JP2024060970A - カップ、液処理装置及び液処理方法 - Google Patents

Abstract

【課題】液処理対象の基板の周囲の気流を調整して、処理具合を所望のものとする。【解決手段】本開示のカップは、カップの中心軸側に向けて各々開口する環状路であると共に、互いに区画された第１排気路、基板からの飛散物を回収する飛散物回収路、第２排気路の各々を、カップ内における基板に対する当該カップの周縁側に、上方に向けて順に形成する流路形成部材と、第１排気路、飛散物回収路、第２排気路の各々がカップの周縁側に向けて一括して排気されるように当該各路に接続される合流排気路と、流路形成部材に含まれ、上方、下方に夫々飛散物回収路、第１排気路を形成し、基板の外周に沿って形成された第１環状部と、第１環状部と基板とがなす隙間に比べて圧力損失が大きくなるように、飛散物回収路と合流排気路とを連通させるために流路形成部材に設けられる連通孔と、を備える。【選択図】図３

Description

本開示は、カップ、液処理装置及び液処理方法に関する。

半導体デバイスの製造工程においては、半導体ウエハ（以下、ウエハと記載する）に対して各種の処理液を供給して処理を行う。特許文献１では、カップ内に収容されたウエハに対してレジストを供給してレジスト膜を形成する装置について示されている。

特開２０１４－１５１２４９号公報

本開示は、液処理対象の基板の周囲の気流を調整して、処理具合を所望のものとすることができる技術を提供する。

本開示のカップは、載置部に載置されて処理液が供給される基板を囲むと共に、内部が排気されるカップにおいて、
前記カップの中心軸側に向けて各々開口する環状路であると共に、互いに区画された第１排気路、前記基板からの飛散物を回収する飛散物回収路、第２排気路の各々を、前記カップ内における前記基板に対する当該カップの周縁側に、上方に向けて順に形成する流路形成部材と、
前記第１排気路、前記飛散物回収路、前記第２排気路の各々が前記カップの周縁側に向けて一括して排気されるように当該各路に接続されると共に、当該カップ内における前記基板の下方に設けられる合流排気路と、
前記流路形成部材に含まれ、上方、下方に夫々前記飛散物回収路、前記第１排気路を形成し、前記基板の外周に沿って形成された第１環状部と、
前記第１環状部と前記基板とがなす隙間に比べて圧力損失が大きくなるように、前記飛散物回収路と前記合流排気路とを連通させるために前記流路形成部材に設けられる連通孔と、
を備える。

本開示は、液処理対象の基板の周囲の気流を調整して、処理具合を所望のものとすることができる。

本開示の第１の実施形態に係るカップを備えるレジスト膜形成装置の縦断側面図である。 前記レジスト膜形成装置の平面図である。 前記カップの縦断斜視図である。 前記カップの縦断側面図である。 前記カップにおける気流の流れを示す縦断側面図である。 前記カップの変形例を示す縦断側面図である。 前記カップの他の変形例を示す縦断側面図である。 前記カップの他の変形例を示す縦断側面図である。 前記カップの他の変形例を示す縦断側面図である。 前記カップの第２実施形態を示す縦断側面図である。 評価試験の結果を示すグラフ図である。 評価試験の結果を示すグラフ図である。

〔第１実施形態〕
本開示の第１実施形態に係るカップ３を備えたレジスト膜形成装置１について、図１の縦断側面図及び、図２の平面図を参照して説明する。液処理装置の一例であるレジスト膜形成装置１は、ウエハＷの表面に対してシンナー及びレジストをスピンコートにより順に塗布して、レジスト膜を形成する。シンナー及びレジストはウエハＷの処理液であり、シンナーはウエハＷの表面について、レジストに対する濡れ性を高める改質液である。ウエハＷは円形の基板であり、その直径は例えば３００ｍｍである。レジスト膜形成装置１は、処理液供給機構２と、カップ３と、スピンチャック１１と、回転機構１３と、ウエハ受け渡し機構１５と、を備え、カップ３に収納されて囲まれた状態のウエハＷに対して処理を行う。

上方が開口するカップ３内に、スピンチャック１１が設けられている。スピンチャック１１はウエハＷの載置部であり、載置されたウエハＷの下面中央部を吸着して、当該ウエハＷを水平に保持する。スピンチャック１１は鉛直に伸びるシャフト１２を介して回転機構１３に接続されている。回転機構１３によってスピンチャック１１に保持されたウエハＷが、鉛直軸回りに回転する。シャフト１２は水平に設けられた円板１４を貫通して設けられている。

ウエハ受け渡し機構１５は、３本のリフトピン１６と昇降機構１７とを含む。３本のリフトピン１６はシャフト１２を囲むと共に、各々円板１４を貫通して鉛直に伸びるように設けられ、昇降機構１７により昇降する。リフトピン１６の上端は上昇時にカップ３の上方へ突出することで、スピンチャック１１と、図示しない搬送機構との間でウエハＷを受け渡すことができる。

処理液供給機構２について説明する。処理液供給機構２は、レジスト供給ノズル２１、シンナー供給ノズル２２、レジスト供給部２３、シンナー供給部２４、アーム２５、移動機構２６、ガイド２７及び待機部２８を備える。レジスト供給ノズル２１は、レジスト供給部２３から圧送されるレジストを鉛直下方に吐出する。シンナー供給ノズル２２は、シンナー供給部２４から圧送されるレジストを鉛直下方に吐出する。レジスト供給部２３、シンナー供給部２４はポンプやバルブを含み、所望のタイミングでレジスト、シンナーを夫々圧送することができる。

アーム２５の先端側にレジスト供給ノズル２１及びシンナー供給ノズル２２が支持される。アーム２５の基端側は移動機構２６に接続されている。移動機構２６はガイド２７に沿って水平移動可能であると共に、アーム２５を昇降させることができる。カップ３の外側に上方に開口する待機部２８が設けられている。移動機構２６により、レジスト供給ノズル２１及びシンナー供給ノズル２２は、待機部２８の開口内とカップ３内との間を移動し、ウエハＷの中心部上にシンナー及びレジストを供給することができる。なお、図１中２９は大気供給部であり、アーム２５の移動に干渉しないようにカップ３の上方に設けられ、下方に向けて清浄な大気を供給する。

また、レジスト膜形成装置１は制御部１０を備えている。制御部１０はコンピュータにより構成されており、プログラムを備えている。このプログラムには、レジスト膜形成装置１における一連の動作を実施することができるように、ステップ群が組み込まれている。そして、当該プログラムによって制御部１０はレジスト膜形成装置１の各部に制御信号を出力し、当該各部の動作が制御される。具体的には回転機構１３によるスピンチャック１１の回転、昇降機構１７によるリフトピン１６の昇降、レジスト供給部２３及びシンナー供給部２４からの処理液の各ノズルへの供給、移動機構２６による各ノズルの移動などの各動作が、上記の制御信号によって制御される。上記のプログラムは、例えばコンパクトディスク、ハードディスク、ＤＶＤなどの記憶媒体に格納されて、制御部１０にインストールされる。

続いて、カップ３について説明する。ウエハＷの処理中にカップ３内は排気されて、大気供給部２９から供給される大気を吸引し、当該ウエハＷからカップ３外への各液（ミストも含む）の飛散が防止される。この大気の吸引により、カップ３内には気流が形成されるが、ウエハＷの周囲の気流を制御し、ウエハＷの面内でのレジスト膜の膜厚の均一性を高くすることができるようにカップ３に流路（排気路）が形成されている。

図１、図２では、カップ３の中心軸をＰとして示している。なお、スピンチャック１１の回転中心はこの中心軸Ｐ上に位置し、ウエハＷはその中心が、中心軸Ｐ上に位置するように当該スピンチャック１１に載置される。カップ３は円形で上方に開口部３１を備えると共に側壁３９及び底壁４３を備えており、中心軸Ｐに対して回転対称の構造である。

以降は、図３のカップ３の周方向の一部を示した縦断斜視図も参照して説明する。カップ３は複数の環状部材が、中心軸Ｐに各々の中心が揃うように互いに組み合わされることで構成されており、互いの相対位置が固定されている。そのように組み合わされると共に互いに固定される環状部材について、アンダーカップ４１、インナーカップ５１、ミドルカップ６１、アッパーカップ７１、サブエッジリング８１と呼称する。

アンダーカップ４１は、カップ３の底壁４３及び側壁３９の下部側を形成する。このアンダーカップ４１は、当該円板１４の外側を鉛直下方へ向けて伸びる内筒部４２を備え、内筒部４２の上端部は、円板１４に接続されている。そして内筒部４２の下端は、外側下方へと広がることでカップ３の底壁４３を形成し、底壁４３の上面は周縁側が下る比較的緩やかな傾斜面をなす。底壁４３の外周縁は鉛直上方へと延伸されて円筒状の外筒部４４を形成する。カップ３の側壁３９は、この外筒部４４と、後述するアッパーカップ７１の円筒部７２及びミドルカップ６１の円筒部６２と、によって形成される。底壁４３の周縁部には排液口４５が開口している。そして底壁４３において、排液口４５が開口する位置よりも内側（中心軸Ｐ側）には起立した排気管４６が設けられており、底壁４３の上方に当該排気管４６によって形成される排気口が開口している。

次にインナーカップ５１について説明する。インナーカップ５１の内周縁部は、アンダーカップ４１の内筒部４２上に支持されている。そのように支持される内周縁部からカップ３の周縁側（側壁３９側）へ向けて板状の部材が延伸され、当該板状部材によって各々環状である内側傾斜部５２と、外側傾斜部５３と、が形成される。内側傾斜部５２はカップ３の周縁側に向うにつれて上昇するように形成される。外側傾斜部５３は、内側傾斜部５２に対してカップ３の周縁側に位置すると共に、カップ３の周縁側に向うにつれて下降するように形成されている。従って、内側傾斜部５２及び外側傾斜部５３の外形としては縦断側面視で山型であり、この山の頂部は、スピンチャック１１に保持されたウエハＷの周縁部の下方に位置する。

外側傾斜部５３の上部側は下側斜め方向に若干窪むように屈曲することで、縦断面視で弓状となっている。この弓状の屈曲部を５３Ａとすると、外側傾斜部５３の下部側は、屈曲部５３Ａの下端から、カップ３の周縁側下方へと縦断面視斜めに直線状に延びるように形成されている。そのため外側傾斜部５３の上面である傾斜面について、カップ３の周縁側へ向けて見ると、途中で水平面に対する傾斜が緩やかになった後、やや急になって外周端に至るように形成されている。ウエハＷから流下した処理液は、このように傾斜面をなす外側傾斜部５３の上面を伝わって、カップ３の周縁側、ひいては後述する合流排気路５５へ向けてガイドされる。

外側傾斜部５３の周端から鉛直下方へと延伸されるように円筒部５４が形成されており、排気管４６よりもカップ３の周縁側に位置している。この円筒部５４の外周面は、アンダーカップ４１の外筒部４４の内周面に対して離れると共に対向する。そして外筒部４４と円筒部５４との間の空間は、ウエハＷの下方に位置する排気路をなす。この排気路は、後述のようにカップ３内で区画される各領域からの排気流が各々流入する合流排気路５５をなし、この合流排気路５５を通過した排気流が、排気管４６に流入する。液体の流入を抑制するために、排気管４６はインナーカップ５１の円筒部５４の下端よりも上方に開口する。

続いて、ミドルカップ６１について説明する。ミドルカップ６１は鉛直に延びる円筒部６２を備えており、この円筒部６２はアンダーカップ４１の内筒部４２上に支持されている。そして円筒部６２の下部側の内周面は、カップ３の中心軸Ｐへ向かうにつれて上方に向うように延伸されることで、第１環状部であるミドルカップ本体６３を形成する。

ミドルカップ本体６３は、インナーカップ５１の上方に位置する環状板である。そして、ミドルカップ本体６３とインナーカップ５１との間の空間が、下側排気路６０として形成されている。下側排気路６０は中心軸Ｐ側に開口すると共に合流排気路５５に接続された環状排気路であり、排気管４６による合流排気路５５の排気によって、カップ３の周縁側へ向けて排気される。ミドルカップ本体６３の内周端は、スピンチャック１１に保持されたウエハＷの周端に間隔を空けて近接する。従って、ミドルカップ本体６３の内周端とウエハＷの周端との間には円環状の隙間６４が形成されており、この隙間６４は、下側排気路６０への気流の入口となる。また、ミドルカップ本体６３の周縁部には、周方向に間隔を空けて複数の貫通孔６５が鉛直方向に形成されており、排気路をなす。

ミドルカップ本体６３は上記のようにウエハＷの周端に近接することで、ウエハＷの周端部上に形成される気流が、ウエハＷの中心側上に形成される気流に対して大きく変移してしまうことを抑制し、ウエハＷに形成されるレジスト膜について、ウエハＷの周端部と中心部側との間での膜厚の偏差を抑える。そのように気流の変移を抑えること、及びウエハＷから飛散するミストが跳ね返ってウエハＷに付着することが抑制されるように、縦断側面視でミドルカップ本体６３の内周端部については、中心軸Ｐに向うにつれて薄肉となることで尖ると共に、その上面が水平面をなす。なお、本例では当該水平面は、ウエハＷの上面よりも若干上側に位置している。またミドルカップ本体６３については、上記のように尖頭化されている内周端部以外の部位は、各部で厚さが一定の板状部材として構成されている。

ミドルカップ本体６３について、内周端はそのようにウエハＷに近接して気流を規制する一方で、周縁側は下方の合流排気路５５へ向けて気流をガイドすることができるように、当該ミドルカップ本体６３はカップ３の周縁に向うにつれて下降する。また、ミドルカップ本体６３は中心軸Ｐからカップ３の周縁へ向う途中で屈曲することで、周縁側は中心軸Ｐ側に比べて水平面に対する傾斜が大きく、中心軸Ｐ側に位置して傾きが小さい部位を下部中心側傾斜部６３Ａ、屈曲部よりも周縁側に位置して傾きが大きい部位を下部周縁側傾斜部６３Ｂとして示している。このようにミドルカップ本体６３について、カップ３の中心軸Ｐ側と周縁側とで傾きが異なるように構成される利点については後述する。

また、そのミドルカップ本体６３の屈曲部は、インナーカップ５１の弓状の屈曲部５３Ａの上方に位置している。そのため、縦断側面視で下側排気路６０は下流側に向う途中で膨らんでおり、従って下側排気路６０は、上流側に対して下流側が拡張されている。このように下側排気路６０が形成される利点についても後述する。

続いて、アッパーカップ７１について説明する。アッパーカップ７１は鉛直に延びる円筒部７２を備えており、当該円筒部７２はミドルカップ６１の円筒部６２上に支持されている。円筒部７２の上縁部は中心軸Ｐに向うように屈曲し、ミドルカップ本体６３の上方を当該中心軸Ｐに向けて水平に延びる上壁７３を形成する。そして、この上壁７３の内周端部は上方へ向かうように屈曲されることで、中心軸Ｐに向かうにつれて上昇する開口ガイド部７４が形成されている。開口ガイド部７４に囲まれる円形領域がカップ３の開口部３１である。

開口ガイド部７４が上記した形状であるため、開口部３１については、下方側に向うにつれて拡径されている。なお、このように開口部３１が形成されることは、上方からカップ３内へと向う気流をカップ３の周縁側へとガイドし、後述の上側排気路７０への気流の流入を促進させることでウエハＷの面内の膜厚の均一性を高くすることに寄与する。

次にサブエッジリング８１について説明する。サブエッジリング８１は、アッパーカップ７１とミドルカップ６１との間に設けられており、サブエッジ本体８６と、当該サブエッジ本体８６をアッパーカップ７１に対して支持する支持部８２と、により構成されている。支持部８２はアッパーカップ７１の円筒部７２から中心軸Ｐに向けて水平に延び、カップ３の周方向に間隔を空けて複数設けられている。この支持部８２にサブエッジ本体８６の外周面が接続されて支持されており、カップ３の周方向における支持部８２間は貫通孔８５として構成されている。この貫通孔８５は排気路をなし、複数設けられている。

サブエッジ本体８６は、中心軸Ｐに向うにつれて上方に向うように延伸された第２環状体として構成されており、第１環状体であるミドルカップ本体３６に沿って形成されている。またサブエッジ本体８６は、中心軸Ｐ側に向うにつれて薄肉化されることで、当該サブエッジ本体８６の内周端は尖り、ウエハＷから飛散する処理液のウエハＷへの跳ね返りが防止されるように構成されている。

サブエッジ本体８６は、カップ３の周縁側から中心軸Ｐに向う途中で屈曲され、この屈曲部に対するカップ３の周縁側の部位、中心軸Ｐ側の部位を、上部周縁側傾斜部８３、上部中心側傾斜部８４として夫々示している。上部周縁側傾斜部８３及び上部中心側傾斜部８４の各々は、水平面に対して傾斜すると共に縦断面視で直線状に延伸されて形成されている。上部周縁側傾斜部８３の方が、上部中心側傾斜部８４よりも水平面に対する傾斜が大きい。

また、サブエッジ本体８６の内周端は、ミドルカップ６１の内周端よりも若干カップ３の周縁側に位置し、当該ミドルカップ６１の下部中心側傾斜部６３Ａ上に位置している。そして、この第１実施形態のカップ３では、上面視でのサブエッジ本体８６の内周端と、アッパーカップ７１の内周端との位置が揃っている。

以上のようにサブエッジリング８１のサブエッジ本体８６が設けられることで、当該サブエッジ本体８６とミドルカップ６１との間、当該サブエッジ本体８６とアッパーカップ７１との間に夫々、中心軸Ｐに向けて開口すると共に中心軸Ｐを囲む環状排気路が形成されている。サブエッジ本体８６とミドルカップ６１との間の排気路を飛散物回収路８０と呼称し、サブエッジ本体８６とアッパーカップ７１との間の排気路を上側排気路７０と呼称する。従って、カップ３内には、互いに区画された下側排気路６０、飛散物回収路８０、上側排気路７０が、この順で上方に向けて設けられている。なお、サブエッジ本体８６、アッパーカップ７１の上壁７３、ミドルカップ６１のミドルカップ本体６３はカップ３内を区画して、これらの流路を形成する区画部材をなす。

サブエッジリング８１の貫通孔８５及びミドルカップ６１の貫通孔６５を介して、上側排気路７０は合流排気路５５に接続されており、合流排気路５５の排気によって、当該下側排気路６０はカップ３の周縁側へ向けて排気される。上記したように下側排気路６０も合流排気路５５に接続され、後述するように飛散物回収路８０も合流排気路５５に接続される。従って、排気管４６による合流排気路５５の排気によって、互いに区画される第１排気路である下側排気路６０、第２排気路である上側排気路７０、飛散物回収路８０が一括して排気される構成となっている。

サブエッジリング８１及び飛散物回収路８０について、さらに詳しく説明する。なお、カップ３の各部を拡大して示す縦断側面図である図４についても適宜参照する。サブエッジリング８１を構成する上部周縁側傾斜部８３及び上部中心側傾斜部８４、ミドルカップ６１を構成する下部中心側傾斜部６３Ａ及び下部周縁側傾斜部６３Ｂについての水平面に対する傾きは、上部周縁側傾斜部８３＞下部周縁側傾斜部６３Ｂ＞下部中心側傾斜部６３Ａ＞上部中心側傾斜部８４である。各部の傾きがこのような関係となることで、飛散物回収路８０の開口幅Ｈ１＜上側排気路７０の開口幅Ｈ２となっている。開口幅Ｈ１、Ｈ２について、このような大小関係とされていることは、上側排気路７０への大気の流入を促進させることになり、それは後述するようにウエハＷの面内の膜厚の均一性を向上させることに寄与する。

サブエッジリング８１におけるサブエッジ本体８６の外周縁部の下面は、ミドルカップ６１の下部周縁側傾斜部６３Ｂの上面に近接すると共に対向する。この互いに近接するサブエッジ本体８６の外周縁部の下面と、下部周縁側傾斜部８３Ｂの上面とがなす円環状の隙間を、連通孔３０とする。この連通孔３０は上記した飛散物回収路８０に接続されると共に、当該飛散物回収路８０の下流側に設けられる排気路である。そして、飛散物回収路８０は、この連通孔３０及びミドルカップ６１の貫通孔６５を介して合流排気路５５に接続されており、合流排気路５５の排気によって当該飛散物回収路８０はカップ３の周縁側へ向けて排気される。連通孔３０の幅Ｈ３は、飛散物回収路８０の開口幅Ｈ１よりも小さく形成されている。従って、飛散物回収路８０の開口から合流排気路５５に至るまでの流路は、途中で狭窄される（下流側が狭まる）構成となっている。

上記の飛散物回収路８０並びにサブエッジリング８１を設けることの利点について説明するために、当該サブエッジリング８１が設けられないことを除いてはカップ３と同様に構成されたカップを比較例のカップとし、この比較例のカップに関する説明を行う。スピンコートにより膜を形成するとウエハＷの周端部における膜厚が、周端部以外の部位における膜厚よりも大きくなる傾向が有り、比較例のカップを用いてウエハＷに成膜すると、その周端部における膜厚と、周端部以外の部位の膜厚との差が比較的大きくなる。

スピンコートにより成膜するにあたり、ウエハＷの周端部の周囲の気流の流速が高いほど、膜厚が大きくなる傾向にあることが分かっている。そこで比較例のカップについてのシミュレーションを行ってカップ内の気流の流速について調べると、そのようにウエハＷの周端部の周囲における気流の流速、即ち既述した隙間６４及び当該隙間６４の周囲における流速が比較的大きいことが確認された。なお、隙間６４に連なる下側排気路６０についても比較的流速が大きかった。

上記したようにミドルカップ６１はウエハＷに近接するように形成されることから隙間６４は比較的小さく、この隙間６４における大気の圧力損失は比較的大きい。そのため比較例のカップにおいて、カップの開口部３１から吸引される大気は主としてアッパーカップ７１とミドルカップ６１との間の流路（説明の便宜上、流路Ａとする）へと流れる。しかし流路Ａと隙間６４との距離は比較的近いことから、流路Ａに向う大気のうちの比較的多くの大気が、当該隙間６４より吸引されることで隙間６４ひいては下側排気路６０に流入してしまい、これらの各部での流速が大きくなる。

カップ内の排気量を小さくすることでウエハＷの周端部における気流の流速を抑えることが考えられるが、そうなるとウエハＷから発生したミストの除去性能が低下し、異物としてウエハＷに付着してしまうおそれが有る。その他に、ミドルカップ６１の厚さを大きくして流路Ａと隙間６４とを比較的大きく離すことが考えられるが、そうなるとウエハＷから飛散した処理液（ミストの状態のものを含む）がミドルカップ６１に衝突して跳ね返りやすくなる。その跳ね返りによって、処理後のウエハＷの表面には当該ミストから生じた異物が残留してしまうことが懸念される。

そこでカップ３ではサブエッジリング８１が設けられることで、アッパーカップ７１とミドルカップ６１との間の空間が分割され、アッパーカップ７１及びミドルカップ６１によって形成される上側排気路７０と下側排気路６０との間に、これらの排気路に対して区画される飛散物回収路８０が介在する構成とされている。後に詳しく説明するが、この飛散物回収路８０についてはカップ３の開口部３１から進入した大気が流入し難い構成とされている。それ故にカップ３内に流入する大気から見て、上側排気路７０と隙間６４との間にはあたかも比較的厚い壁が存在する状態となっており、カップ３の開口部３１から上側排気路７０へと向う大気から見て隙間６４は比較的大きく離れているため、当該隙間６４には吸引され難い。そのため隙間６４及び下側排気路６０へと流れる大気は比較的少なくなるため、ウエハＷの周端部における気流の流速が抑えられる。即ち、基板の周囲の気流が調整される。その結果としてウエハＷの周端部の膜厚が比較的小さくなることで、当該周端部以外の領域の膜厚との偏差が抑えられ、ウエハＷの面内には均一性高いレジスト膜が形成される。

そして飛散物回収路８０については空間であるため、ウエハＷから飛散した処理液については、この飛散物回収路８０内に進入可能である。飛散物回収路８０は連通孔３０を介して合流排気路５５に接続されるので、そのように飛散物回収路８０に供給された処理液は、合流排気路５５へと流れて除去される。つまり上記したミドルカップ６１を厚くする構成とは異なり、飛散物回収路８０を設けるカップ３の構成では、ウエハＷから飛散した処理液がウエハＷに向けて跳ね返ることが防止される。

ところでサブエッジリング８１によって飛散物回収路８０が形成されていたとしても、仮にカップ３の開口部３１からこの飛散物回収路８０に多くの大気が流入してしまう構成であるとすると、比較例のカップと同様に隙間６４へ流入する大気の量が多くなる。そうなれば、ウエハＷの周端部における気流の流速も大きくなってしまう。サブエッジリング８１は、そのような飛散物回収路８０への多量の大気の流入が防止されるように構成されている。具体的には、上記した隙間６４の圧力損失よりも、サブエッジリング８１とミドルカップ６１とがなす連通孔３０の圧力損失の方が大きい。従って、大気は当該連通孔３０を通過し難く、それ故に連通孔３０の上流側に位置する飛散物回収路８０についても大気が流入し難い。

上記した隙間６４の圧力損失よりも連通孔３０の圧力損失の方が大きいことには、その文言のとおりの隙間６４の圧力損失よりも連通孔３０の圧力損失の方が大きいことの他に、隙間６４の開口面積が、連通孔３０の開口面積よりも小さいことが含まれる。隙間６４の開口面積が、連通孔３０の開口面積よりも小さいか否かを判定する上で、隙間６４の開口面積と、連通孔３０の開口面積とを比較するにあたっての隙間６４の開口面積について補足して説明する。レジスト膜形成装置１に搬送されて処理を受けるウエハＷについて、この搬送時に形成されている膜種、膜厚については任意であるため、スピンチャック１１に載置されるウエハＷによって、隙間６４の大きさは変わり得る。

しかし、連通孔３０の開口面積との比較のために隙間６４の開口面積を算定するにあたっては、膜が形成されておらず、且つ設計通りの寸法を持つウエハＷがスピンチャック１１上の設定通りの位置に載置されることを考える。つまり、ウエハＷの中心が中心軸Ｐに位置しているものとする。そのように載置されたウエハＷの上面の外周端とミドルカップ６１の内周端との距離Ｈ４（図４参照）と、当該距離Ｈ４のカップ３の周方向における長さとから隙間６４の開口面積を算出するものとする。

また、隙間６４の開口面積と連通孔３０の開口面積とを比較するにあたっての連通孔３０の開口面積について説明する。連通孔３０については、流路方向の位置によって、開口面積は変わり得るが、この開口面積については、連通孔３０について、最も開口面積が小さくなる箇所（圧力損失が大きくなる箇所）の開口面積であるものとする。具体的に、本例では連通孔３０が環状孔であり、且つ連通孔３０の流路方向において、連通孔３０の幅はＨ３として均一である。しかし、この連通孔３０は縦断側面視で斜め下方に向けて形成されているために、連通孔３０の上流端から下流端に向かうにつれ、当該連通孔３０の周方向の長さについては大きくなる。従って連通孔３０の開口面積としては、連通孔３０の上流側と下流側とで異なるが、上記したように最も開口面積が小さくなる箇所を連通孔３０の開口面積として取り扱う。従って連通孔３０の開口面積は、上流端の周方向の長さと、幅Ｈ３とから求められる開口面積であり、それを隙間６４の開口面積と比較する。

さらに連通孔３０の開口面積について補足する。連通孔３３については、例えばカップ３の周方向において複数に分割された構成とされていてもよい。その場合は、その分割された各々の連通孔の開口面積を合計したものが、連通孔３０の開口面積である。そして連通孔３０については、流路方向において幅が変化するように構成されてもよい。その場合は、その幅と、周方向の長さとから流路方向の各部における開口面積を算出するにあたり、最も小さい開口面積が連通孔３０の開口面積とされ、隙間６４の開口面積と比較されるものとする。

また、本例では連通孔３０と飛散物回収路８０との間には段が形成されることで、これら連通孔３０と飛散物回収路８０とが区切られているが、そのような段が形成されておらず、飛散物回収路８０と連通孔３０とが区切られていない構成であってもよい。具体例を挙げると、サブエッジリング８１をなす上部周縁側傾斜部８３及び上部中心側傾斜部８４について、厚さが中心軸Ｐ側からカップ３の周縁側に向かうにつれて変化する。その厚さの変化により、飛散物回収路８０と連通孔３０とが区切られず、例えば下流端に至るまでに次第に縮幅される流路とされる。そのような無段の流路である場合には、その無段の流路のうち、流路方向で最も小さい開口面積が連通孔３０の開口面積とされ、隙間６４の開口面積と比較されるものとする。上記のように無段の流路が次第に縮幅される構成であって下流端が最も開口面積が小さくなるのであれば、その下流端の開口面積を隙間６４の開口面積と比較する。なお、このように連通孔３０と飛散物回収路８０とを無段の流路として構成した場合には、開口面積が最も小さくなる部位（即ち、最も狭窄された部位）が連通孔、その開口面積が最も小さくなる部位よりも上流側が飛散物回収路に夫々相当する。

なお、圧力損失の比較を開口面積の比較として行うのではなく、文言のとおりに隙間６４、連通孔３０間の圧力損失を比較する場合においても、隙間６４の圧力損失とは、膜が形成されてないウエハＷが、設定通りの位置に載置された場合の圧力損失であるものとする。また、連通孔３０がカップ３の周方向に分割されているのであれば、開口面積の比較と同様にその連通孔３０の合計の圧力損失と、隙間６４の圧力損失とを比較する。

また、文言のとおりの圧力損失の比較について、仮に計算によって隙間６４の圧力損失、連通孔３０の圧力損失を求めて比較するものとする。その場合の隙間６４の圧力損失については、ウエハＷの周端のうちの上端、下端によって、流路である隙間６４の上流端、下流端が夫々形成されるとすればよい。具体的に図４中のＨ５は、ウエハＷの下面の周端とミドルカップ６１の内周端部とを結ぶ直線であり、上記したミドルカップ６１の内周端とウエハＷの上面の周端との距離Ｈ４を表すためにこれらを結ぶ直線の矢印に並行するように引いている。この距離Ｈ４を示す矢印、線Ｈ５で囲まれる領域を隙間６４とし、当該矢印は隙間６４の上流端、線Ｈ５が隙間６４の下流端を表すものとしてその圧力損失を計算し、連通孔３０の圧力損失と比較すればよい。

以上に説明したレジスト膜形成装置１によるウエハＷの処理について、図５を参照して説明する。カップ３の縦断側面図である図５は、ウエハＷの処理中における大気の流れを矢印によって概略的に示している。この矢印は、気流の流速の大きさに応じた線種で示しており、線種間の流速の大きさの関係としては、実線の矢印＞点線の矢印である。また、多くの大気が流れ込む箇所については、矢印を密に示している。

先ず、図示しない搬送機構によりウエハＷが、排気管４６からの排気が行われた状態のカップ３に搬送され、リフトピン１６を介してスピンチャック１１に載置される。ウエハＷの中心部上にシンナーが吐出され、当該ウエハＷの回転によってそのシンナーが遠心力でウエハＷの表面全体に広がって塗布される。続いて、ウエハＷの中心部上にレジストが吐出され、ウエハＷの回転によりレジストが遠心力でウエハＷの表面全体に広がって塗布され、レジスト膜Ｒが形成される。

このように処理液（レジストあるいはシンナー）によってウエハＷが処理される間、カップ３内の排気が続けられる。上方からカップ３へ向かう大気の多くは、上側排気路７０、下側排気路６０、飛散物回収路８０のうち、カップ３内で最も上方に形成され、これらの流路の中で最も圧力損失が小さい上側排気路７０に流入して排気される。上記したように下側排気路６０への入口となるウエハＷとミドルカップ６１とがなす隙間６４と、上側排気路７０の開口との間には、圧力損失が比較的高い飛散物回収路８０の開口が配置されている。そのため上側排気路７０へと向う大気については、この隙間６４及び下側排気路６０による吸引作用の影響を受けにくいことから当該隙間６４、即ちウエハＷの周端部へと向う大気の量は抑えられ、この周端部における気流の流速については比較的小さくなる。なお、上記のような各部の圧力損失の違いによって、図示するように大気の流速の大きさについては、上側排気路７０及び下側排気路６０に比べて、飛散物回収路８０は小さい。

処理中にウエハＷから飛散した処理液は、これらの上側排気路７０、下側排気路６０、飛散物回収路８０の各々に流入する。これらの各流路で排気がなされていることから、流入した処理液は、これらの各流路の下流側（カップ３の周縁側）へと向い、合流排気路５５を介してカップ３の底壁４３へ流下し、排液口４５から除去される。上記したレジスト膜の形成後はウエハＷの回転が停止し、リフトピン１６を介してウエハＷは搬送機構に受け渡されて、レジスト膜形成装置１から搬出される。

以上に述べたようにレジスト膜形成装置１においては、カップ３内に形成される気流について、ウエハＷの周端部の周囲における流速が抑えられる。そのためウエハＷの面内に形成されるレジスト膜Ｒについて、周端部における膜厚と、他の部位における膜厚との差が抑制されるので、ウエハＷの面内において均一性高い膜厚でレジスト膜Ｒが形成される。即ち、ウエハＷの面内での処理具合について、所望のものとすることができる

ところでサブエッジ本体８６によって形成される上側排気路７０は、側方のカップ３の周縁側へと大気を引き込むことにより、上記したように下方の隙間６４への大気への供給を抑制する。この上側排気路７０の開口方向の水平面に対する傾きが比較的大きいと、カップ３内に流入する大気は下方へ向う作用を強く受けることで、隙間６４へ流入する量が増してしまうおそれが有る。つまり、上側排気路７０としては水平ないしは水平に近い角度で開口することが好ましい。また、上記したようにサブエッジ本体８６の周端部はミドルカップ６１の上面に近接するように構成することで、この上面との間に形成される連通孔３０についての圧力損失が比較的大きくすることが好ましい。サブエッジ本体８６は、既述したように径方向において屈曲する部位が設けられ、且つ中心軸Ｐ側の方が周縁側よりも水平面に対する傾きが小さくなるように構成されている。当構成により、上側排気路７０の傾きを比較的小さくし、且つミドルカップ６１に近接して隙間６４の圧力損失が比較的大きくされている。従って、当構成はウエハＷの周端部の周囲の気流の流速を抑えることに寄与する。

〔変形例〕
以下、カップ３の各種の変形例について、縦断側面図である図６～図９を参照して、これまでに述べたカップ３との差異点を中心に説明する。図６に示す例では、上記したサブエッジ本体８６とは異なる構成のサブエッジ本体８７を備えるカップ３を示している。サブエッジ本体８７は、縦断面視で円弧をなし、サブエッジ本体８６と同様に、カップ３の側壁３９側は中心軸Ｐ側に比べて下方に位置する。そしてその円弧について、サブエッジ本体８７の径方向における当該円弧の曲率は一定である。なお、上記したサブエッジ本体８６については既述したように屈曲されることによってその径方向における曲率は異なっており、当該径方向において曲率が大きい部位（屈曲部）に挟まれて曲率が小さい部位（直線部）が位置する構成となっている。

この図６のサブエッジ本体８７の構成でも、図１等で述べたサブエッジ本体８６と同様に、上側排気路７０の開口部の傾きを抑え、周端部をミドルカップ６１の上面に近接させて連通孔３０の圧力損失を比較的小さいものとすることができる。ただし、図１、図６の比較から明らかなように上側排気路７０の開口幅についてはサブエッジ本体８６を設けた方がより大きくすることができるため、上側排気路７０による大気の吸引量を大きくし、より確実にウエハＷの周端部の気流の流速を抑えることができる。従って、サブエッジ本体８６のように径方向における曲率が異なるように構成することが好ましい。

さらなるカップ３の変形例について図７、図８を参照して説明する。図７では、図５と同様に異なる線種の矢印で気流の流速の大きさの概略を示している。これらの図７、図８に示す例ではミドルカップ本体６３の構成について図１等で説明したものと異なり、径方向において屈曲部が形成されておらず、縦断面視で一直線状に構成されている。即ち、図７、図８のミドルカップ本体６３は、図１で述べた互いに傾きが異なる下部中心側傾斜部６３Ａ、下部周縁側傾斜部６３Ｂを備えていない。なお、図７、図８に示す各例について、ウエハＷとミドルカップ６１との間の隙間６４の大きさは、図１等で説明した例の隙間６４の大きさと同じになるように構成されている。これら図７、図８に示すミドルカップ本体６３の構成としてもよい。

ただし、図７に示す例ではミドルカップ本体６３の屈曲部が形成されていないことで、当該ミドルカップ本体６３の中心軸Ｐ側の傾きは、図１に示した構成例に対して急なものとされている。それ故に下側排気路６０の幅は、図１に示した構成例に比べて狭まり、当該下側排気路６０を大気が流れにくくなり、ウエハＷの面内の膜厚分布に影響するおそれが有る。

図８は、その下側排気路６０の幅の狭まりを防ぐために、図１等で説明した構成例に比べて、ミドルカップ本体６３の周縁側の傾きが、図１等に示した構成例に対して緩やかなものとなっている。しかし、そのように傾きが緩やかであるように構成した場合は、ウエハＷから飛散物回収路８０へと飛散してミドルカップ本体６３の上壁面に付着した処理液の液滴Ｒ１について、当該上壁面を伝わった流下がなされ難くなるので、飛散物回収路８０に処理液が溜ってしまうことが考えられる。その処理液の液溜りに、ウエハＷから飛散した処理液が衝突すると、ウエハＷに向けて処理液が撥ねて異物として付着してしまうおそれが有る。

従って、下側排気路６０における気流の滞留及び液撥ねによる異物の付着を抑制するために、ミドルカップ本体６３については図１に示したように、互いに異なる傾きを備えた下部中心側傾斜部６３Ａ、下部周縁側傾斜部６３Ｂを備えるようにすることが好ましい。なお、上記したようにミドルカップ本体６３は、ウエハＷの周端部に近接させて、ウエハＷの周端部における気流の変移を防止する役割を有する。従って、そのように下部中心側傾斜部６３Ａと、下部周縁側傾斜部６３Ｂとで傾きを異なるようにするにあたり、下部中心側傾斜部６３Ａの方が水平面に対する傾きが小さくなるようにする。

図９は、ミドルカップ本体のさらなる変形例を示している。この図９に示すミドルカップ本体６６は、既述したミドルカップ本体６３と同様、互いに傾きが異なる下部中心側傾斜部６３Ａと、下部周縁側傾斜部６３Ｂと、を備える。ただし下部中心側傾斜部６３Ａの内周縁側は、中心軸Ｐに向うにつれてスピンチャック１１に載置されるウエハＷの上面よりも上方の位置へと延び、当該上方の位置からさらに中心軸Ｐ側に向うにつれて下降するように形成されている。なお、ミドルカップ本体６６の内周端は、図１等で説明したミドルカップ本体６３の内周端と同様にウエハＷに近接することで隙間６４が形成されている。以上のようにミドルカップ本体６６の周端部が屈曲することで、当該ミドルカップ本体６６をなす下部中心側傾斜部６３Ａの上面は、傾斜面６７と、その中心軸Ｐ側に当該傾斜面６８に連続して形成される傾斜面６８と、を備える。そして、カップ３の中心軸Ｐ側に向うにつれて傾斜面６７は上り、傾斜面６８は下る。

ウエハＷから飛散した処理液の液滴やミストが傾斜面６８に衝突すると、その勢いで傾斜面６８を上って傾斜面６７上に移動し、傾斜面６７上をカップ３の周縁側に向けて流下したり、傾斜面６８上の気流に押し流されたりして除去される。つまり、ミドルカップ本体６６の内周端部に形成される傾斜面６８については、ウエハＷからの飛散物を飛散物回収路８０の下流側へガイドすることによって、ウエハＷの周囲からの除去を促進する役割を有する。そのように除去が促進されることで、飛散物がウエハＷへ異物として付着することが防止されるので、ウエハＷから製造される半導体製品の歩留りの低下を防止することができる。

ところでこれまでに述べた各例ではミドルカップ６１とインナーカップ５１とがなす下側排気路６０について、下流側に向う途中で膨らんだ構成とされている。さらに詳しくは、下側排気路６０は側面視で上流側に比べて下流側が拡幅されるように構成されている。そのように拡幅される構成により、下側排気路６０についての圧力損失は比較的小さい。
従ってウエハＷの周囲に気流が滞留することが防止され、ウエハＷの周端部にミストが異物として付着することがより確実に抑制される。

なお、下側排気路６０の圧力損失が小さすぎるとウエハＷの周端部付近を流れる気流の流速が大きくなるおそれが有るので、当該周端部付近で適切な流速が得られる範囲で下側排気路６０の圧力損失は小さいものされる。ミドルカップ６１、インナーカップ５１の各々が屈曲部を備えることで上記の膨らみが形成されて下側排気路６０が拡幅されているが、ミドルカップ６１、インナーカップ５１の一方のみに屈曲部が形成されることで下側排気路６０が膨らみ、上流側に対して下流側が拡幅される構成であってもよい。

〔第２実施形態〕
図１０は、第２実施形態であるカップ３Ａの縦断側面図を示している。第１実施形態であるカップ３との差異点としては、カップ３Ａではアッパーカップ７１の開口ガイド部７４の内周縁が、サブエッジリング８１の内周縁よりもカップ３の周縁側に位置している。従ってカップ３Ａでは、カップ３よりも開口部３１の径が大きい。このような構成により、カップ３Ａの上方からカップ３Ａ内へと向う大気の一部は、サブエッジリング８１の内周端部に衝突して下方へ向う勢いが低下した上で、上側排気路７０に引き込まれる。

従って、カップ３Ａではカップ３に比べて上側排気路７０に流入する大気がより多くなるように構成されている。カップ３Ａの排気流量が一定であるとして、上側排気路７０への流入する大気の量が多いほど、隙間６４即ちウエハＷの周端部に供給される大気の量は少なくなる。そのためカップ３Ａはカップ３に比べて、さらにウエハＷの周端部の流速を抑えることができ、それによって当該周端部のレジスト膜Ｒの膜厚について、他の部位のレジスト膜Ｒの膜厚に対する偏差をより確実に抑えることができる。なお、開口部３１の径が大きくなりすぎると、カップ３の外部へとミストが放出されてしまうおそれが有る。それが防止できるように、図１０の例では縦断面視での開口部３１をなす開口ガイド部７４の内周縁と、サブエッジリング８１の内周縁との水平方向における距離Ｌ１は、例えば１０ｍｍ以下である。

ところで、塗布膜形成装置で使用される処理液としてシンナー及びレジストを例示したが、これらの液を処理液として使用することには限られない。例えば、絶縁膜形成用の薬液、反射防止膜形成用の薬液などの各種の塗布膜形成用の処理液を用いることができる。また、塗布膜形成用の処理液を用いる装置に本技術を適用することには限られず、現像液や洗浄処理をウエハＷに供給して処理を行う装置や、複数のウエハＷを貼り合わせるための接着剤をウエハＷに供給する装置にも本技術を適用することができる。従って、液処理装置としては、塗布膜形成装置であることには限られない。

さらに、処理対象の基板としてはウエハＷであることに限られず、例えばフラットパネルディスプレイ製造用の基板であってもよい。従って角型の基板を処理してもよい。また、大気雰囲気に設けられず、不活性ガス雰囲気などの大気以外のガス雰囲気に設けられる液処理装置に本技術が適用されてもよい。

今回開示された実施形態は、全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の特許請求の範囲及びその趣旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更及び組み合わせがなされてもよい。

〔評価試験〕
続いて、レジスト膜形成装置１に関して行われた評価試験について説明する。評価試験１では互いに異なるカップを備えたレジスト膜形成装置１を用いて、ウエハＷにレジスト膜を形成した。そして、ウエハＷの直径に沿って互いに離れた位置の膜厚を測定した。このレジスト膜形成装置１は、カップとして、比較例のカップ、カップ３、カップ３Ａのいずれかを備える。

図１１、図１２のグラフはこの評価試験の結果を示しており、図１１に比較例のカップ、カップ３から得られた測定データを、図１２にカップ３、カップ３Ａから得られた測定データを夫々示している。各グラフの横軸はウエハＷの中心からの距離を示している。各グラフの縦軸は、膜厚を示しており、一定の間隔で目盛りを付しており、図１１、図１２間で１目盛り間の膜厚の大きさは同じである。また、図１１及び図１２で膜厚について特定の値を示す目盛りにα、β、γを付しているが、図１１、図１２間ではα、β、γの各値に違いは無い。

図１１に示される比較例のカップを用いて得たデータと、カップ３を用いて得たデータとを見ると、比較例のカップを用いた場合、カップ３を用いた場合のいずれも、ウエハＷの周端部以外の各部における膜厚に関しては大きなばらつき無い。そしてウエハＷの周端部の膜厚については、比較例のカップを用いた場合、カップ３を用いた場合のいずれも他の箇所における膜厚よりも大きいが、カップ３の方が周端部と、他の箇所との膜厚の偏差が抑えられている。

比較例のカップを用いて得たデータ、カップ３を用いて得たデータの各々について、最もウエハＷの周端寄りの第１測定位置から得られた膜厚と、その隣で第１測定位置に対して１０ｍｍ離れた第２測定位置から得られた膜厚との差分を算出した。なお、この差分について、以降は周端膜厚差と記載する。そして、カップ３のデータの周端膜厚差／比較例のカップのデータの周端膜厚差×１００（単位：％）を算出すると、４４.７％であった。このようにカップ３では比較例のカップに対して、ウエハＷの周端における膜厚の上昇が大きく抑制されていることが確認された。

続いて、図１２を参照してカップ３を用いて得たデータと、カップ３Ａを用いて得たデータとを見ると、カップ３を用いた場合、カップ３Ａを用いた場合のいずれも、ウエハＷの周端部以外の各部における膜厚に関しては大きなばらつき無い。そしてウエハＷの周端部の膜厚については、カップ３を用いた場合、カップ３Ａを用いた場合のいずれも他の箇所における膜厚よりも大きいが、カップ３Ａの方が周端部と、他の箇所との膜厚の偏差が抑えられている。カップ３Ａの周端膜厚差／カップ３の周端膜厚差×１００（単位：％）を算出すると４１.７％であった。このように、カップ３ＡではさらにウエハＷの周端における膜厚の上昇が抑制されていることが確認された。

Ｗ ウエハ
１１ スピンチャック
３ カップ
５１ インナーカップ
５５ 合流排気路
６０ 下側排気路
６１ ミドルカップ
６４ 隙間
７０ 上側排気路
７１ アッパーカップ
８０ 飛散物回収路
８１ サブエッジリング

Claims (13)

1. 載置部に載置されて処理液が供給される基板を囲むと共に、内部が排気されるカップにおいて、
   前記カップの中心軸側に向けて各々開口する環状路であると共に、互いに区画された第１排気路、前記基板からの飛散物を回収する飛散物回収路、第２排気路の各々を、前記カップ内における前記基板に対する当該カップの周縁側に、上方に向けて順に形成する流路形成部材と、
   前記第１排気路、前記飛散物回収路、前記第２排気路の各々が前記カップの周縁側に向けて一括して排気されるように当該各路に接続されると共に、当該カップ内における前記基板の下方に設けられる合流排気路と、
   前記流路形成部材に含まれ、上方、下方に夫々前記飛散物回収路、前記第１排気路を形成し、前記基板の外周に沿って形成された第１環状部と、
   前記第１環状部と前記基板とがなす隙間に比べて圧力損失が大きくなるように、前記飛散物回収路と前記合流排気路とを連通させるために前記流路形成部材に設けられる連通孔と、
   を備えるカップ。
2. 前記流路形成部材は、
   前記カップの側壁から前記第１環状部の上方を前記カップの中心軸に向けて延出され、当該カップの開口部を形成する上壁と、
   前記第１環状部と、
   前記第１環状部の上方に設けられ、前記第１環状部との間に前記飛散物回収路を、前記上壁との間に前記第２排気路を夫々形成する第２環状部と、
   を備える請求項１記載のカップ。
3. 前記上壁の内周端は、前記第２環状部の内周端よりも前記カップの周縁側に位置する請求項２記載のカップ。
4. 前記第１環状部は、前記カップの中心軸に向うにつれて上方へ向けて延伸され、
   水平面に対する前記第１環状部の傾きについて、前記カップの中心軸側は前記カップの周縁側よりも小さい請求項１ないし３のいずれか一つに記載のカップ。
5. 前記第１環状部の内周端部は前記基板の上方から、前記カップの中心軸に向うにつれて下方へ向けて延伸される請求項４記載のカップ。
6. 前記第１排気路は、側面視において下流側が上流側に比べて拡幅されている請求項１ないし３のいずれか一つに記載のカップ。
7. 前記基板を載置する載置部と、
   前記載置部に載置された前記基板を囲むと共に、内部が排気されるカップと、
   前記載置部に載置された前記基板に処理液を供給して処理する処理液供給機構と、
   載置部に載置されて処理液が供給される基板を囲むと共に、前記カップの中心軸側に向けて各々開口する環状路であると共に、互いに区画された第１排気路、前記基板からの飛散物を回収する飛散物回収路、第２排気路の各々を、前記カップ内における前記基板に対する当該カップの周縁側に、上方に向けて順に形成する流路形成部材と、
   前記第１排気路、前記飛散物回収路、前記第２排気路の各々が前記カップの周縁側に向けて一括して排気されるように当該各路に接続されると共に、当該カップ内における前記基板の下方に設けられる合流排気路と、
   前記流路形成部材に含まれ、上方、下方に夫々前記第１排気路、前記飛散物回収路を形成し、前記基板の外周に沿って形成された第１環状部と、
   前記第１環状部と前記基板とがなす隙間に比べて圧力損失が大きくなるように、前記飛散物回収路と前記合流排気路とを連通させるために前記流路形成部材に設けられる連通孔と、
   を備える液処理装置。
8. 前記流路形成部材は、
   前記カップの側壁から前記第１環状部の上方を前記カップの中心軸に向けて延出され、当該カップの開口部を形成する上壁と、
   前記第１環状部と、
   前記第１環状部の上方に設けられ、前記第１環状部との間に前記飛散物回収路を、前記上壁との間に前記第２排気路を夫々形成する第２環状部と、
   を備える請求項７記載の液処理装置。
9. 前記上壁の内周端は、前記第２環状部の内周端よりも前記カップの周縁側に位置する請求項８記載の液処理装置。
10. 前記第１環状部は、前記カップの中心軸に向うにつれて上方へ向けて延伸され、
    水平面に対する前記第１環状部の傾きについて、前記カップの中心軸側は前記カップの周縁側よりも小さい請求項７ないし９のいずれか一つに記載の液処理装置。
11. 前記第１環状部の内周端部は前記基板の上方から、前記カップの中心軸に向うにつれて下方へ向けて延伸される請求項１０記載の液処理装置。
12. 前記第１排気路は、側面視において下流側が上流側に比べて拡幅されている請求項７ないし９のいずれか一つに記載の液処理装置。
13. カップにより基板を囲んで処理する液処理方法において、
    前記カップの中心軸側に向けて各々開口する環状路であると共に、互いに区画された第１排気路、飛散物回収路、第２排気路の各々を、前記カップ内における前記基板に対する当該カップの周縁側に、上方に向けて順に形成する流路形成部材と、を備える前記カップ内における載置部に、前記基板を載置する工程と、
    前記カップ内にて前記基板の下方に設けられる合流排気路を排気し、前記合流排気路に各々接続される前記第１排気路、前記飛散物回収路及び前記第２排気路を、前記カップの周縁側に向けて一括して排気する一括排気工程と、
    前記一括排気工程に含まれ、上方、下方に夫々前記飛散物回収路、前記第１排気路を形成すると共に前記基板の外周に沿って形成されて前記流路形成部材に含まれる第１環状部と、当該基板と、がなす隙間に比べて圧力損失が大きくなるように前記飛散物回収路と前記合流排気路とを連通させるために前記流路形成部材に設けられる連通孔を介して前記飛散物回収路を排気する工程と、
    を備える液処理方法。

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