JP2024058334A - 積層造形装置 - Google Patents

Abstract

【課題】より安定的に動作することが可能な積層造形装置を提供する。【解決手段】積層造形装置は、基板に向かってワイヤを供給するワイヤ供給部と、ワイヤからアークを発生させることでワイヤを溶融させるとともに、溶接方向に移動することで基板上にビードを形成する主加熱部と、溶接方向の前方側に設けられて、ビードの先端側で基板の法線方向に対して傾斜角を持って入射するレーザを生成するレーザ照射部と、を備える。【選択図】図１

Description

本開示は、積層造形装置に関する。

積層造形装置の一種として、指向性エネルギー堆積方式（ＤＥＤ方式：Ｄｉｒｅｃｔ Ｅｎｅｒｇｙ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ方式）と呼ばれる技術を用いたものが実用化されている。この方式の積層造形装置では、ワイヤを基板に供給しつつ、当該ワイヤをレーザ等の熱源によって溶融・凝固させることで、所定の経路形状を有するビードが形成される。このビードを複数回重ねて形成することによって、所望の形状の製品を得ることができる。

上記のような装置の具体例として、下記特許文献１に記載されたものが知られている。下記特許文献１に係る装置では、ワイヤを溶融させるに当たって、基板の法線方向からレーザを照射するように構成されている。つまり、レーザの光軸が基板の法線方向と一致している。

特開２０２２－７８８０４号公報

しかしながら、上記のようにレーザが基板の法線方向から照射される場合、基板上で生じたレーザの反射光が、そのままレーザ照射源に入射してしまう。その結果、装置の損壊や動作不良を招く虞があった。

本開示は上記課題を解決するためになされたものであって、より安定的に動作することが可能な積層造形装置を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本開示に係る積層造形装置は、基板に向かってワイヤを供給するワイヤ供給部と、前記ワイヤからアークを発生させることで該ワイヤを溶融させるとともに、溶接方向に移動することで前記基板上にビードを形成する主加熱部と、前記溶接方向の前方側に設けられて、前記ビードの先端側で前記基板の法線方向に対して傾斜角を持って入射するレーザを生成するレーザ照射部と、を備える。

本開示に係る積層造形装置は、基板に向かってワイヤを供給するワイヤ供給部と、前記ワイヤからアークを発生させることで該ワイヤを溶融させるとともに、溶接方向に移動することで前記基板上にビードを形成する主加熱部と、前記ワイヤを挟んで前記溶接方向の前方側、及び後方側の少なくとも一方にレーザを照射するレーザ照射部と、前記ワイヤ供給部、前記主加熱部、及び前記レーザ照射部を収容するノズルと、該ノズルの先端に設けられた冷却部と、を備える。

本開示に係る積層造形装置は、基板に向かってワイヤを供給するワイヤ供給部と、前記ワイヤからアークを発生させることで該ワイヤを溶融させるとともに、溶接方向に移動することで前記基板上にビードを形成する主加熱部と、前記ワイヤを挟んで前記溶接方向の前方側と後方側にそれぞれレーザを照射するレーザ照射部と、を備え、前記レーザ照射部は、単一の前記レーザを生成する発振部と、前記単一のレーザを２つの成分に分光するとともに、一部の成分を透過させることで前記前方側のレーザを生成する分光部と、該分光部で分光された前記レーザを反射させて前記後方側のレーザを生成するミラー部と、該分光部、及び前記ミラー部の位置、及び姿勢の少なくとも一方を変動可能に支持する変動支持部と、を有する。

本開示によれば、より安定的に動作することが可能な積層造形装置を提供することができる。

本開示の第一実施形態に係る積層造形装置の構成を示す側面図である。 本開示の第一実施形態に係る積層造形装置の変形例を示す側面図である。 本開示の第二実施形態に係る積層造形装置の構成を示す断面図である。 本開示の第二実施形態に係る冷却部の構成を示す図である。 本開示の第三実施形態に係る積層造形装置の構成を示す模式断面図である。

＜第一実施形態＞
（積層造形装置の構成）
以下、本開示の第一実施形態に係る積層造形装置１について、図１を参照して説明する。この積層造形装置１は、いわゆるＤＥＤ方式（Ｄｉｒｅｃｔ Ｅｎｅｒｇｙ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ方式）と呼ばれる造形装置である。この方式の造形装置では、まずワイヤを所定の経路に沿って溶融・凝固させることでビードを形成する。このようなビードを複数回積層することで、所定の三次元形状を有する製品を得ることができる。

図１に示すように、積層造形装置１は、ワイヤ供給部１０と、主加熱部２０と、レーザ照射部３０と、接続部材４０と、を備える。ワイヤ供給部１０と主加熱部２０は一体に連結された状態でケーシングに収容されている。ワイヤ供給部１０は、基板９０に向かって金属製のワイヤ１１を供給する。詳しくは図示しないが、ワイヤ１１はリールに巻き付けられた状態で装置の近傍に装填されている。ワイヤ供給部１０は、このワイヤ１１を基板９０の表面に向かって順次送り出す。ワイヤ供給部１０がワイヤ１１を送り出す方向は、基板９０の法線方向でもよいし、法線方向に対して斜めの方向であってもよい。

（主加熱部の構成）
主加熱部２０は、ワイヤ供給部１０が送り出したワイヤ１１からアーク２１を発生させる。具体的には、主加熱部２０は、基板９０上で放電現象を生じさせることによってアーク２１を発生させる。このアーク２１の熱によってワイヤ１１は溶融する。主加熱部２０は、溶融したワイヤ１１を所定の経路に沿って移動させる。溶融後に当該経路形状に沿って凝固したワイヤ１１がビード５０を形成する。なお、ここでは、ビード５０が形成される方向を単に「溶接方向」と呼ぶ。なお、主加熱部２０として、アーク２１電源の他、ＣＭＴ電源を用いることも可能である。この場合でも、基板９０上にアーク２１が形成される。

（レーザ照射部の構成）
レーザ照射部３０は、接続部材４０によってワイヤ供給部１０に接続されている。レーザ照射部３０は、ビード５０の先端側に向かってレーザＬを照射する。レーザ照射部３０は、溶接方向の前方側に設けられている。このレーザＬは、基板９０を予熱する機能に加えて、レーザＬによって生じた金属蒸気によってプラズマを発生させて、上述のアーク２１を溶接方向の前方側に引き寄せる機能を有する。また、レーザ照射部３０によるレーザＬの照射方向は、基板９０の法線方向に対して傾斜角θを有している。つまり、レーザＬは、基板９０に対して垂直ではなく、傾きをともなった方向から当該基板９０に対して照射される。なお、ここで言うレーザＬの照射方向とは、レーザＬの光軸（中心軸）が延びる方向を指すものである。傾斜角θは、５°以上４５°以下に設定されることが望ましい。さらに望ましくは、傾斜角θは、５°以上３０°以下である。最も望ましくは、傾斜角θは、５°以上１５°以下に設定される。

（作用効果）
次に、上記の積層造形装置１の動作の一例について説明する。積層造形装置１を使用するに当たっては、まず主加熱部２０によって基板９０上にアーク２１を発生させつつ、レーザ照射部３０によってアーク２１の近傍にレーザＬを照射する。この状態で、予め定められた経路に沿って装置を移動させつつ、ワイヤ供給部１０によるワイヤ１１の供給を行う。これにより、上記経路形状に従ってワイヤ１１が溶融・凝固して、ビード５０が形成される。このようなビード５０を高さ方向（つまり、基板９０の法線方向）に複数回繰り返して積層することで、ビード５０が高さ方向に連続して、所定の三次元形状を得ることができる。

ここで、従来は、レーザＬを照射するに当たって、基板９０に対して垂直に照射することが一般的であった。つまり、レーザＬの光軸が基板９０の法線方向と一致していることが通例であった。しかしながら、上記のようにレーザＬが基板９０の法線方向から照射される場合、基板９０上で生じたレーザＬの反射光が、そのままレーザＬ照射源（レーザ照射部３０）に入射してしまう。その結果、装置の損壊や動作不良を招く虞があった。そこで、本実施形態では上述の各構成を採っている。

上記構成によれば、レーザ照射部３０によって生成されるレーザＬが、ビード５０の先端側で基板９０の法線方向に対して傾斜角を持って入射する。これにより、レーザＬの反射方向は、当該傾斜角の分だけ、レーザ照射部３０から遠ざかる方向となる。したがって、基板９０表面で生じたレーザＬの反射光がレーザ照射部３０に直接入射してしまう可能性を低減することができる。その結果、高出力のレーザＬの反射光によるレーザ照射部３０自体の損耗や動作不良が抑制される。これにより、積層造形装置１を長期にわたって、より安定的に運用し続けることが可能となる。また、レーザ照射部３０の動作不良による造形不良を回避することができる。したがって、製品の歩留まりを向上させることもできる。

さらに、上述したように、レーザ照射部３０がレーザＬを照射することによって、基板９０上でレーザＬによって生じた金属蒸気に起因するプラズマが発生する。このプラズマによって、上述のアーク２１をレーザＬに近接する側、つまり、溶接方向の前方側に引き寄せることができる。ここで、高速で造形を行う場合、装置の高速移動に伴う慣性力によってアーク２１は溶接方向の後方側に偏ってしまう傾向があることが知られている。上記の構成によれば、レーザＬによってアーク２１が溶接方向の前方側に引き寄せられることから、慣性力によるアーク２１の「遅れ」が是正され、さらに高速度で装置を移動させて造形作業を進めることが可能となる。

加えて、レーザ照射部３０によるレーザＬの照射を行うことで、基板９０、及びワイヤ１１が十分に予熱される。したがって、主加熱部２０の出力を小さく抑えることが可能となる。主加熱部２０の出力を抑えることによって、溶融・凝固した後のビード５０に不用意な入熱が生じる可能性が低減される。その結果、ビード５０の形状がさらに安定化して、より精緻な形状の製品を得ることが可能となる。

以上、本開示の第一実施形態について説明した。なお、本開示の要旨を逸脱しない限りにおいて、上記の構成に種々の変更や改修を施すことが可能である。例えば、図２に変形例として示すように、ワイヤ供給部１０、及び主加熱部２０に、冷却部６０を設けることも可能である。冷却部６０は、液体冷媒や気体冷媒を循環させることで、ワイヤ供給部１０、及び主加熱部２０の熱を除去する。この構成によれば、基板９０上で反射したレーザＬがワイヤ供給部１０、又は主加熱部２０に当たった場合であっても、冷却部６０によってこれら装置が冷却される。これにより、レーザＬの熱によって装置が加熱されてしまう可能性を低減することができる。したがって、各装置の動作不良や損壊が生じる可能性をさらに低減することが可能となる。

＜第二実施形態＞
次に、本開示の第二実施形態について、図３と図４を参照して説明する。なお、上記第一実施形態と同様の構成については同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。図３に示すように、本実施形態に係る積層造形装置１０１は、ワイヤ供給部１０と、主加熱部２０と、レーザ照射部１３０と、ノズル７０と、冷却部６０と、を備える。

ワイヤ供給部１０は、第一実施形態と同様に、基板９０上にワイヤ１１を供給する。主加熱部２０は、当該ワイヤ１１からアーク２１を発生させる。レーザ照射部１３０は、ワイヤ１１を挟んで溶接方向の前方側、及び後方側にそれぞれ前方側レーザＬ１と、後方側レーザＬ２とを照射する。これら前方側レーザＬ１、及び後方側レーザＬ２の照射方向は、基板９０の法線方向に対してわずかに傾斜している。なお、レーザ照射部１３０は、ワイヤ１１を挟んで溶接方向の前方側、及び後方側の少なくとも一方にレーザを照射する構成であればよく、前方側レーザＬ１のみを照射する構成や、後方側レーザＬ２のみを照射する構成であってもよい。ワイヤ供給部１０、主加熱部２０、及びレーザ照射部１３０は、軸線Ｏ上で同軸に配置された状態で、ノズル７０の内部に収容されている。

ノズル７０は、本体部７１と、先端部７２と、を有している。本体部７１は軸線Ｏを中心とする円筒状をなしている。先端部７２は、軸線Ｏを中心とする円錐状をなしている。このノズル７０の先端部７２と本体部７１との境界には、冷却部６０が設けられている。冷却部６０は、液体冷媒、又は気体冷媒によってノズル７０を外周側から冷却する。冷却部６０は、流路部６１と、供給部６２と、排出部６３と、を有する。図４に示すように、流路部６１は、ノズル７０を軸線Ｏに対する外周側から囲む円環状をなしている。流路部６１の内部には、冷媒が流通するための空間が形成されている。供給部６２は、外部に貯留された冷媒を流路部６１に導くために設けられている。排出部６３は、流路部６１内で冷却に供された後の高温の冷媒を外部に排出するために設けられている。

（作用効果）
本実施形態に係る積層造形装置１０１では、前方側レーザＬ１と、後方側レーザＬ２の照射方向が基板９０の法線方向に対してわずかに傾斜している。他方で、ノズル７０の寸法体格によっては、これら前方側レーザＬ１と、後方側レーザＬ２の反射光が当該ノズル７０に当たってしまう可能性がある。そこで、反射光の熱によるノズル７０内部の機器の損壊や動作不良を防ぐために、ノズル７０の外周に冷却部６０が設けられている。供給部６２から流路部６１に導かれた冷媒は、流路部６１内を軸線Ｏに対する周方向の一方側から他方側に向かって順次流れる。その中途で、ノズル７０に滞留した熱を奪い去る。これにより、ノズル７０が冷却される。冷却に供されて高温となった冷媒は、排出部６３を通じて外部に排出される。

以上、説明したように、上記構成によれば、レーザ照射部３０から照射されたレーザＬの反射光がノズル７０に当たった場合であっても、冷却部６０によって当該ノズル７０が冷却される。これにより、ノズル７０や、ノズル７０内に収容されたワイヤ供給部１０、主加熱部２０、及びレーザ照射部３０がレーザＬの熱によって損耗してしまう可能性を低減することができる。

さらに、上記構成によれば、冷却部６０がノズル７０を外周側から囲う環状をなしていることから、当該ノズル７０を周方向の全域から万遍なく冷却することができる。これにより、さらに安定的に積層造形装置１０１を動作させることが可能となる。

以上、本開示の第二実施形態について説明した。なお、本開示の要旨を逸脱しない限りにおいて、上記の構成に種々の変更や改修を施すことが可能である。例えば、上記第二実施形態では、１つのみの流路部６１が配置されている例について説明した。しかしながら、軸線Ｏ方向に間隔をあけて、又は当接させるようにして、複数の冷却部６０を配置する構成を採ることも可能である。この構成によれば、ノズル７０、及びノズル７０内の機器をさらに効果的に熱から保護することが可能となる。また、流路部６１が設けられる位置は、ノズル７０の先端部７２でもよいし、本体部７１でもよい。

＜第三実施形態＞
続いて、本開示の第三実施形態について、図５を参照して説明する。なお、上記の各実施形態と同様の構成については同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。図５に示すように、本実施形態に係る積層造形装置２０１では、レーザ照射部２３０の構成が上記第二実施形態とは異なっている。なお、図５では、光学的な特徴のみを主として取り扱うために、ノズル７０等の図示を省略している。

具体的には、レーザ照射部２３０は、発振部２３１と、分光部２３２と、ミラー部２３３と、レンズ群２３４と、変動支持部２３５と、を有している。発振部２３１は、単一のレーザＬを生成する。発振部２３１が生成したレーザＬの光路上には、分光部２３２が配置されている。分光部２３２は、入射したレーザＬの一部の成分を透過させて同一方向に進ませるとともに、残余の成分を反射させて９０°方向にレーザＬを進行させる。分光部２３２を透過したレーザＬの光路上には、レンズ群２３４が配置されている。このレンズ群２３４を経ることで、光路の方向が変化して、ワイヤ１１に近接する方向にレーザＬが進む。このレーザＬが、上記第二実施形態で説明した前方側レーザＬ１となる。

他方で、分光部２３２で反射したレーザＬの光路上には、ミラー部２３３が配置されている。ミラー部２３３は、レーザＬをさらに反射させて、レンズ群２３４に向かわせる。レンズ群２３４を経ることで、光路の方向が変化して、ワイヤ１１に近接する方向にレーザＬが進む。このレーザＬが、上記第二実施形態で説明した後方側レーザＬ２となる。なお、第二実施形態で説明したように、前方側レーザＬ１、及び後方側レーザＬ２は、それらの少なくとも一方が照射されていればよい。つまり、レンズ群２３４の位置や姿勢を変化させることによって、前方側レーザＬ１のみが照射されてもよいし、後方側レーザＬ２のみが照射されてもよい。

レンズ群２３４は、複数の凸レンズ又は凹レンズの群であり、レンズの枚数や形状は設計と仕様に応じて適宜決定されてよい。また、これらレンズ群２３４は、中央部で２分割されており、間隙が形成されている。この間隙には、ワイヤ１１が挿通される。なお、レンズ群２３４の中心部に孔を形成することでワイヤ１１を挿通させる構成を採ることも可能である。

変動支持部２３５は、上述の分光部２３２、及びミラー部２３３を支持している。変動支持部２３５は、分光部２３２の位置を上述の溶接方向の前後に変化させることが可能である。また、変動支持部２３５は、ミラー部２３３の位置を溶接方向の前後に変化させるとともに、その姿勢（つまり、レーザＬの反射される方向）を変化させることが可能である。変動支持部２３５は、不図示のつまみを適宜回転させることによって、分光部２３２、及びミラー部２３３の位置・姿勢の調整を可能としている。

（作用効果）
上記構成によれば、変動支持部２３５によって分光部２３２、及びミラー部２３３の位置、及び姿勢の少なくとも一方を変動させることができる。これにより、溶接方向における前方側のレーザＬ、又は後方側のレーザＬの入射角やビーム径を自在に変化させることができる。その結果、例えば基板９０上でレーザＬが不用意な角度に反射しないように、当該レーザＬの性状を最適化することができる。これにより、積層造形装置１をより安定的に動作させることが可能となる。

より具体的には、変動支持部２３５によって分光部２３２の位置を変化させることによって、分光部２３２を透過する成分と、分光部２３２によって反射されてミラー部２３３に向かう成分との比率を変えることができる。つまり、前方側レーザＬ１と後方側レーザＬ２の出力の比率を調節することができる。したがって、例えば、上記第一実施形態で説明したように、前方側レーザＬ１を増加させれば、アーク２１を当該前方側レーザＬ１に引き寄せることができる。

他方で、後方側レーザＬ２を増加させれば、溶融・凝固した後のビード５０に対して再度の入熱を行うことで、ビード５０の表面を平滑化することができる。さらに、ミラー部２３３の姿勢を変化させることで、後方側レーザＬ２の基板９０に対する入射角度を変化させることができる。言い換えれば、後方側レーザＬ２の焦点位置が変わるため、見かけ上、ビーム径が変化する。これにより、ビード５０の幅をコントロールすることが可能となる。このように、作業の性質や目的に応じて、前方側レーザＬ１と後方側レーザＬ２の性情を適宜調節することが可能である。これにより、造形作業をより精緻かつ円滑に進めることが可能となる。

以上、本開示の第三実施形態について説明した。なお、本開示の要旨を逸脱しない限りにおいて、上記の構成に種々の変更や改修を施すことが可能である。例えば、第三実施形態では、第二実施形態で説明した冷却部６０を組み合わせて適用することが可能である。

＜付記＞
各実施形態に記載の積層造形装置１は、例えば以下のように把握される。

（１）第１の態様に係る積層造形装置１は、基板９０に向かってワイヤ１１を供給するワイヤ供給部１０と、前記ワイヤ１１からアーク２１を発生させることで該ワイヤ１１を溶融させるとともに、溶接方向に移動することで前記基板９０上にビード５０を形成する主加熱部２０と、前記溶接方向の前方側に設けられて、前記ビード５０の先端側で前記基板９０の法線方向に対して傾斜角を持って入射するレーザＬを生成するレーザ照射部３０と、を備える。

上記構成によれば、レーザ照射部３０によって生成されるレーザＬが、ビード５０の先端側で基板９０の法線方向に対して傾斜角を持って入射する。これにより、基板９０表面で生じたレーザＬの反射光がレーザ照射部３０に直接入射してしまう可能性を低減することができる。その結果、積層造形装置１をより安定的に運用し続けることが可能となる。

（２）第２の態様に係る積層造形装置１は、（１）の積層造形装置１であって、前記ワイヤ供給部１０、及び前記主加熱部２０を冷却する冷却部６０をさらに備える。

上記構成によれば、基板９０上で反射したレーザＬがワイヤ供給部１０、又は主加熱部２０に当たった場合であっても、冷却部６０によってこれら装置が冷却される。これにより、レーザＬによってこれら装置が加熱されてしまう可能性を低減することができる。

（３）第３の態様に係る積層造形装置１は、基板９０に向かってワイヤ１１を供給するワイヤ供給部１０と、前記ワイヤ１１からアーク２１を発生させることで該ワイヤ１１を溶融させるとともに、溶接方向に移動することで前記基板９０上にビード５０を形成する主加熱部２０と、前記ワイヤ１１を挟んで前記溶接方向の前方側、及び後方側の少なくとも一方にレーザＬを照射するレーザ照射部３０と、前記ワイヤ供給部１０、前記主加熱部２０、及び前記レーザ照射部３０を収容するノズル７０と、該ノズル７０の先端に設けられた冷却部６０と、を備える。

上記構成によれば、レーザ照射部３０から照射されたレーザＬの反射光がノズル７０に当たった場合であっても、冷却部６０によって当該ノズル７０が冷却される。これにより、ノズル７０や、ノズル７０内に収容されたワイヤ供給部１０、主加熱部２０、及びレーザ照射部３０がレーザＬの熱によって損耗してしまう可能性を低減することができる。

（４）第４の態様に係る積層造形装置１は、（３）の積層造形装置１であって、前記ノズル７０の先端部７２は、軸線Ｏを中心とする円錐状をなし、前記冷却部６０は、前記ノズル７０を前記軸線Ｏに対する外周側から囲う環状をなしている。

上記構成によれば、冷却部６０がノズル７０を外周側から囲う環状をなしていることから、当該ノズル７０を周方向の全域から万遍なく冷却することができる。これにより、さらに安定的に積層造形装置１を動作させることが可能となる。

（５）第５の態様に係る積層造形装置１は、基板９０に向かってワイヤ１１を供給するワイヤ供給部１０と、前記ワイヤ１１からアーク２１を発生させることで該ワイヤ１１を溶融させるとともに、溶接方向に移動することで前記基板９０上にビード５０を形成する主加熱部２０と、前記ワイヤ１１を挟んで前記溶接方向の前方側と後方側にそれぞれレーザＬを照射するレーザ照射部３０と、を備え、前記レーザ照射部３０は、単一の前記レーザＬを生成する発振部２３１と、前記単一のレーザＬを２つの成分に分光するとともに、一部の成分を透過させることで前記前方側のレーザＬを生成する分光部２３２と、該分光部２３２で分光された前記レーザＬを反射させて前記後方側のレーザＬを生成するミラー部２３３と、該分光部２３２、及び前記ミラー部２３３の位置、及び姿勢の少なくとも一方を変動可能に支持する変動支持部２３５と、を有する。

上記構成によれば、変動支持部２３５によって分光部２３２、及びミラー部２３３の位置、及び姿勢の少なくとも一方を変動させることができる。これにより、溶接方向における前方側のレーザＬ、又は後方側のレーザＬの入射角やビーム径を自在に変化させることができる。その結果、例えば基板９０上でレーザＬが不用意な角度に反射しないように、当該レーザＬの性状を最適化することができる。これにより、積層造形装置１をより安定的に動作させることが可能となる。

１…積層造形装置
１０…ワイヤ供給部
１１…ワイヤ
２０…主加熱部
２１…アーク
３０…レーザ照射部
４０…接続部材
５０…ビード
６０…冷却部
６１…流路部
６２…供給部
６３…排出部
７０…ノズル
７１…本体部
７２…先端部
９０…基板
１０１…積層造形装置
１３０…レーザ照射部
２０１…積層造形装置
２３０…レーザ照射部
２３１…発振部
２３２…分光部
２３３…ミラー部
２３４…レンズ群
２３５…変動支持部
Ｌ…レーザ
Ｌ１…前方側レーザ
Ｌ２…後方側レーザ
Ｏ…軸線

Claims (5)

1. 基板に向かってワイヤを供給するワイヤ供給部と、
   前記ワイヤからアークを発生させることで該ワイヤを溶融させるとともに、溶接方向に移動することで前記基板上にビードを形成する主加熱部と、
   前記溶接方向の前方側に設けられて、前記ビードの先端側で前記基板の法線方向に対して傾斜角を持って入射するレーザを生成するレーザ照射部と、
   を備える積層造形装置。
2. 前記ワイヤ供給部、及び前記主加熱部を冷却する冷却部をさらに備える請求項１に記載の積層造形装置。
3. 基板に向かってワイヤを供給するワイヤ供給部と、
   前記ワイヤからアークを発生させることで該ワイヤを溶融させるとともに、溶接方向に移動することで前記基板上にビードを形成する主加熱部と、前記ワイヤを挟んで前記溶接方向の前方側、及び後方側の少なくとも一方にレーザを照射するレーザ照射部と、
   前記ワイヤ供給部、前記主加熱部、及び前記レーザ照射部を収容するノズルと、
   該ノズルの先端に設けられた冷却部と、を備える積層造形装置。
4. 前記ノズルの先端部は、軸線を中心とする円錐状をなし、前記冷却部は、前記ノズルを前記軸線に対する外周側から囲う環状をなしている請求項３に記載の積層造形装置。
5. 基板に向かってワイヤを供給するワイヤ供給部と、
   前記ワイヤからアークを発生させることで該ワイヤを溶融させるとともに、溶接方向に移動することで前記基板上にビードを形成する主加熱部と、
   前記ワイヤを挟んで前記溶接方向の前方側と後方側にそれぞれレーザを照射するレーザ照射部と、
   を備え、
   前記レーザ照射部は、
   単一の前記レーザを生成する発振部と、
   前記単一のレーザを２つの成分に分光するとともに、一部の成分を透過させることで前記前方側のレーザを生成する分光部と、
   該分光部で分光された前記レーザを反射させて前記後方側のレーザを生成するミラー部と、
   該分光部、及び前記ミラー部の位置、及び姿勢の少なくとも一方を変動可能に支持する変動支持部と、
   を有する積層造形装置。

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