフィル40と同様の仕組みによって硬化される。つまり、コア1の他端部側から一端部側に伝搬する樹脂硬化光Pが、第5のミラー7によって鈍角に反射される。この反射光によって、光学素子22と被覆層60の間のアンダーフィル40が硬化される。
図20は、第1の実施形態の光モジュールの変形例6を示す断面図である。変形例6の光04では、変形例5の光モジュール103の構成に加えて、光学素子22が設けられる。被覆層60の光導波路基板10dの他端部側の第2の領域に、光学素子22が設けられる。光学素子22は、発光部23を備える。光学素子22と被覆層60の間のアンダーフィル40は、光学素子20下部のアンダーフィル40と同様の仕組みによって硬化される。つまり、コア1の他端部側から一端部側に伝搬する樹脂硬化光Pが、第5のミラー7によって鈍角に反射される。この反射光によって、光学素子22と被覆層60の間のアンダーフィル40が硬化される。
光モジュール104では、光学素子22の発光部23から送信された信号光Sが、第4のミラー6によって垂直に反射される。そして、反射光がコア1に入射する。次いで、信号光Sが一端部側に向かってコア1内を伝搬する。そして、信号光Sが第1のミラー3に反射されて、光学素子20の受光部21に入射する。このようにして、光通信が実行される。
以上、本実施形態の光導波路基板10等について説明した。
本実施形態の光導波路基板10は、コア1と、クラッド2と、第1の領域2aと、第1のミラー3と、第2のミラー4とを有する。コア1は、円柱状または角柱状に形成される。そして、コア1が、第1の方向に線状に延伸される。クラッド2は、光透過部材によって、シート状に形成される。そして、クラッド2が、コア1の外周面を覆う。クラッド2の第1の主面2bにおける第1の方向の一端部に、第1の領域2aが設けられる。光学素子20が実装される領域が、第1の領域2aである。第1のミラー3が、第1の傾斜面3aに形成される。第1の傾斜面3aは、第1の主面2bの反対側の面に形成される。第1の傾斜面3aは、第1の領域2aと向かい合う領域内に形成される。位置が第1の方向の一端部側から他端部側に向かうにつれて、面の位置が第1の主面から遠ざかるように、第1の傾斜面3aが傾斜する。第1の方向の他端部側から一端部側にコア1内を伝搬する光を、第1のミラー3が反射する。反射光の方向は、第1の主面2bに対して垂直方向である。この反射光が、第1の領域2aに入射される。第2のミラー4が、第2の傾斜面4aに形成される。第2の傾斜面4aは、第1の主面2bの反対側の面に形成される。第2の傾斜面4aは、第1の領域2aと少なくとも一部が向かい合う領域内に形成される。位置が第1の方向の他端部側から一端部側に向かうにつれて、面の位置が第1の主面2bから遠ざかるように、第2の傾斜面4aが傾斜する。第2のミラー4は、第1の方向の一端部側から他端部側にコア1内を伝搬する光を反射する。この際、反射前の光軸と反射後の光軸とのなす角度が鈍角となるように、光が反射される。
このような構成とすると、一端部側からコア1内を伝搬した光が、第2のミラー4に反射される。そして、反射光が、光学素子20と第1の主面2bの間の領域に入射する。この光によって、光学素子20と第1の主面2bの間に充填されたアンダーフィル40の少なくとも一部が硬化される。つまり特許文献1の技術では、光硬化することのできなかった領域のアンダーフィル40が光硬化される。すなわち、光照射によるアンダーフィルの硬化が、より促進される。
また、一態様によれば、光導波路基板10aが、第3のミラー5を有する。第3のミラー5が、第3の傾斜面5a上に形成される。第3の傾斜面5aは、第1の主面2bの反対側の面に設けられる。第3の傾斜面5aは、第1の領域2aよりも一端部側の領域に形成される。位置が第1の方向の他端部側から一端部側に向かうにつれて、面の位置が第1の主面から遠ざかるように、第3の傾斜面5aが傾斜する。そして、第3のミラー5が設けられた、第1の領域2aよりも一端部側の第1の主面2bに光が入射する。この光が第3のミラー5によって反射される。この反射によって、第2のミラー4に向かって、光がコア1の中を伝搬する。
上記の構成で、第1の主面2bの上方から樹脂硬化光Pが照射されると、光学素子20の接続部30から外部にはみ出したアンダーフィル40が子光硬化される。さらに、第3のミラー5と第2のミラー4を介して、光学素子20と第1の主面2bの間に充填されたアンダーフィル40の少なくとも一部に光が照射される。これにより、光学素子20と第1の主面2bの間に充填されたアンダーフィル40の少なくとも一部が硬化される。つまり特許文献1の技術で硬化される部分に加えて、特許文献1の技術では、光硬化することのできなかった領域のアンダーフィル40が光硬化される。
また一態様によれば、光導波路基板10bにおいて、第1の不連続部11が設けられる。第1の不連続部11は、コア1が不連続となる部分である。第1の不連続部11は、第2のミラー4と第3のミラー5との間に設けられる。
アンダーフィル40が光硬化された後に、第1の不連続部11に遮光材料51が充填されることによって、第3のミラー5と第2のミラーとの間の光の伝搬が遮断される。これにより、光学素子20に、第2のミラー4からノイズ光が侵入することが防止される。
また、一態様によれば、光導波路基板10bにおいて、第2のミラー42の表面粗さが、0.1μmから10μmの範囲である。ここで、表面粗さは、算術平均粗さRaである。第2のミラー4が平面(鏡面)の時よりも、光学素子20と第1の主面2bの間の広い領域に、樹脂硬化光Pが入射される。つまり、より広い領域のアンダーフィル40が光硬化される。
また、一態様によれば、光導波路基板10aにおいて、第2のミラー41のうちのコア1に対応する領域が、コア1の方向に凸状に湾曲して形成されている。
このような構成とすることで、平面の第2のミラー4よりも広い角度範囲に樹脂硬化光Pが反射される。これによって、より広い領域のアンダーフィル40が光硬化される。
また、本実施形態の光モジュール100は、光導波路基板10と、光学素子20と、アンダーフィル40とを有する。第1の領域2aにおいて、クラッド2に光学素子20が実装される。光学素子20とクラッド2の間には、アンダーフィル40が充填される。また、アンダーフィル40が光硬化性である。
この光モジュール100では、光導波路基板10の特徴によって、光学素子20とクラッド2の間に設けられたアンダーフィル40の少なくとも一部に樹脂硬化光Pの照射が可能である。つまり特許文献1の技術では、光硬化することのできなかった領域のアンダーフィル40が光硬化される。
また、一態様によれば、光モジュール100において、前記アンダーフィル40が、フロンタル重合する性質、酸増殖反応する性質、または、塩基増殖反応する性質を備えた樹脂である。
上記の性質をもった樹脂では、光が照射された領域よりも広い範囲で重合反応が進行する、このため、光が当たらなかった領域のアンダーフィル40も硬化される。
また、一態様によれば、光モジュール100において、クラッド2の第1の主面2bに電極31が形成される。また、電極31と光学素子20とが、バンプ32によって接続され。
上記のような構成とすることにより、容易かつ位置精度よく光学素子20が光導波路基板10に実装される。
また、本実施形態の光モジュールの製造方法は、光導波路基板10に光学素子20を実装する光モジュール100の製造方法である。光導波路基板10は、コア1と、クラッド2と、第1の領域2aと、第1のミラー3と、第2のミラー4とを有する。コア1は、円柱状または角柱状に形成される。そして、コア1が、第1の方向に線状に延伸される。クラッド2は、光透過部材によって、シート状に形成される。そして、クラッド2が、コア1の外周面を覆う。クラッド2の第1の主面2bにおける第1の方向の一端部に、第1の領域2aが設けられる。光学素子20が実装される領域が、第1の領域2aである。第1のミラー3が、第1の傾斜面3aに形成される。第1の傾斜面3aは、第1の主面2bの反対側の面に形成される。第1の傾斜面3aは、第1の領域2aと向かい合う領域内に形成される。位置が一端部側から他端部側に向かうにつれて、面の位置が第1の主面2bから遠ざかるように、第1の傾斜面3aが傾斜する。第1の方向の他端部側から一端部側にコア1内を伝搬する光を、第1のミラー3が反射する。反射光の方向は、第1の主面2bに対して垂直方向である。この反射光が、第1の領域2aに入射される。第2のミラー4が、第2の傾斜面4aに形成される。第2の傾斜面4aは、第1の主面2bの反対側の面に形成される。第2の傾斜面4aは、第1の領域2aと少なくとも一部が向かい合う領域内に形成される。位置が一端部側から他端部側に向かうにつれて、面の位置が第1の主面2bから遠ざかるように、第2の傾斜面4aが傾斜する。第2のミラー4は、第1の方向の一端部側から他端部側にコア1内を伝搬する光を反射する。この際、反射前の光軸と反射後の光軸とがなす角度が鈍角となる。そして、光導波路基板10の第1の領域2aに光学素子20が実装される。また、光学素子20とクラッド2の間に、光硬化性を備えたアンダーフィル40が充填される。さらに、コア1から第2のミラー4に向かってアンダーフィル40を光硬化させる樹脂硬化光Pが入射される。
上記の方法とすることで、光学素子20と第1の主面2bの間の領域に、樹脂硬化光Pが入射する。この光によって、光学素子20と第1の主面2bの間に充填されたアンダーフィル40の少なくとも一部が硬化される。つまり特許文献1の技術では、光硬化することのできなかった領域のアンダーフィル40が光硬化される。すなわち、光照射によるアンダーフィルの硬化が、より促進される。
また、一態様によれば、光モジュール100の製造方法において、アンダーフィル40を光硬化させる樹脂硬化光Pが第2のミラー4から間のアンダーフィル40に入射される。そして、樹脂硬化光Pが入射された後に、遮光部材50が取り付けられる。第2のミラー4の一端部側のコア1に遮光部材50が取り付けられる。コア1から第2のミラー4への光の入射を、遮光部材50がブロックする。
上記の構成とすることによって、アンダーフィル40が硬化された後に、第2のミラー4から第1の領域2aへの光の入射が阻止される。これによって、信号光Sへのノイズ光の混入が防止される。
以上、第1の実施形態を模範的な例として本発明を説明した。しかしながら、本発明は、上記実施形態には限定されない。即ち、本発明は、本発明のスコープ内において、当業者が理解し得る様々な態様を適用することができる。
1 コア
2 クラッド
3 第1のミラー
4 第2のミラー
5 第3のミラー
6 第4のミラー
7 第5のミラー
10 光導波路基板
20 光学素子
30 接続部
40 アンダーフィル
100、101、102、103、104 光モジュール
2 クラッド
3 第1のミラー
4 第2のミラー
5 第3のミラー
6 第4のミラー
7 第5のミラー
10 光導波路基板
20 光学素子
30 接続部
40 アンダーフィル
100、101、102、103、104 光モジュール
Claims (10)
- 円柱状または角柱状に形成され、第1の方向に線状に延伸するコアと、
シート状に光透過部材により形成され、前記コアの外周面を覆うクラッドと、
前記クラッドの第1の主面における前記第1の方向の一端部に設けられ、光学素子が実装される第1の領域と、
前記第1の主面の反対側の面であって前記第1の領域と向かい合う領域内に、前記第1の方向の一端部側から他端部側に向かうにつれて前記第1の主面から遠ざかる第1の傾斜面に形成され、前記第1の方向の他端部側から一端部側に前記コア内を伝搬する光を、前記第1の主面に対して垂直方向に反射することで前記第1の領域に入射させる第1のミラーと、
前記第1の主面の反対側の面であって前記第1の領域と少なくとも一部が向かい合う領域内に、前記第1の方向の他端部側から一端部側に向かうにつれて前記第1の主面から遠ざかる第2の傾斜面に形成され、前記第1の方向の一端部側から他端部側に前記コア内を伝搬する光を、反射前の光軸と反射後の光軸とがなす角度が鈍角となる方向に反射することで前記第1の領域に入射させる第2のミラーと、
を有する、
ことを特徴とする光導波路基板。 - 前記第1の主面の反対側の面であって前記第1の領域より前記一端部側の領域内に、前記第1の方向の前記他端部側から前記一端部側に向かうにつれて前記第1の主面から遠ざかる第3の傾斜面に形成され、前記第1の主面から入射した光を前記コアの中で前記第2のミラーに向けて反射する第3のミラーを有する、
ことを特徴とする請求項1に記載の光導波路基板。 - 前記第2のミラーと前記第3のミラーとの間に前記コアが不連続となる第1の不連続部と、
を有することを特徴とする請求項2に記載の光導波路基板。 - 前記第2のミラーの算術平均粗さが0.1μmから10μmの範囲である、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の光導波路基板。 - 前記第2のミラーのうちで前記コアに対応する領域が前記コアの方向に凸状に形成されている、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の光導波路基板。 - 請求項1乃至3のいずれか一項に記載の光導波路基板と、
前記第1の領域において、前記クラッドに実装された光学素子と、
前記光学素子と前記クラッドの間に充填され、光硬化性を有するアンダーフィルと、
を有する、
ことを特徴とする光モジュール。 - 前記アンダーフィルが、
フロンタル重合する性質、酸増殖反応する性質、または塩基増殖反応する性質を備えた樹脂である、
ことを特徴とする請求項6に記載の光モジュール。 - 前記クラッドの前記第1の主面に電極が形成され、
前記電極と前記光学素子とがバンプによって接続されている、
ことを特徴とする請求項6に記載の光モジュール。 - 光導波路基板に光学素子を実装する光モジュールの製造方法であって、
前記光導波路基板は、
円柱状または角柱状に形成され、第1の方向に線状に延伸するコアと、
シート状に光透過部材により形成され、前記コアの外周面を覆うクラッドと、
前記クラッドの第1の主面における前記第1の方向の一端部に設けられ、光学素子が実装される第1の領域と、
前記第1の主面の反対側の面であって前記第1の領域と向かい合う領域内に、前記第1の方向の一端部側から他端部側に向かうにつれて前記第1の主面から遠ざかる第1の傾斜面に形成され、前記第1の方向の他端部側から一端部側に前記コア内を伝搬する光を、前記第1の主面に対して垂直方向に反射することで前記第1の領域に入射させる第1のミラーと、
前記第1の主面の反対側の面であって前記第1の領域と少なくとも一部が向かい合う領域内に、前記第1の方向の他端部側から一端部側に向かうにつれて前記第1の主面から遠ざかる第2の傾斜面に形成され、前記第1の方向の一端部側から他端部側に前記コア内を伝搬する光を、反射前の光軸と反射後の光軸とがなす角度が鈍角となる方向に反射することで前記第1の領域に入射させる第2のミラーと、
を有し、
前記第1の領域に前記光学素子を実装し、
前記光学素子と前記クラッドの間に、光硬化性を備えたアンダーフィルを充填し、
前記コアから前記第2のミラーに向かって前記アンダーフィルを光硬化させる光を入射させる、
ことを特徴とする光モジュールの製造方法。 - 前記アンダーフィルを光硬化させる光を入射した後に、
前記第2のミラーの前記一端部側の前記コアに、前記コアから前記第2のミラーへの光の入射をブロックする遮光部材を取り付ける、
ことを特徴とする請求項9に記載の光モジュールの製造方法。
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JP2022197581A JP2024083662A (ja) | 2022-12-12 | 2022-12-12 | 光導波路基板、光モジュールおよび光モジュールの製造方法 |
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- 2022-12-12 JP JP2022197581A patent/JP2024083662A/ja active Pending
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